更新日： 集計期間:2026年01月14日～2026年02月10日
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半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」
図解満載！読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎知識・品質管理が分かる！
耐摩耗性・潤滑性に優れたDLCコーティングを得意とする当社から、小冊子『失敗しないコーティング選び』第1弾＆2弾＆3弾を3冊まとめてプレゼント！ 第1弾では、そもそもコーティングとは？といった基礎知識から、コーティング材、実際のコーティング方法を分かりやすく解説。 第2弾では、“硬質薄膜の品質管理”をテーマに、基礎知識をはじめ「HRC圧痕試験法」など、膜厚・硬さ・密着力の測定方法について紹介しています。 第3弾では、各種金属と硬質薄膜材料の摩擦係数比較や摺動材料の組み合わせによるDLC 摩擦係数の比較、など様々な試験データを図やグラフで分かりやすくまとめています。 ※ダウンロードにてすぐにお読みいただけます！ 【掲載内容（抜粋）】 ◎第1弾 ■コーティングとは？ ■コーティングにはどんな材料が使われるの？ ◎第2弾 ■硬質薄膜の品質管理とは？ ■膜厚の測定方法 ほか ◎第3弾 ■各種金属と硬質薄膜材料の摩擦係数比較 ■摺動材料の組み合わせによるDLC 摩擦係数の比較 ほか ※詳しくは小冊子をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
ナノメートルオーダーでの膜厚制御を可能にします！
『ナノフィルムメーカー』は、水晶振動子（QCM）によるセンシング により、薄膜のナノオーダーでの膜厚制御が可能な薄膜製造装置です。 本装置により、アニオン性ポリーマーとカチオン性ポリマーの間に動く クローン力を利用して吸着させ、連続的に膜を積層することにより生成 される機能性薄膜「交互吸着膜」を開発できるようになります。 物質の組み合わせを検討することにより、タッチパネルに使用される 電導性膜の製造などにも役立ちます。 【特長】 ■ナノオーダーでの膜厚制御を実現 ■自由にヘテロ構造を設計可能 ■モノマ（Ru錯体など）の累積可能 ■様々な機能性薄膜が開発可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が分かる小冊子のダウンロード！金型・摺動部品の長寿命化に
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が学べる小冊子『失敗しないコーティング選び』を無料でダウンロード頂けます。 「コーティングとは？」という基本的なところから、コーティング材の紹介、実際のコーティング方法を分かりやすく簡潔にまとまっています。 金型や摺動部品の寿命を延ばしてコスト削減に役立つコーティング方法の選び方が分かるハンドブックです。 冊子でご希望の方は『お問い合わせ』からお願い致します。 【掲載内容】 ■コーティングとは？ ■コーティングにはどんな材料が使われるの？ ■コーティングはどうやって作るの？ ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
お客様のニーズに合わせた種類・形状・サイズの蒸着材料をご提供しています。
薄膜は、レンズ類の反射防止膜、レーザーフィルター、ミラー、液晶ディスプレイパネル、建築用ガラス等々、実にさまざまな分野で利用されており、最近では特に撥水、防汚等の機能性薄膜が注目されています。一般的には、これらの薄膜は蒸着によって形成され、金属酸化物やフッ化物等の材料が蒸着材料として用いられており、多種多様な目的に応じた種類・形状・サイズのものが使用されます。弊社ではお客様のニーズにお応えする蒸着材料を提供しています。
R・F式イオンプレーティングと真空蒸着による高機能薄膜の受託加工
薄膜形成の試作から量産 【特徴】 ○緻密で経時変化が少ない ○基盤との付着力が強い ○低温での処理が可能 ○反応性イオンプレーティングができる ○成膜材料の汎用性が高い ・詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
スピンスプレー薄膜作製装置
フェライトめっきとは、室温〜90℃の水溶液中で、直接強磁性フェライト膜を作製できる革新的技術です。・1983年に東京工業大学 阿部正紀研究室で発明されて以来工夫を重ね、各種の薄膜磁性デバイス、バイオ・メディカルデバイスへの応用開発がなされ、一部は実用化されました。Fe2+イオンとNi2+などのイオンを原料として、Fe2+→Feの酸化反応を利用し各種のフェライトの薄膜作を可能にしたのが、フェライトめっき法の独創的なポイントです。最大ポイントは基板表面のOH基と金属イオンが共有結合性の化学結合を行う（単なる物理吸着ではない）ために強固な付着力が得られます。
