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様々なニーズに対応可能！卓越した操作性、高感度測定を実現したXPS装置をご紹介
『K-Alpha』は、新しい技術の採用により、最高レベルの操作性と比類のない パフォーマンスを同時に実現した完全自動X線光電子分光装置です。 低出力・高強度のX線モノクロメーターを搭載しており、50μmから400μmまで 5μmステップで分析エリアを選択可能。 分析エリアを目的の試料サイズに調整することにより、最高レベルの 信号強度を得ることができます。 【特長】 ■高感度、高エネルギー分解能XPS測定 ■マイクロフォーカス型X線源による微小領域分析 ■試料鉛直方向からのリアルタイム試料観察機構 ■抜群の操作性と高スループット ■Thermo Scientific Avantageデータシステムによる 測定、解析、装置コントロールの統合制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
微小領域、多機能分析を実現！多機能オプションが搭載可能なX線光電子分光装置
『Nexsa』は、最高レベルのパフォーマンスと測定の完全自動化を 両立したX線光電子分光装置です。 新型モノクロメーターX線源は、高感度測定を維持しつつ5μmステップで 10～400μmまで測定することが可能。 高効率レンズ系と検出器のコンビネーションにより 高感度・高速のXPS分析を実現します。 【特長】 ■低濃度化合物や微小領域の測定が可能 ■最高レベルのパフォーマンスと測定の完全自動化を両立 ■多機能オプションが搭載可能 ■高感度・高速のXPS分析を実現 ■絶縁物の測定が容易に行える ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
研究室で最大0.1気圧環境下のオペランド測定が可能
EnviroESCAは試料を準大気圧（最大0.1気圧）環境下で測定し、従来のような超高真空環境を必要としません。液体・含水性試料はもちろん、揮発試料や激しく脱ガスする多孔質な試料でも、EnviroESCAの試料室に投入後、僅か数分後には測定を開始します。従来型XPSでは測定を諦めていた試料を分析できるだけでなく、雰囲気ガスや温度を自由に制御して新しい研究分野を開拓する強力な武器となります。現在急速に注目を集めている、デバイス動作環境下での測定、いわゆる“オペランド測定”も簡単に実現できます。超高真空環境を必要としないEnviroESCAであれば、短時間に多量の検査を必要とする生産ラインでの品質検査でも効率的に運用可能です。ロボット・オートローダーを使用して、無人で試料導入から測定までをバッチ処理することもできます。 X線光電子分光＝超高真空環境下の既成概念を払拭するEnviroESCAは、新奇の研究開発を牽引し、さらにX線光電子分光法に医療・バイオ・ライフサイエンスなど全く新しい活用の場を提供する装置です。
試料表面（数nm程度の深さ）の元素の種類、存在量、化学結合状態評価に有効
XPSは、Ｘ線照射により放出される光電子の運動エネルギー分布を測定し、試料表面（数nm程度の深さ）に存在する元素の種類・存在量・化学結合状態に関する知見を得る手法です。化学結合状態に関する知見が得られるため、別名ESCA : Electron Spectroscopy for Chemical Analysis とも呼ばれています。 ・固体表面（約2～8nm）の元素の定性・定量が可能 ・化学結合状態分析が可能 ・非破壊で分析が可能 ・深さ方向分布（イオンスパッタを併用）の測定が可能 ・絶縁物の測定が可能 ・雰囲気制御下での測定が可能
試料表面の組成の定性・定量や仕事関数評価に
UPSは、紫外光照射により放出される電子の運動エネルギー分布を測定し、試料極表面（数nm程度以下）の価電子状態に関する知見を得る手法です。その一方で、高いエネルギー分解能を利用して各種金属材料の仕事関数評価にも用いられています。 XPS分析と併せて測定が可能なため、試料表面組成の定性・定量や結合状態と仕事関数値との相関を調べることが可能です。
目的に合わせた測定条件で評価を行います
LEDやパワーデバイスに用いられるGaN膜について、XPSを用いて組成・結合状態を評価した例を紹介します。成膜条件や表面処理等により、組成や結合状態がどのように変わるのかを把握しておくことは、プロセス管理等に有効です。 評価の際は、目的に応じて使用するX線を適切に選択することが重要です。着目ごとの測定条件を併せてご紹介します。
バインダー・被膜から活物質まで、サンプル本来の状態のまま評価可能！
弊団では、二次電池正極の結合状態評価を行っております。 表面状態を分析する手法の一つであるXPSは、検出深さが浅い(～10nm) こと から、バインダーや導電助剤等の評価に好適。 HAXPESは硬X線(Ga線)励起で検出深さが深いため、バインダー等に埋もれた 活物質の情報をダメージレスに得ることが出来ます。 【測定法・加工法】 ■[XPS]X線光電子分光法 ■[HAXPES]硬X線光電子分光法 ■雰囲気制御下での処理 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
ヘテロ元素を含む試薬で特定の官能基を化学修飾し、導入したヘテロ元素から表面官能基の割合を評価した事例を紹介します。
【分析試料】4,4'-ジアミノジフェニルエーテル（DADPE）、OH 終端した Si ウエハ 【分析方法】XPS；単色化 AlKα線（アルバック・ファイ製 PHI5000 VersaProbe II） 【分析結果】 1. アミノ基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の C に対するアミノ基の割合は 19at%でした。 2. シラノール基の評価 ヘテロ元素である F に着目して解析を行った結果、試料由来の Si に対するシラノール基の割合は 3at%でした。 【まとめ】 化学修飾した試料の XPS 分析によって表面官能基の割合を求めることが可能です。また、今回行った評価の他に、材料特性が異なる試料表面を分析して表面官能基の割合を比較することで、表面官能基が材料特性に与える影響を評価することも可能です。
