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様々なニーズに対応可能！卓越した操作性、高感度測定を実現したXPS装置をご紹介
『K-Alpha』は、新しい技術の採用により、最高レベルの操作性と比類のない パフォーマンスを同時に実現した完全自動X線光電子分光装置です。 低出力・高強度のX線モノクロメーターを搭載しており、50μmから400μmまで 5μmステップで分析エリアを選択可能。 分析エリアを目的の試料サイズに調整することにより、最高レベルの 信号強度を得ることができます。 【特長】 ■高感度、高エネルギー分解能XPS測定 ■マイクロフォーカス型X線源による微小領域分析 ■試料鉛直方向からのリアルタイム試料観察機構 ■抜群の操作性と高スループット ■Thermo Scientific Avantageデータシステムによる 測定、解析、装置コントロールの統合制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
微小領域、多機能分析を実現！多機能オプションが搭載可能なX線光電子分光装置
『Nexsa』は、最高レベルのパフォーマンスと測定の完全自動化を 両立したX線光電子分光装置です。 新型モノクロメーターX線源は、高感度測定を維持しつつ5μmステップで 10～400μmまで測定することが可能。 高効率レンズ系と検出器のコンビネーションにより 高感度・高速のXPS分析を実現します。 【特長】 ■低濃度化合物や微小領域の測定が可能 ■最高レベルのパフォーマンスと測定の完全自動化を両立 ■多機能オプションが搭載可能 ■高感度・高速のXPS分析を実現 ■絶縁物の測定が容易に行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究室で最大0.1気圧環境下のオペランド測定が可能
EnviroESCAは試料を準大気圧（最大0.1気圧）環境下で測定し、従来のような超高真空環境を必要としません。液体・含水性試料はもちろん、揮発試料や激しく脱ガスする多孔質な試料でも、EnviroESCAの試料室に投入後、僅か数分後には測定を開始します。従来型XPSでは測定を諦めていた試料を分析できるだけでなく、雰囲気ガスや温度を自由に制御して新しい研究分野を開拓する強力な武器となります。現在急速に注目を集めている、デバイス動作環境下での測定、いわゆる“オペランド測定”も簡単に実現できます。超高真空環境を必要としないEnviroESCAであれば、短時間に多量の検査を必要とする生産ラインでの品質検査でも効率的に運用可能です。ロボット・オートローダーを使用して、無人で試料導入から測定までをバッチ処理することもできます。 X線光電子分光＝超高真空環境下の既成概念を払拭するEnviroESCAは、新奇の研究開発を牽引し、さらにX線光電子分光法に医療・バイオ・ライフサイエンスなど全く新しい活用の場を提供する装置です。
試料表面（数nm程度の深さ）の元素の種類、存在量、化学結合状態評価に有効
XPSは、Ｘ線照射により放出される光電子の運動エネルギー分布を測定し、試料表面（数nm程度の深さ）に存在する元素の種類・存在量・化学結合状態に関する知見を得る手法です。化学結合状態に関する知見が得られるため、別名ESCA : Electron Spectroscopy for Chemical Analysis とも呼ばれています。 ・固体表面（約2～8nm）の元素の定性・定量が可能 ・化学結合状態分析が可能 ・非破壊で分析が可能 ・深さ方向分布（イオンスパッタを併用）の測定が可能 ・絶縁物の測定が可能 ・雰囲気制御下での測定が可能
試料表面の組成の定性・定量や仕事関数評価に
UPSは、紫外光照射により放出される電子の運動エネルギー分布を測定し、試料極表面（数nm程度以下）の価電子状態に関する知見を得る手法です。その一方で、高いエネルギー分解能を利用して各種金属材料の仕事関数評価にも用いられています。 XPS分析と併せて測定が可能なため、試料表面組成の定性・定量や結合状態と仕事関数値との相関を調べることが可能です。
目的に合わせた測定条件で評価を行います
LEDやパワーデバイスに用いられるGaN膜について、XPSを用いて組成・結合状態を評価した例を紹介します。成膜条件や表面処理等により、組成や結合状態がどのように変わるのかを把握しておくことは、プロセス管理等に有効です。 評価の際は、目的に応じて使用するX線を適切に選択することが重要です。着目ごとの測定条件を併せてご紹介します。
放射光施設でのみ可能であった硬X線光電子分光がラボでも使用可能に！
今までの汎用XPSでは到達できなかった深さを分析できる次世代のXPS装置です。 これまで放射光施設でのみ使用可能だった硬X線の使用が可能になりました。 Ga ka単色化線源により９．２５keV励起による高分解能硬X線光電子分光を実現いたしました。 【用途】 表面より深い領域での試料のXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 HAXPES-Lab is designed to allow hard X-ray photoelectron spectroscopy (HAXPES) measurements in standard lab environments. The instrument offers the unique possibility to investigate bulk properties of various materials, analyse buried interfaces and access deep core levels. ※詳細はお問い合わせください。
ARPES角度分解でのXPS観察・測定に！次世代のARPES測定装置の紹介です。