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-070）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
各コーティング方法の違いや特徴、コーティング事例、お問い合わせの多い質問をまとめた『薄膜Q＆A』を無料でプレゼントします！
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術をQ&A形式で分かりやすく解説した資料を無料進呈中！ ・真空蒸着？ ・イオンプレーティング？ ・どんな膜ができるの？ ・こんなコーティングはできるの？ ・試作だけでもいいの？量産もできるの？ 東邦化研株式会社では、表面処理に好適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 イオンプレーティング部発足以来、約40年に渡って幅広い分野で実績を残してまいりました。 その中で、特にお問い合わせの多い質問をまとめてみました。 各コーティング方法の違いや特徴、コーティングの具体例等、イラストや写真を交えて、 なるべく分かりやすくまとめましたので、ぜひダウンロードしてみてください。 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ ご不明な点につきましてもまずはお気軽にお問い合わせください☆
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が分かる小冊子のダウンロード！金型・摺動部品の長寿命化に
読むだけで硬質薄膜コーティングの基礎が学べる小冊子『失敗しないコーティング選び』を無料でダウンロード頂けます。 今回は、各種金属と硬質薄膜材料の摩擦係数比較や摺動材料の組み合わせによるDLC 摩擦係数の比較、など様々な試験データを図やグラフで分かりやすくまとめました。 冊子でご希望の方は『お問い合わせ』からお願い致します。 【掲載内容】 ■Ball on Disc 回転 ドライ ■Ball on Disc 往復 ドライ ■Ball on Disc 回転 油中 ■Ball on Disc 回転 ドライ加熱 ■ファビリ(ファレックス) パラフィン基油 ■ファビリ(ファレックス) ドライ ■Ball on Disc 回転、往復 加熱 ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
金属・金属酸化物・誘電体膜対応 薄膜コーティング
フォトファブリケーションを中心的技術として、 マイクロエレクトロニクス製品や光学製品をはじめとする様々な分野での 試作・開発に貢献するフォトプレシジョン社 『薄膜コーティング』のご案内です。 ほとんどの金属・金属酸化物をコーティングすることが可能！ ■□■特徴■□■ ■抵抗加熱真空蒸着、EB加熱真空蒸着、スパッタリング装置を 社内に保有 ■抵抗過熱真空蒸着 真空中で薄膜材料（ターゲット）を加熱蒸発させ、基板面に 付着させる蒸着方法 ■E.B.加熱真空蒸着 真空中でターゲットを加熱蒸発させ、基板面に付着させる蒸着方法 ■スパッタリング ターゲットにアルゴン陽イオンで衝撃を与え、衝撃でたたき出された 原子が基板面に到着して膜を形成する成膜法 ■その他膜種、膜厚や多層膜についてもお気軽にお問い合わせ下さい。 基板種・サイズなど幅広く対応が可能です。
50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！薄膜形成ならお任せください！
薄膜とは「はくまく」「うすまく」と呼ばれ、 一般的に膜の厚みがナノレベルのコーティング（被膜）を指します。 薄膜は、真空装置の中で膜にしたい材料（金属等）を蒸発させたり叩き出したりして形成されます。 『真空蒸着法』 真空蒸着法は、真空中で膜にしたい材料（金属等）を加熱して蒸発させ、 その蒸気（粒子）が対象物に到達し、堆積していくことで膜を形成する方法です。 真空蒸着法は、気化した材料がそのまま対象物に到達するため、 対象物のダメージが少なく純度の高い膜が形成できるのが特徴です。 東邦化研株式会社では、イオンプレーティング・真空蒸着・P-CVD・スパッタによる、導電性、絶縁性、耐蝕性などの機能性薄膜の受託加工サービスを行っております。 様々な機能性薄膜を、試作から生産まで対応しております。 膜種・膜厚・成膜条件・対応基板(材質、サイズ、形状)への柔軟な対応と、35年の実績をもとに、マスキング成膜やメタルマスクでのパターン形成にも対応いたします。 お気軽にご相談下さい。
