更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
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ＩＣＦコーティング 高機能・高性能カーボン膜
膜表面が滑らかで、摩擦係数が低く（μ＝０．１）、自己潤滑性があるため、 軟質金属の成形時に、金型への金属凝着を防いだり、金型鏡面部を保護する 『ＩＣＦコーティング 高機能・高性能カーボン膜』 ■□■特徴■□■ ■ＩＣＦ膜はアモルファス（非昌質）カーボン膜で、 グラファイトとダイヤモンドの中間の構造に位置する ※ＩＣＦ膜（Ｉｎｔｒｉｎｓｉｃ Ｃａｒｂｏｎ Ｆｉｌｍ）は、 ＤＬＣを含む高機能・多機能を持つカーボン膜の総称 ■ＩＣＦ膜を油代わりとし、オイルレス化やメンテナンスフリーを実現 ■アモルファス構造のため結晶粒界を持たないため窒化チタンなどの 多結晶構造の硬質薄膜と比べて非常に平滑な表面をしている ■硬度：２，０００〜２，２００ＨＶ ■摩擦係数：μ＝０．１ ■膜厚：標準 １μｍ ０．１μｍ以下の超薄膜も対応可 ■適応材質 超硬合金・ＳＫＨ・ＳＫＤ・ＳＵＪ２・アルミ合金・ベリリウム銅など
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
亜鉛下地専用の無色透明で、均一な高耐食トップコートです。
超耐食・薄膜コーティング 「ZEC-COAT」は、亜鉛下地専用の無色透明で、均一な高耐食トップコートです。 八幡ねじは自動車、機械、電機、医療、建築などの各分野で使われる約１００，０００種類の締結部品を在庫し即納体制を確立しています。 また冷間圧造、切削の特殊品も自社製造と協力メーカとの連携をはかり、お客様の求める最善の「品揃え」「高品質」「低価格」「確実な納期」で提供しています。 【特徴】 ○亜鉛めっきシロ上げへコーティングすることで、 ノンクロム高耐食性皮膜を低価格で実現出来る ○3価クロメート（白・黒）へのコーティングで防錆性能を 大幅にアップ（約5倍の耐食性）させることができる →塩水噴霧試験で白錆発生まで360時間以上、赤錆発生まで1500時間以上 ○傷に対する自己修復性を持つ 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
切削工具への適用から始まり、金型・自動車機構部品・食品・医療機器等など幅広く展開
当社で行っている、PVD・DLCコーティングについての紹介です。 PVD処理は、大別すると、真空蒸着、スパッタリング、 イオンプレーティングに分けることができます。 その中でも、セラミックスの薄膜を生成する方法として、1964年提唱された イオンプレーティングは、その後多くの研究者によって多くの改良がなされ 実用化に至りました。 セラミックスの薄膜は、金属材料にない耐摩耗性、耐熱性、耐食性を有し、 金属材料にコーティングすることにより、新しい機能を得ることが 容易になりました。 【特長】 ■イオンプレーティングは、多くの研究者によって多く改良され実用化に ■セラミックスの薄膜は、金属材料にない、耐摩耗性、耐熱性、耐食性を有する ■金属材料にコーティングすることにより、新しい機能を得ることが容易に ■金型、自動車機構部品、食品・医療機器等、幅広く展開 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。
『ナノプロセス(R)』TLS-200 1μｍ程度の薄膜コーティングで高い表面精度を維持したまま非粘着コーティングが可能です。
『ナノプロセス(R) TLS-200』は、 コーティングによる厚みがほとんどないため、 コーティングの膜厚をほとんど考慮する必要がなく、 非粘着・撥水・撥油、などの効果得ることができます。 刃物のような鋭利な基材でも、形状を維持したまま加工ができ 生産設備の搬送ライン、包装工程など幅広い業界の部品の表面改質が可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ▼吉田SKT公式サイト『ナノプロセス(R)』はこちら▼
刃物の切れ味を損なわない離型コーティングをご提案！コーティングで解決できた刃物の粘着トラブル解決事例集を進呈中です。
包装フィルムの接着剤によるカッター刃への付着を防止した事例をご紹介します。 ■お悩み ある包装工程で、実際の生産時に、粘着剤の付いた包装フィルムがカッター 刃にくっつくことで切れなくなったり、位置ずれが生じたりと、ライン停止 をよぎなくされることが頻発。このせいで、タクトタイムから算出した生産 計画の数量を達成することができませんでした。 ■コーティングの効果 そこで当社の提供する「MRS-003」を採用。これにより、処理温度が250℃ 以下に抑えられ、刃物なまりの懸念がなくなりました。さらに1ミクロンとい う薄膜のため、刃先の切れ味も維持できました。 【注目ポイント】 ■表面処理の目的：品質・稼働安定化、スピードアップ、安全性・環境要求対応 ■求められる機能：非粘着・離型性、長寿命 ■採用された処理：MRS-003 ※刃物やカット工程の粘着トラブルカイゼン事例を進呈中です。 詳しい内容は吉田SKT公式サイトをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれた超薄膜コーティング 『ナノプロセス TC-10S』
