粉体表面への真空蒸着装置
粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。
蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。
- 企業:株式会社マイクロフェーズ
- 価格:500万円 ~ 1000万円
更新日: 集計期間:2025年08月06日~2025年09月02日
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粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。
蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。
コンパクトな外観と優れた内部機構
大学などの各研究機関の実験装置をはじめ小ロットの生産装置として最も汎用性の高い装置として設計された、真空蒸着装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント(成膜ソース、ステージなど)、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または7”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE(最大4源)、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE(最大2源)を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink(インテリリンク)」付属:USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合わせてフレキシブルに構成
必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ(最大3源)もしくは抵抗加熱蒸着(金属源 最大4、有機材料x4)に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能(オプション 要仕様協議) ◉ その他オプション: 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
真空蒸着装置の紹介です。
○FZ Juelich Cluster -Installed at the HNF (Helmholtz Nanofabrication Facility) Juelich, Germany ○IQC Cluster Tool -Installed at the Institute for Quantum Computing at the University of Waterloo, Canada ○EIT+ Cluster Tool -Installed at the Wroclaw Research Centre EIT+, Wroclaw, Poland ○UTD Cluster Tool -Installed at the University of Texas at Dallas, USA ○FW Dresden Cluster ○ Materials Innovation Platform Materials Innovation Platform ※各装置の詳細はお問い合わせください。
実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで可能な薄膜製造装置
ユーザーの立場より開発された薄膜製造装置は、ジョブコーターとしての経験をふんだんに装置に織り込み、ユーザーの立場で設計し、お客様とディスカッションしながら組み上げていく「オーダーシステム」をとっています。小型の実験用・少量生産用機から、大容量加工機まで種々のタイプをそろえています。 私どもの装置はすべてオーダーメードです。多様な蒸発源を持っておりますので何をどのくらいどのように加工したいのかを伺いながら装置の設計を進めてまいります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
リフトオフ・厚膜・低温成膜対応 昭和真空の技術を結集させた最上位モデル
多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
全機種オーバーホールして完全稼動した状態で納品しております
株式会社グリーンテックでは、完全オーバーホールを実施して性能 確認した中古真空機器・装置の販売・メンテナンス及びレンタルを 行っております。 取扱商品はスパッタ装置・真空蒸着装置をはじめとして、Heリークディ テクタ等の計測器や電源・電子銃・真空計・ポンプ等の単品も販売して おりますので、ご要望の際はお気軽に、お問い合わせください。 【特長】 ■販売品在庫数豊富 ■完全オーバーホールを実施 ※詳しくは、お問い合わせください。
機種選びから消耗品供給、アフターフォローまで安心して任せられる万全のフロー
当カタログは、真空蒸着装置の製造・販売の専門メーカーである 株式会社クラフトの総合カタログです。 (※株式会社プロスタッフは、株式会社クラフトを販売メーカーとし、 プロスタッフは製造部門として一翼を担っております。) 自動真空蒸着装置[オーダーメイド]CAPシリーズといった製品の掲載を はじめ、メンテナンスメニュー・加工品の紹介など幅広く掲載しております。 【掲載内容】 ■自動真空蒸着装置[オーダーメイド] ■リフレッシュ品[中古品] ■装置メンテナンス ■部品メンテナンス ■蒸着部材・加工品 など ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
さまざまなチャンバーサイズやプロセス・自動化を選択可能なBAK蒸着プラットフォームをご紹介
新しいレベルの柔軟性とプロセス制御を備えた蒸着機である『BAKファミリー』は、パワー デバイス、ワイヤレス、LED、MEMS、およびフォトニクス向けに単に蒸着作業を提供するだけでなく、基板の自動交換と高スループットを実現する新世代蒸着装置です。 大学や研究機関向けのコンパクトなBAK501から、大量生産用のMulti BAKまで研究開発から量産まですべてのお客様に適したBAKをご提案可能です。 【特長】 ■0.5m~2.0mの蒸着距離を選択可能 ■多元材料を真空破壊なしに使用可能な柔軟性の高いプロセス ■ロードロックやローディングロボットを組み込んだ全自動式も選択可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
LED 用光学多層 DBR 膜の成膜に最適!
Sapio-DBR(SGC-S1550i/S1300iシリーズ)は、LED用光学多層DBR膜用に特化した真空蒸着装置で、ドーム内の均一性が良く、生産効率の向上を図ることが可能です。 LED用光学多層DBR膜の成膜に最適です。 【特徴】 ○優れた量産性能 →基板搭載数:φ2inchウェハー約400枚/batch φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト:3h/batch 以内 →必要設置エリア:W4.6m×D6.3m×H3.2m ※SGC-S1550i 使用時 ※水晶式膜厚計の脱着の際には 工場側天井パネルの取外し等が必要な場合がある ○優れた再現性 連続batch保証も対応 ○膜質の調整が可能 Chippingによる膜の損傷を抑制するための 条件補正も協力できる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。