エッチング液のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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エッチング液 - 企業7社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年04月02日~2025年04月29日
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企業ランキング

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  1. 林純薬工業株式会社 大阪府/化学 電子材料部
  2. 関東化学株式会社 東京都/化学 電子材料事業本部
  3. 株式会社ADEKA 東京都/化学
  4. 4 株式会社三若純薬研究所 愛知県/化学
  5. 5 株式会社アントンパール・ジャパン 東京都/試験・分析・測定

製品ランキング

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  1. アルミエッチング液『混酸Alエッチング液』 関東化学株式会社 電子材料事業本部
  2. 金エッチング液『AURUMシリーズ』 関東化学株式会社 電子材料事業本部
  3. Ti系、Cr系コーティング膜選択エッチング液 チタピールシリーズ 株式会社ADEKA
  4. 4 水晶エッチング液「Pure Etch ZE series」 林純薬工業株式会社 電子材料部
  5. 5 Crエッチング液「Pure Etch CR series」 林純薬工業株式会社 電子材料部

製品一覧

31~45 件を表示 / 全 45 件

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エッチング液 H-20L

主成分:塩化第二鉄水溶液

自作基板のエッチングを簡単に行えるエッチング液

  • そのほか消耗品

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中性フラッシュエッチング液 “OPCシードエッチャントNE”

微細回路基板対応、銅スパッタ膜用フラッシュエッチング液 “OPCシードエッチャントNE”

情報通信機器の小型化、高性能化、高機能化にともない、半導体デバイスには高速な動作が要求されるようになりました。半導体パッケージ基板とプリント基板の配線の実装については、さらなる微細化と層間密着性の向上のために、スパッタリングによって銅のシード層を形成し、その後電気めっきする方法が一般的になっています。 当社は、銅スパッタ膜に対応し、銅スパッタ膜を優先的にエッチングするフラッシュエッチング液を新たに開発しました。 高速通信に対応するために銅膜の伝送損失を低減させる技術が求められています。 その要求に応えるために、当社は平面平滑性に優れる銅スパッタ膜に最適な微細回路基板対応、 銅スパッタ膜用フラッシュエッチング液を新たに開発しました。

  • 化学薬品

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GaP粗面化エッチング液

GaP膜の表面およびGaP基板の表面、斜面、側面を良好に粗面化エッチングし、光取り出し効率を向上させることができます。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 所望の凹凸を形成し、光取り出し効率を向上させることが可能です。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ 凹凸形状の面内均一性が良好です。 キーワード:フロスト処理、凹凸、LED、発光ダイオード、リン化ガリウム、ガリウムリン

  • 化学薬品

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AlGaAs・GaAs粗面化エッチング液

AlGaAs膜、GaAs膜、GaAs基板の表面を良好に粗面化エッチングし、光取り出し効率を向上させることができます。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 所望の凹凸を形成し、光取り出し効率を向上させることが可能です。 ・ 低温、短時間での処理が可能です。 ・ 凹凸形状の面内均一性が良好です。 キーワード:フロスト処理、凹凸、LED、発光ダイオード、アルミニウムガリウムヒ素、ガリウムヒ素

  • 化学薬品

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Alダメージレス絶縁膜エッチング液

Al、Al合金膜を腐食することなく絶縁膜を良好にエッチングします。 エッチング加工用とSi自然酸化膜除去用を取り揃えています。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ Al、Al合金を腐食しません。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ ウェットエッチングによるViaやPad形成に使用可能です。 ・Pure Etch 160( AlダメージレスSiエッチング液)の前処理液としても使用可能です。 キーワード:ウェットエッチング、SiO2、SiN、TEOS、シリコン酸化膜、シリコン窒化膜

  • その他半導体製造装置

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GaN(N面)粗面化エッチング液

GaN(N面)膜の表面を良好に粗面化エッチングし、光取り出し効率を向上させることができます。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 所望の凹凸を形成し、光取り出し効率を向上させることが可能です。 ・ 室温~高温での処理が可能です。 ・ 凹凸形状の面内均一性が良好です。 キーワード:フロスト処理、凹凸、LED、発光ダイオード、窒化ガリウム

