更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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日揚科技は用途に合わせて多様なタイプの真空バルブを供給しています。
真空バルブ「真空バルブシリーズ」は低真空から超高真空まで対応できます。ストレート(Y型及びZ型）バルブを使用する場合、配管を曲げなくでもバルブをうまく接続できます。日揚科技は用途に合わせて多様なタイプの真空バルブを供給しています。それらはアングルバルブ、ストレート(Y型及びZ型）バルブ、ボールバルブ、オートメートルバルブ、手動式と圧空式、またはベローズツキとベローズナキを選択できます。真空バルブを使用する目的はガスを調節するや流量をコントロールすること。そのため、多くの真空チャンバー、真空システム装置、真空成膜装置に応用しています。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
高品質・コンパクトな高真空バルブ
HVA社の高真空バルブ・超高真空バルブは、半導体製造装置をはじめ、研究機器など様々 な分野に対応する多種多様のゲートバルブ、スリットバルブを取り揃えております。
半導体や表面分析アプリケーションに使用できるポンプ/チャンバー用真空遮断バルブ
-パーティクル発生が少ない -メンテナンスが容易 -低コスト
バックラッシュを最小に抑え再現性よく高精密なガスコントロールを実現。
高性能バリアブルリークバルブ ＺLVMシリーズはガス源から真空チャンバー内にガスを導入する際に、微小なガスフローを制御するために使用します。バックラッシュを最小に抑え、ナイフエッジと銅合金パッドの材質・構造を工夫することにより、再現性よく、高精密なガスコントロールを実現しました。詳しくはお問い合わせください。
フルコンダクタンスが可能な高真空シリンダーバルブ
大きなコンダクタンスが要求される高真空アプリケーションの排気およびベント用バルブ -過酷な環境にも対応（腐食に対しての高い耐性）します。 -穴の開いたシリンダーが回転するため、フルコンダクタンスが可能です。 -O-リングがバルブボディに隠れる回転構造。腐食性ガスからO-リングを守り、長寿命を実現します！
「シングルゲートバルブ」と「デュアルゲートバルブ」をラインアップ！
当製品は、半導体製造装置のプロセスチャンバー用の真空ゲートバルブです。 カム駆動式による逆圧対応の「シングルゲートバルブ」と完全水平移動の為、 Oリングの擦れが無い「デュアルゲートバルブ」をラインアップ。 お客様ご要求仕様に基づくカスタマイズも承ります。 【特長】 〈デュアルゲートバルブ〉 ■完全水平移動の為、Oリングの擦れが無い ■左右の独立駆動によりPM/TMチャンバーのメンテナンス性が向上 ■コンパクト設計(シングルバルブと同サイズ) ■開口45×450mmに対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
チャンバー内を汚染しにくい構造！Oリングへのストレス低減、高い耐久性能を実現
『PCAシリーズ』は、バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能なバルブです。 新開発のシートリング機構が、フラッパーに取り付けられたO-RINGの ねじれや脱落の問題を解消。また、フラッパーシール部がグリスレスのため、 反応室を汚染しにくい構造です。 シートリング機構採用により、Oリングへのストレス低減、高い耐久性能を 実現しました。 【特長】 ■バルブ開閉、スロー排気、調圧が可能 ■低真空から高真空まで圧力調整が可能 ■新開発のシートリング機構を採用 ■高耐久：全開・全閉動作 300万回 ■独自ヒーティングによる内部副生成物の低減 ■副生成物の多いプロセスへ優れた適応性を発揮 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
均等なガスフローで高度なプロセスに最適
-パーティクルフリーな動作で均等排気を可能にする -卓越した圧力制御の実績 -サービスポート装備（USBでPCとControl Performance Analyzer (CPA)とソフトウェアの接続用）
SEMI/FPDプロセスにおけるダウンストリームの圧力制御および真空封止用バルブ。高度なエッチングプロセスに最適。
-パーティクルフリーな動作で均等排気を可能にする -卓越した圧力制御の実績 -サービスポート装備（USBでPCとControl Performance Analyzer(CPA)ソフトウェアの接続用）
スロー排気ライン用のバイパスバルブとメインバルブが一体構造になっている、省スペースのバルブ！
「IVB_X VX」シリーズは、チャンバー内部で発生するパーティクルの 巻き上げを防止します。 メインバルブとバイパスバルブが一体となっており、大気から真空に 排気する場合、若しくは真空から大気に戻す場合に起こる急激な圧力 変動を抑え、メインバルブ開閉前にバイパスバルブでスロー排気により 圧力コントロールをします。 バイパスバルブには流量の固定と排気スピードが調整可能なタイプの 2種類を用意しており、このバイパスバルブは15Aサイズを除く「IVB」 「IVBL」「IVBH」シリーズ全てに対応可能です。 【特長】 ■従来のスロー排気ラインがメインバルブと一体構造 ■省スペース化が可能 ■排気ラインの低コスト化が可能 ■バイパスバルブは機種によって複数台取り付けることが可能 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
Max180℃まで任意の温度に設定可能！メンテナンス期間を大幅に延長できます
『UXG/LGシリーズ』は、半導体真空装置の反応炉とトランスファーチャンバー 間の仕切りを行うために開発した角型のゲートバルブです。 ボディはアルミニウム製で、複動式エアーアクチュエーターにより作動。 ヒーター付き仕様は固定されたボディに内蔵している外部ヒーターによる 加熱だけでなく、可動部である弁体内部にもヒーターを持ち、外部と内部 の両方から加熱することにより、高い均熱性能を特長としています。 【特長】 ■メンテナンス期間を大幅に延長できる ■内部と外部の温度を個々に設定可能 ■バルブを開閉作動する時に、パーティクルが発生しにくい無摺動構造 ■バルブクローズを保つラッチロック機構を装備 ■ゲートのOリング材質として、フッ素ゴム・KALREZ・Chemraz等を用意 ※KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。 詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高速応答性を実現！高圧のまま気体状にジェット噴射が可能なパルスバルブ
『L.TEX8900シリーズ』は、超臨界状態の流体を所定の間隔で高圧のまま気体状にジェット噴射が可能なパルスバルブです。 従来のものは圧力が10MPa程度の噴射が限界でしたが、駆動源に高性能圧電素子（ピエゾ素子）を採用したことにより、30MPaまでの高圧下での安定した噴射が可能となりました。 【特徴】 ○バルブ開閉時間100μs以下の高速応答性を実現 ○お客様のご要望に対応したカスタムメイドが可能 →バルブヘッド部の温調(～100℃)や真空チャンバーへの取り付けなど 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
