カーボンヒーターの製品一覧
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【簡単・ローコスト】リアルタイムに監視＋判定＋制御で現場を最適化！（アナログ・デジタル入力対応）
- データロガー
溶剤の凍結防止などに！光熱費が安く耐久性が高い完全防水、防水発熱ボード！自己温度抑制ヒーターで安心安全【カタログ進呈中】
- 防振・耐震・免振装置
- ゴム
- 加工受託
本装置は、流路を有する単セル試験機としては世界最小クラスの電極面積（2cm2）を有し、種々の工夫がなされています。
- その他計測・記録・測定器
【導入事例】高機能樹脂原料加熱用キルン炉
★ニーズ ＊高精度温度制御による品質の均一化 ＊大量生産に適した大型の加熱炉 ＊2段階の温度帯による加熱処理 ＊各温度帯での加熱処理時間のコントロール ★当社独自技術 ＊独自のスクリュー羽根による試料の均一な攪拌と加熱 ＊メンテナンスが容易な構造の炉 【導入結果】 ＊各温度帯での試料に対する均一な温度履歴（加熱処理）の実現 ＊大型径（直径1300）の炉による大量生産（98Kg/時間）の実現 詳しくはhttp://www.shimakawa.co.jp/rotary-kiln.html でもご覧になれます。
水銀不使用！メンテナンスフリー！通信、信号、電源を一体型でご提案できます。今すぐ当社へお問い合わせ下さい！
- その他電子部品
- スリップリング
- EMC対策製品
水銀不使用！通信、信号、電源を一体型でご提案。今すぐ当社へお問い合わせ下さい！
- スリップリング
- EMC対策製品
- その他電子部品
カタログ ＜ SEMICON J ご来場への御礼！＞
昨年末 SEMICON J 2022での当社ブースへ、多くのお客様にお越しいただき、誠にありがとうございました。 「 Partner@yourFab 」 をコンセプトに、幅広いソリューションをご紹介しました。皆様のご支援のもと、盛況のまま無事終えることができました。厚く御礼を申し上げます。 開催中に配布いたしました製品カタログを、データとしてご用意しました。ご活用いただけましたら幸いです。
フレキシブル/ストレッチャブルな基材に対応した伸縮可能な配線 インモールドエレクトロニクス（IME）向け加熱成型対応配線
- 複合材料
- その他電子部品
最高2,000℃まで迅速に昇温・降温が可能な小型の高温炉や、緻密な温度制御でムラなく加熱できる実験用ヒーターの導入事例をご紹介！
- 焼却炉・焼却装置
「いざ！という時に動く発電機」の為の負荷試験を実施します！発電電圧異常の発見に貢献します！
- 試験機器・装置
- その他の各種サービス
- 公共試験/研究所
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
従来製品の２倍以上の赤外線を放射するヒーターで乾燥の効率化を実現！「自動停止モード」「時間停止モード」の２種類の測定モード完備。
- 食品試験/分析/測定機器
- 分析機器・装置
- 試験機器・装置
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
各テナントに設置されているの屋外用暖房機を山梨県森林由来のフジガス・カーボンニュートラルLPガスへ切り替えオフセットされた事例
- その他の各種サービス
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
高耐熱・低熱膨張のカーボン特性を活かした熱処理用グラファイト製部品！【ご要望に合わせた素材や加工をご提案！】
- 加熱装置