  • 化学薬品

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Wエッチング液「Pure Etch W series」

W膜を良好にエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・ 良好な順テーパーを形成します。 ・ サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・ エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・ エッチング後の残渣がありません。 キーワード:ウェットエッチング、タングステン

  • 化学薬品

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Auエッチング液「Pure Etch AU series」

Au膜を良好にエッチングします。Auめっきへのダメージ少なく、Auシード層エッチングが可能なシード層用エッチング液もあります。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・低温、短時間での処理が可能です。 ・エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・微細なバンプ形成やパターン形成プロセスに適しています。 キーワード:ウェットエッチング、金、めっき、シード層、選択エッチング液

  • 化学薬品

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TiWエッチング液「Pure Etch TE series」

TiW膜を良好にエッチングします。成膜方法や膜構造によりエッチング性能が変化するため、詳しくはお問い合わせください。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・良好な順テーパーを形成します。 ・サイドエッチが少なく、微細パターンの形成が可能です。 ・エッチング速度とエッチング形状の面内均一性が良好です。 ・エッチング後の残渣がありません。 キーワード:ウェットエッチング、チタンタングステン

  • 化学薬品

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PZTエッチング液「Pure Etch PT series」

PZT(lead zirconate titanate チタン酸ジルコン酸鉛)膜を良好にエッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・少ないサイドエッチ量で、残渣無くエッチングします。 ・さまざまな成膜方法のPZT膜に対応しています。(ゾルゲル法、スパッタ法、その他成膜法) ・Dip、Sprayなどのさまざまな処理方法でエッチング可能です。 ・バルク品のエッチングにも対応しています。 ・毒物・劇物非該当品も提供可能です。 キーワード:ウェットエッチング、チタン酸ジルコン酸鉛

  • 化学薬品

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Siエッチング液(等方性)

Si膜を良好に等方性エッチングします。等方性エッチング液標準品のほか、Si基板の薄化に最適な薄化用エッチング液もあります。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・低温、短時間での処理が可能です。 ・エッチング後の表面は鏡面です。 キーワード:ウェットエッチング、シリコン等方性エッチング、シリコン基板薄化

  • 化学薬品

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SUS粗面化エッチング液「PureEtch MF series」

特殊な技術を用いることなく、SUS材の表面を良好に粗面化エッチングします。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・さまざまなSUS材の表面に所望の凹凸を形成します。 ・凹凸形状の面内均一性が良好です。 キーワード:化学的粗面化、凹凸、ステンレス鋼

  • 化学薬品

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Ti系、Cr系コーティング膜選択エッチング液 チタピールシリーズ

切削工具、治具、金型の再コーティングの前処理として浸漬処理を施すことで、残留コーティング膜の剥離が可能です

<チタピールA/B> 切削工具、機械部品、金型、装飾品等の再コーティング前処理工程における、チタン(Ti)系残留コーティング膜の剥離剤です。母材である合金とは反応せず、Ti膜のみを選択します。また除膜が困難とされている窒化チタンアルミ(TiAlN)の剥離実績がある、高性能Ti系コーティング剥離剤です。 <チタピールCR> HSS(高速度鋼)切削工具等に使用される窒化クロム(CrN)、窒化クロムアルミ(CrAlN)等 のクロム系コーティングの 除去液です。従来の電解剥離法とは異なり、薬液に浸漬するだけで容易に除膜が可能です。

  • エッチング装置

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アルミ・アルミ合金用エッチング液『マストーバ E1』

混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています

『マストーバ E1』は、アルミ・アルミ合金用のエッチング液です。 混酸タイプのエッチング液で、臭気が少なく作業性に優れています。 電子業界に使用いただいています。 【特長】 ■混酸タイプ ■臭気が少ない ■作業性に優れている ■アルミ・アルミ合金用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

  • 化学薬品

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InP粗面化エッチング液

InP膜の表面を良好に粗面化エッチングし、光取り出し効率を向上させることができます。

本製品の特長は以下のとおりです。 ・所望の凹凸を形成し、光取り出し効率を向上させることが可能です。 ・低温、短時間での処理が可能です。 ・凹凸形状の面内均一性が良好です。 キーワード:フロスト処理、凹凸、LED、発光ダイオード、インジウムリン

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