新型検知器の採用！板状・粉状のサンプルを25個まで自動測定できます
『AC-5』は、新センサ採用で1秒間で最大4000個まで光電子を 計数できる光電子分光装置です。 最大180mm×180mmの大型サンプルを装着でき、スポット指定測定で 任意の場所を測定可能。 また、オプションのサンプルチェンジャーで板状・粉状のサンプルを 25個まで自動測定ができ、Xe(キセノン)ランプを使用することで、 トナーなど電子が出にくい物質の高感度測定もできます。 【特長】 ■仕事関数・イオン化ポテンシャルが大気中で約5分で測定できる ■大きなサンプルの測定が可能(MAX180mm×180mm) ■連続測定が可能(1回最大25個) ■新型検知器の採用(1秒間の電子数の測定が当社比2倍に) ■粉体・液体の測定が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「誰もが、簡単に、直ぐに使えること」
日本電子株式会社 JPS-9030 光電子分光装置(XPS)は、日本語環境で操作できる新設計のユーザーインターフェースを採用し、「誰もが、簡単に、直ぐに使えること」を実現しました。また、カウフマン型エッチングイオンソースやツインアノードを標準装備の上、汎用XPSでありながら高温加熱システムやガスクラスターイオンソース等幅広い拡張性も備えています。 〇特長 ・nmからμmまで幅広い目的に対応したデプスプロファイル (深さ方向分析) が可能 ・使いやすさを追求した新開発ソフトウェア ・ハイエンド機に匹敵する超高感度 ・豊富なオプション ※詳細はPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
全反射条件ではX線の侵入長が光電子の脱出深さよりも短くなるためHAXPESの検出深さはX線の侵入長で決まる！
硬X線光電子分光(HAXPES)は、これまで軟X線領域での測定が主流であった 光電子分光を硬X線領域で行うことでバルク敏感な測定が可能となり飛躍的な 進歩を遂げました。 一方で、表面状態の分析を目的としてX線の全反射条件下でのHAXPES測定も 行われています。 全反射条件ではX線が全反射臨海角で入射するため、物質中へ侵入できる深さが 制限されます。この特性をHAXPESに適用すると原子層レベルの界面酸化層や 偏析不純物の結合状態の分析が可能となります。 ※記事の詳細内容は、添付のPDF資料より閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
Si基板上のSiO2表面酸化膜について、光電子分光から酸化膜厚を算出！
酸化膜の形成プロセスにおいて、酸化膜厚の制御は非常に重要な項目の1つです。 そこで、光電子分光を用いて表面酸化膜の膜厚を非破壊で見積りました。 表面が薄い酸化膜で覆われているような試料の場合、多くの元素の光電子ピークは 酸化物成分と基板成分に対応して2つのピーク構造を示します。各成分のスペクトル 強度を測定することによって酸化膜の膜厚を見積ることができます。 非破壊にて膜厚を求める分析手法はいくつかありますが、他の手法に比べ、 特定箇所の膜厚の見積りが可能であるところが、この手法の特長です。 ※記事の詳細内容は、添付のPDF資料より閲覧いただけます。 詳しくは、お気軽にお問い合わせください。
光電子のエネルギーおよび強度を測定することにより、原子の同定・定量が可能！
「X線光電子分光(XPS)」は、数nmレベルの極表面の組成分析が行える 表面分析手法です。 材料を構成する各元素の電子状態(化学結合・価数・混成・電子相関)も 評価可能であり、中和銃を用いることで絶縁物表面も測定可能であるため、 種々の材料表面の解析に広く利用されています。 ご用命の際は、当社へお気軽にお問合せください。 【特長】 ■数nmの最表面の組成分析(Li～)が可能 ■感度は、0.1atomic％程度 ■電子状態分析(化学結合・価数・ギャップなど)が可能 ■絶縁物・有機物の測定が可能(非破壊分析) ■測定領域は、数十～数百µmφ ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
材料の最表面をXPS（X線光電子分光法）によって評価することで、お客様の材料評価を支援いたします。
X線光電子分光法（XPS）は、様々な分野の開発、品質管理において不可欠なツールです。お客様の製品の性能向上、不良原因の究明、そして次世代材料の開発に、XPSをご活用ください。XPSは、試料の極表面（数nm）にX線を照射し、そこから放出される光電子のエネルギーを精密に分析することで、以下の情報を明らかにできます。 (1)構成元素の特定: リチウム（Li）からウラン（U）までの幅広い元素を分析できます。 (2)深さ方向分析: アルゴンスパッタリングを併用することで、表面から深さ方向の元素組成を評価できます。薄膜の膜厚評価や界面分析に有効です。 (3)大気非暴露分析: 特殊な装置を用いることで、大気に曝すことなく試料を分析できます。これにより、大気中の成分による表面汚染や変質の影響を防ぎ、真の表面情報を取得できます。 (4)絶縁物の測定: 幅広い材料の分析が可能です。
XAFSとXPSの複合解析によって高精度なバンドギャップ評価が可能
薄膜試料のバンドギャップはこれまでUV-Vis・PL・XPSなどの分析手法で測定されてきましたが、材料・膜厚・基板などの試料構造の制約から評価可能なケースが限られていました。 今回、XAFSとXPSの複合解析によって、試料構造の制約を少なく、かつ従来よりも高精度なバンドギャップ評価が可能となりました。本手法は特に各種酸化膜・窒化膜の評価に対して有効です。 本資料では窒化シリコン（SiN）膜のバンドギャップ評価事例をご紹介します。 測定法：XAFS・XPS 製品分野：太陽電池・照明・酸化物半導体・パワーデバイス 分析目的：電子状態評価 詳しくは資料をダウンロード、またはお問い合わせください。
