アルカリ対応スピン洗浄装置
有機EL基板洗浄に最適!アルカリ対応スピン洗浄装置
本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。
- 企業:マック産業機器株式会社 テクノロジーセンター
- 価格:1000万円 ~ 5000万円
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有機EL基板洗浄に最適!アルカリ対応スピン洗浄装置
本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。
3次元実装用マニュアルタイプのウエハケミカル洗浄装置です!
処理枚数は1-3枚の少量対応の為、研究・実験の用途に最適です。 100V電源で設置に制約がありません。 コンパクトなので1m2(平方メートル)あれば設置可能と経済的です。 純水リンスはカスケード方式による純水使用量を抑えた低コストです。 ケミカル温度をコントロールが可能です。 比抵抗計によりリンス効果を判断します。 ウエハカセットは傾斜を持たせ、ウエハ表面側に液残留を防止します。 将来、2槽(下部タンク共)追加可能なスペースを確保しています。 エアーガン付です。 シャワーノズルでケミカル槽を簡単洗浄出来ます。
ウェハをチャンバー内でウォータージェットにより1枚ずつ剥離分離する装置
「ウエハ剥離洗浄装置 ME-5700」は、ウエハを手動で搬送アームにセットし、チャンバー内でウォータージェットにより、1枚ずつ剥離分離後、手動で回収する装置です。外形寸法はL1300×W1200×H2100です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
有機EL等の基板製造装置に最適です!
基板の洗浄を目的とし、洗浄ブラシ、HPMJ、MS、最終リンス、水切りを経て排出部へ送り出す工程を枚葉にて行う装置です。
限られたスペースを有効活用!卓上型自動スピン洗浄機です。
本装置は、対象ワークを手動にてセットしスピン回転により超音波洗浄、純水リンスエアーブロー乾燥を行う卓上型自動スピン洗浄機です。
LCD、有機EL、太陽電池等のガラスの洗浄装置です!
本装置はLCD、有機EL、太陽電池等のガラスの洗浄装置です。前工程より入口コンベアへ、ガラスの供給を受け、入口コンベア、シャワー、ロールブラシ、2流体、純水リンス(オプションとしてメガソニック)で 洗浄し水切り乾燥を行い、静電除去した後、出口コンベアに送り出す工程を枚葉式で行う装置です。
ブラシ洗浄、超音波洗浄、リンス洗浄、N2ブロー乾燥の処理を行う装置です!
省スペースで、両面洗浄可能なメカグリップ機構の枚葉式スピン洗浄装置です。 メンテナンスが容易で高速、スピン乾燥、N2乾燥、によりウオーターマークを軽減します。(特許第3558543)
SUS製フィルターの再生洗浄を目的とした洗浄機。内圧と外圧により汚れを落とし、再生フィルターとして活用します。
小形、安価な設計となっています。洗浄ノズルを内側と外側に設置し、汚れを完全に落とします。 ワークをワーク台にセットし、ワーク台が回転し、内側から加圧洗浄されます。 フィルターの水切りは電磁弁の切換えにより洗浄ノズルから高圧エアーを吹き出し水切りをします。 オプションとして、超音波洗浄槽もあります。
フルオートマティックスピン洗浄装置 300mm/8インチウエハー、ガラス
本装置は、ウエハーカセットを本体に手動でセットし、収納されている対象ワークをロボットでスピン洗浄部に送り、スピン回転させながら二流体洗浄・超音波洗浄・N2ブロー乾燥の処理を行い、再びウエハーカセットに収納する装置です。
スピン回転により洗剤(界面活性剤等)でブラシ洗浄します。
「小型スピン洗浄装置 ME-510」は対象ワークを手動にてセットし、スピン回転により洗剤(界面活性剤等)でブラシ洗浄し、純水リンス洗浄、エアブロー乾燥の処理を行うマニュアルスピンナーです。対応回転数はMAX3000rpm、対応試料サイズは30~150角、PETフィルム及びガラスとなっています。ブラシ部はブラシ昇降、旋回、ブラシ回転、洗剤供給を行い、純水供給部はエアシリンダーによる旋回、純水供給を行います。本体サイズはW650xD800xH710でアルミフレームになります。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。