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。 ◉ 省スペース：背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026（26ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ◉ MiniLab-090（90ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介
金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度・短納期・少量多品種などお客様のご要望に対応いたします！
株式会社和絋工業は、主にガラス製品薄膜加工を行っている会社です。 当社では薄膜コーティング技術で最先端情報機器の発展に貢献しています。 また、高精度・短納期・少量多品種などお客様から寄せられる様々な ご要望にきめ細かに対応いたします。 真空蒸着装置や測定器、環境試験機など新鋭設備で信頼にお応えいたします。 【主な事業内容】 ■ガラス製品薄膜加工 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）
透過率80％以上、シート抵抗8Ω／□以下のFTOを成膜！卓上タイプで実験室や開発現場で活躍する成膜装置 ※カタログ＆サンプル進呈
SPD方式の小型低コスト成膜装置（薄膜製造装置）シリーズです。 SPDの装置は、真空でなくとも生成できるため、クリーンルームも必要なし。 また、設備も卓上タイプでコンパクトなため、実験室や開発現場での使用に最適です。 【特長】 ■卓上タイプのコンパクトな薄膜製造装置 ■非真空のため、クリーンルームも必要なし 【ラインナップ】 ■KM-300 ■KV-25 ■KV-50 ■KM-150 ■KV-100 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御機器設計によりバリエーションが豊富、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026/090）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-070/080）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種表面処理薄膜コーティング法を掲載！試作から生産案件まで対応
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ また、本資料では各コーティング法の特徴の他、コーティング事例やパターン形成についても掲載しています。 ご興味のある方は資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ11inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ・有機蒸着源 x 最大4元 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
受託加工専業30年を超える実績！技術の向上で、更なるイノベーションへ！
東邦化研株式会社では、表面処理に最適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 特に導電性・絶縁性等の機能性膜に重点を置き、試作・開発・研究・大量生産・小ロット生産までの、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えております。 お見積りから加工まで、迅速・確実な対応を心がけ、且つリードタイムの短縮に貢献します。 【事業内容】 ■イオンプレーティングと真空蒸着による薄膜の受託加工サービス (機能性膜の作製、表面改質、薄膜加工全般の受託請負) 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
【3分で解説】蒸着についてのメリット・種類・多彩な機能性についてわかりやすく解説します！
薄膜を作るための材料である蒸着材料についてわかりやすく紹介！ 蒸着材料を知らいないという方へ蒸着材料の基本情報をまとめました。 こういうお悩みございませんか？ ■キズや汚れを防ぎたい… ■視界を良くしたい… ■水蒸気や酸素を通したくない… ■ホコリや花粉などの付着を防止したい… などのお困りの方必見です！ 【掲載項目】 1. 蒸着材料とは 2. 真空蒸着とは 3. 真空蒸着のメリット 4. 蒸着材料の種類 5. 薄膜が生み出す多彩な機能 6. 用途 7. よくある質問 など… ※詳しくは、当社ホームページのお問合せフォームよりお気軽にお問合せください。
柔軟な対応と30年の実績！多岐に渡るご要望に応える、高機能受託加工サービス