ARPES-Lab（ARPES光電子分光分析システム）、XPS観察・測定に使用される装置です。 【用途】 ARPESでのXPS観察・測定 ―‐‐以下英文による紹介です。 The ARPES-Lab brings together the world leading instrumentation for ARPES: ●Outstanding performance ARPES system with unchallenged energy and angular resolution ●Intelligent integration and automation ●Revolutionary DA30 deflection mode operation: - Improved ky accuracy - Matrix element effects are avoided by keeping sample fixed - Ensures same sample point for all k// ※詳細はお問い合わせいただくか、PDF資料をダウンロードしてください。
"A window to the bulk" 、"ビームタイムをお手元に"
硬X線を励起源とするラボタイプの光電子分光システムです 硬X線光電子分光法(HArd X-ray PhotoElectron Spectroscopy : HAXPES)は、 多くの放射光施設が既に導入している、次世代の光電子分光(XPS)の一つです。ビームラインより、膜の下地や埋もれた界面、通常のXPSでは届かない深い内殻軌道の情報が得られる手法として注目されています。従来では放射光施設でのみ測定出来たこの手法をお手元のラボにこのシステムを置くことで、表面の情報だけではなく、バルクの情報も得られる次世代の光電子分光測定が可能となります。
新型検知器の採用！板状・粉状のサンプルを25個まで自動測定できます
『AC-5』は、新センサ採用で1秒間で最大4000個まで光電子を 計数できる光電子分光装置です。 最大180mm×180mmの大型サンプルを装着でき、スポット指定測定で 任意の場所を測定可能。 また、オプションのサンプルチェンジャーで板状・粉状のサンプルを 25個まで自動測定ができ、Xe(キセノン)ランプを使用することで、 トナーなど電子が出にくい物質の高感度測定もできます。 【特長】 ■仕事関数・イオン化ポテンシャルが大気中で約5分で測定できる ■大きなサンプルの測定が可能(MAX180mm×180mm) ■連続測定が可能(1回最大25個) ■新型検知器の採用(1秒間の電子数の測定が当社比2倍に) ■粉体・液体の測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「誰もが、簡単に、直ぐに使えること」
日本電子株式会社 JPS-9030 光電子分光装置(XPS)は、日本語環境で操作できる新設計のユーザーインターフェースを採用し、「誰もが、簡単に、直ぐに使えること」を実現しました。また、カウフマン型エッチングイオンソースやツインアノードを標準装備の上、汎用XPSでありながら高温加熱システムやガスクラスターイオンソース等幅広い拡張性も備えています。 〇特長 ・nmからμmまで幅広い目的に対応したデプスプロファイル (深さ方向分析) が可能 ・使いやすさを追求した新開発ソフトウェア ・ハイエンド機に匹敵する超高感度 ・豊富なオプション ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
XPS： X線光電子分光法
XPSは試料表面(数nm程度の深さ)の組成・結合状態に関する知見を得る手法ですが、イオン照射によるスパッタエッチングを組み合わせることで、試料内部や深さ方向分布の評価も可能です。 但し、スパッタエッチングを伴う評価ではXPSの原理及び測定機構から、吸着酸素の影響を受けて酸素量が本来の組成より過大評価される場合があり、注意が必要です。 酸素が吸着し易い試料(Ti、TiN、AlN等)の評価や微量酸素に着目した評価の場合には吸着酸素の影響が大きくなるため、試料間比較やSIMSでの分析を推奨しています。
大気中で遠紫外線領域(4.00-7.00eV)での光電子測定が可能な光電子分光装置
『AC-3』は、最高被占軌道近傍の状態密度や仕事関数、イオン化 ポテンシャルを大気中で簡単に測定可能な大気中光電子分光装置です。 またナノメートルオーダーの極表面の情報や極薄被膜の膜厚(0-20nm) を測定することもできます。 【特長】 ■真空中に持ち込めない、粉状や液体状の試料も測定可能 ■1回の測定時間はわずか5分程度 ■イオン化ポテンシャルを大気中で簡単に測定 ■膜厚（0-20nm）を測定可能 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お問い合わせください。
ヘテロ元素を含む試薬で特定の官能基を化学修飾し、導入したヘテロ元素から表面官能基の割合を評価した事例を紹介します。
【分析試料】4,4'-ジアミノジフェニルエーテル（DADPE）、OH 終端した Si ウエハ 【分析方法】XPS；単色化 AlKα線（アルバック・ファイ製 PHI5000 VersaProbe II） 【分析結果】 1. アミノ基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の C に対するアミノ基の割合は 19at%でした。 2. シラノール基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の Si に対するシラノール基の割合は 3at%でした。 【まとめ】 化学修飾した試料の XPS 分析によって表面官能基の割合を求めることが可能です。また、今回行った評価の他に、材料特性が異なる試料表面を分析して表面官能基の割合を比較することで、表面官能基が材料特性に与える影響を評価することも可能です。
全反射条件ではX線の侵入長が光電子の脱出深さよりも短くなるためHAXPESの検出深さはX線の侵入長で決まる！
硬X線光電子分光(HAXPES)は、これまで軟X線領域での測定が主流であった 光電子分光を硬X線領域で行うことでバルク敏感な測定が可能となり飛躍的な 進歩を遂げました。 一方で、表面状態の分析を目的としてX線の全反射条件下でのHAXPES測定も 行われています。 全反射条件ではX線が全反射臨海角で入射するため、物質中へ侵入できる深さが 制限されます。この特性をHAXPESに適用すると原子層レベルの界面酸化層や 偏析不純物の結合状態の分析が可能となります。 ※記事の詳細内容は、添付のPDF資料より閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
