カーボンヒーターの製品一覧
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省エネ、省スペース、CO2削減に貢献！一般的な断熱材に比べ薄く軽い素材で、1200℃迄の対熱性・耐火性。国内一貫生産の高品質。
- エネルギー有効利用システム
- 遮熱フィルム
- 複合材料
高性能断熱材マイクロサーム MPS 製品カタログ 発行のお知らせ
平素より弊社製品をご愛顧いただきまして、誠にありがとうございます。 この度、『高性能断熱材マイクロサーム MPS』国内製造品の製品カタログを新たに追加致しました。 下記リンクよりカタログをダウンロードして頂けます。
【導入事例】高機能樹脂原料加熱用キルン炉
★ニーズ ＊高精度温度制御による品質の均一化 ＊大量生産に適した大型の加熱炉 ＊2段階の温度帯による加熱処理 ＊各温度帯での加熱処理時間のコントロール ★当社独自技術 ＊独自のスクリュー羽根による試料の均一な攪拌と加熱 ＊メンテナンスが容易な構造の炉 【導入結果】 ＊各温度帯での試料に対する均一な温度履歴（加熱処理）の実現 ＊大型径（直径1300）の炉による大量生産（98Kg/時間）の実現 詳しくはhttp://www.shimakawa.co.jp/rotary-kiln.html でもご覧になれます。
カタログ ＜ SEMICON J ご来場への御礼！＞
昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。
フレキシブル/ストレッチャブルな基材に対応した伸縮可能な配線 インモールドエレクトロニクス（IME）向け加熱成型対応配線
- 複合材料
- その他電子部品
最高2,000℃まで迅速に昇温・降温が可能な小型の高温炉や、緻密な温度制御でムラなく加熱できる実験用ヒーターの導入事例をご紹介！
- 焼却炉・焼却装置
「いざ！という時に動く発電機」の為の負荷試験を実施します！発電電圧異常の発見に貢献します！
- 試験機器・装置
- その他の各種サービス
- 公共試験/研究所
従来製品の２倍以上の赤外線を放射するヒーターで乾燥の効率化を実現！測定誤差を解消する予備加熱モード搭載の赤外線水分計
- 食品試験/分析/測定機器
- その他計測・記録・測定器
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
【MiniLab-125】 多元マルチスパッタ装置（Φ8"対応）1000℃ヒーターステージ(SiCコーティング ）搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ8inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF500W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
nanoPVD-S10Aスパッタ装置 標準規格品登場！従来よりお求めやすい価格・短納期でご提供可能になりました。
標準 在庫規格品、従来よりお求めやすい低価格・短納期でのご提供が可能になりました。 *下記構成に限ります。又、在庫状況も変わりますので詳細は当社までお問い合わせください。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W 電源搭載 ● プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
水銀不使用！通信、信号、電源を一体型でご提案。今すぐ当社へお問い合わせ下さい！
- スリップリング
- EMC対策製品
- その他電子部品
水銀不使用！メンテナンスフリー！通信、信号、電源を一体型でご提案できます。今すぐ当社へお問い合わせ下さい！
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