『ナノプロセス TC-10S』は100μm以下の超薄膜機能性コーティングが可能で 精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれています。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や、『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での採用が可能となっております。 〈用途例〉 ・電子機器、電子部品のシールや撥水処理 ・光学レンズの撥水 ・ガラスの親水化による防曇性付与 ・軸受け部品のオイル拡散防止 etc また、ナノプロセスはその他3つの新しい機能でリニューアルを行っており、それぞれで特長・用途が異なります。 【各シリーズの特長】 ■TLSシリーズ ガムテープのような粘着物の非粘着性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在、各シリーズの詳細をおまとめした技術資料を進呈しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
ほとんどの金属・金属酸化物・誘電体膜をコーティングできる薄膜コーティング！
当社では、PVDに属する、抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、 スパッタリング法での成膜加工ができます。 これらの加工技術を使い分けることで、ほとんどの金属、金属酸化物、 誘電体膜をコーティングできます。 ご要望の際は、お気軽にご相談ください。 【特長】 ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング法での 成膜加工が可能 ■ほとんどの金属、金属酸化物、誘電体膜をコーティング可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
離型性・滑り性向上に。膜厚1μm以下で精密部品にも対応可能！常温処理が可能で幅広い素材に対応
『PTコーティング』は一般的なフッ素コーティングの特性を有し、 密着性・耐久性・耐熱性（～500℃）にも優れた約1μmの薄膜を形成可能。 ピンホールフリーで離型性や滑り性の向上にも貢献します。 対象・用途に応じて工程や処理条件を調整することで 耐摩耗性、帯電防止性など、幅広い要求特性に対応可能。 また常温での処理も可能で、高温での処理が難しい樹脂やゴムのほか、 ガラス、金属、シリコンなど様々な素材に処理できます。 【要求特性】 ◎薄膜 ◎離型性 ◎耐摩耗性 ◎高耐熱性 ◎滑り性 ◎帯電防止 ※詳しくは下記「PDFダウンロード」より資料をご覧ください。 お問い合わせもお気軽にどうぞ。
人気のセルテスに撥水・撥油グレードが登場！プラレンズ成形の離型性向上・型汚れ防止に
セルテスN-Sコーティングは、先進のプラズマブースタースパッタリング（PBS）プロセスによる窒化物セラミック硬質薄膜に撥水処理を複合させた多層構造の撥水・撥油グレード セルテスコーティングです。
高い耐摩耗性！薄膜（20～100μｍ）で加工が可能なコーティング
PEEKコーティングは、PEEK樹脂の無垢材の性能（耐薬品性、耐摩耗性、絶縁性）をそのままに、薄膜（20～100μｍ）で加工が可能なコーティングです。 「PEEK」は高硬度、耐熱性、耐蝕性、耐摩耗性、機械加工等において非常にバランスのとれた熱可塑性スーパーエンジニアリングプラスチックです。 【特長】 ■PFAやPTFE等のフッ素樹脂よりも高い耐摩耗性を有している ■従来のフッ素樹脂コーティングを上回る性能を発揮 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
優れた離型性、滑り性、耐摩耗性を発揮！金属以外でも様々な素材（樹脂、ゴム、ガラス）に適用可能
『GDコーティング』は、複合プロセスの融合により、化学反応層を形成し、 強固な密着力と被覆力を実現した、耐熱性フッ素コーティングです。 めっき技術、塗装技術、冶金技術の融合により、従来のコーティング （フッ素系、セラミック系、ガラス系）の課題となっていた、 薄膜（40nm～約1μm）、透明、ピンホールフリー、耐熱性（500℃）を実現。 その皮膜は素材との反応により、密着力の優れた単層膜を形成し、通常の フッ素コーティングよりも優れた性能（離型性、滑り性、非粘着性、耐摩耗性、 抗菌性、耐薬品・ガス性、耐久性）を発揮することができます。 また、その反応技術により金属以外でも、様々な素材（樹脂、ゴム、ガラス） に適用可能です。 【特長】 ■複合プロセスの融合により、化学反応層を形成 ■強固な密着力と被覆力を実現 ■薄膜（40nm～約1μm）、透明、ピンホールフリー、耐熱性（500℃）を実現 ■優れた性能を発揮 ■金属以外でも、様々な素材（樹脂、ゴム、ガラス）に適用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