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング・真空蒸着・P-CVD・スパッタによる、導電性、絶縁性、耐蝕性などの機能性薄膜の受託加工サービスを行っております。 様々な機能性薄膜を、試作から生産まで対応しております。 膜種・膜厚・成膜条件・対応基板(材質、サイズ、形状)への柔軟な対応と、35年の実績をもとに、マスキング成膜やメタルマスクでのパターン形成にも対応いたします。 お気軽にご相談下さい。 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
耐摩耗性が向上する超硬質薄膜コーティング！成膜後の磨き工程は一切不要
『CERTESS NITRO』は、物理的真空蒸着により形成される機械部品用の 超硬質薄膜コーティングです。 独自技術によりコーティング表面は非常に滑らかで、成膜後の磨き工程は 一切不要。また、摩擦係数が大幅に減少し、腐食摩耗・アブレッシブ摩耗・ 凝着摩耗に対する耐性が著しく向上します。 航空宇宙産業をはじめ、自動車用部品や医療用機器部品など幅広い分野で 活躍します。 【特長】 ■PVD(物理的真空蒸着)で形成 ■成膜後の磨き工程が一切不要 ■摩擦係数が大幅に減少 ■腐食摩耗・アブレッシブ摩耗・凝着摩耗に対する耐性が向上 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
蒸着法 各種金属薄膜
蒸着法により高性能・高品質な膜を提供 日本真空科学研究所が取り扱う、各種金属薄膜 【特徴】 ○蒸着法では⾼精度に膜厚を制御することが可能なため、 全反射ミラーコートはもちろんのこと、入射光の一部を透過させる ハーフミラーコートも対応可能 ○要求される性能・コスト・耐久性等に応じて最適な膜種を提案 ○製品一覧 ・アルミニウム(Al) 高い反射特性と低コストを兼ね備えた最もポピュラーな金属膜 ・クロム(Cr) 低コストと高耐久性（耐腐食性や耐傷性）を両立 ・金(Au) 赤外域にて極めて高い反射率を示すため、赤外線を用いた光学機器に使用 ・その他、インコネル・ニクロム・アルメル・クロメル等の合⾦の製膜も可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
多層塗りによる厚膜の作製！スピンコータに液だれ防止が工夫されている装置
『積層薄膜作製装置』は、化学溶液法による積層薄膜作製プロセスである、 スピンコーティング、乾燥、焼成、冷却の各工程の繰り返しをロボットを 用いて行い、多層塗りによる厚膜の作製を自動で行う装置です。 コンピュータコントロールによるプログラム設定により、スピンコーティング、 乾燥、焼成、冷却の各工程の詳細な条件設定並びに、工程の省略、 工程フローの変更、工程の保存が任意に出来るプログラムとなっております。 【特長】 ■スピンコーティング、乾燥、焼成をCPUシステムにより、任意に変更可能 ■各工程は、手動、自動、両操作が出来る ■基板形状は丸、角、両方出来る ■スピンコータに液だれ防止が工夫されている ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
生産用装置としての実績に基づく各種運転プログラムの組み込み易さの向上を実現しました
『TLR-12』は、安定した炉と制御系を搭載した磁性薄膜作製装置です。 生産用装置としての実績に基づく各種運転プログラムの組み込み易さを 向上。作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに 収納しています。 尚、オプションにて液面検出機構の取り付けや、炉口シャッターを プログラム上に組み込むことが可能です。 【特長】 ■作業者と作業環境を保護するため装置全体をダクト付ケースに収納 ■実績を重ねて安定した炉と制御系 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
不純物の少ない高品質な製品をご提供！少量からのご注文も承ります
株式会社ティーディーワイでは『蒸着材料・ターゲット材料』を取り扱って おります。 「蒸着材料」とは薄膜を製作する技術の一つである真空蒸着法(熱蒸着)で 用いる材料で、一般的にはナノオーダーの薄膜を作るための材料です。 また「ターゲット材料」であるスパッタリングターゲットは、薄膜として 現代社会の様々な分野で使用されており、当社では高品質及び短納期の ゲルマニウムターゲット及びシリコンターゲットをご提供いたします。 【製品詳細】 ＜蒸着材料：Ge蒸着材＞ ■Ge粒状D ・純度：6N以上 ・寸法：2mm～8mm ■Ge粒状C ・純度：6N以上 ・寸法：3mm～6mm ※海外品も取り扱いをしております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。
