更新日： 集計期間:2026年04月08日～2026年05月05日
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「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介
金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。
半導体モールド金型用セルテスXコーティングは、先進の真空プラズマ技術による低温PVDコーティングです。PBS（プラズマブースタースパッタリング）プロセスにより成膜された２～５μｍの窒化クロム被膜（CrxNy）はビッカース硬さ1800以上で、シリカ粒子によるアブレシブ摩耗に対してすぐれた耐摩耗性を示します。また鋼母材では、放電加工面上の被膜の脱膜再コーティング加工も可能です。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
2波長による紫外線とオゾンのダブル効果で有機汚染物質を除去！
『UVオゾンクリーナー』は、ダメージフリーの乾式洗浄法で、基板に付着 している有機汚染物質を、光化学的酸化分解プロセスによって除去できます。 洗浄室内が0.02MPaの加圧状態に保持することができる安心の密閉構造です。 また、その他の機種では標準装備のオゾンキラー（オゾン分解装置）に 接続することで、外部へのオゾン漏れを防ぎます。 【特長】 ■超音波洗浄だけでは除去できなかった基板上の有機汚染物質を容易に除去 ■湿式洗浄で使用した有機溶剤も除去 ■基板表面に損傷を与えないで、有機汚染物質の除去が可能 ■薄膜の製膜が容易 ■大気圧で使用可能な、真空装置不要のドライクリーニング装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新の真空蒸着技術の全てを収納しました。
OLED, OPV, OTFT等の有機材料用・温度応答性/安定性に優れた高性能有機ソースLTE（最大4源）、交換・メンテナンスが容易に行える金属蒸着ソースTE（最大2源）を採用、手動運転モードから、自動連続多層膜、同時成膜の自動モードでの運転も可能です。 コンパクトサイズにも関わらず、基本性能・膜質・均一性・操作性の全てを犠牲にせず、スタンドアローン大型機と同様の性能を実現しました。 更に簡単タッチパネル操作でPLC全自動制御。 難しい操作手順を必要とせずどなたでも直感的に操作ができる分かりやすいHMI。 リモートソフトウエア「IntelliLink（インテリリンク）」付属：USBケーブルでWindows PCに接続し、装置運転状況モニター、ログ保存、オンライン/オフラインレシピ作成保存、故障解析などが可能です。 限られた開発現場・ラボスペースを最大限有効活用ができる省スペース設計・メンテナンス性にも優れたコンパクトサイズ真空蒸着装置です。
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ・最大基板サイズ：Φ11inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4元 ・有機蒸着源 x 最大4元 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4元 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃, Max1000℃） ・プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング
UV/O3クリーナー・UVオゾンクリーナー
UV-1は、フォトレジストアッシング、シリコンウエハークリーニング、クロムマスククリーニングなど各種半導体プロセスの完全ドライ処理を高濃度オゾンと紫外線照射の相互作用で効率よく行うことを目的として開発された研究開発用の洗浄装置です。
耐凝着性に優れた硬質薄膜WIN KOTE -表面処理・コーティング技術-
▶表面処理・溶射・コーティングならトーカロにお任せください！ WIN KOTEは摺動性に優れ、アルミニウムや銅などの軟質金属の凝着を抑制します。 【WINKOTEの特徴】 ● 耐凝着性 ● 高硬度 ● 摺動性良好 ● 低温施工 【資料掲載内容】 ●特徴 ●施工例・装置外観 ●各種試験結果 ・凝着性比較試験結果 ・耐久性比較試験結果 ●本技術のねらい ・缶製品搬送用ガイド ・箔製品搬送用ロール 【資料ダウンロードはこちら】 https://tocalo-download.satori.site/tpr027-00?source=ipros
透過率80％以上、シート抵抗8Ω／□以下のFTOを成膜！卓上タイプで実験室や開発現場で活躍する成膜装置 ※カタログ＆サンプル進呈
SPD方式の小型低コスト成膜装置（薄膜製造装置）シリーズです。 SPDの装置は、真空でなくとも生成できるため、クリーンルームも必要なし。 また、設備も卓上タイプでコンパクトなため、実験室や開発現場での使用に最適です。 【特長】 ■卓上タイプのコンパクトな薄膜製造装置 ■非真空のため、クリーンルームも必要なし 【ラインナップ】 ■KM-300 ■KV-25 ■KV-50 ■KM-150 ■KV-100 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
中国、バングラディッシュ、日本の生産拠点をもち、小ロット・多品種・短納期可
CBCグループは、世界に25カ所以上の営業拠点がある光学製品メーカーです。中国、バングラディッシュ、日本の生産拠点それぞれの特長を生かして、自社ブランド品をはじめ、様々な光学部品、光学製品の受託生産を行っています。CBCオプテックス株式会社は、多層膜コート設計、少ロット試作、量産に対応しております。 【取扱製品（一部抜粋）】 ○反射防止膜 ○バンドパスフィルター ○ダイクロイックミラー／フィルター ○レーザーミラー その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
半導体・電子デバイス・燃料電池・ディスプレイなどの研究開発用各種実験装置、薄膜実験装置を紹介。
研究開発分野向け、各種薄膜実験装置・コンポーネントを紹介します。 【nano Benchtopシリーズ】 ハイパフォーマンス！nano Benchtopシリーズ薄膜実験装置 コンパクトサイズに、高機能・ハイスペックな薄膜装置を収納 【MiniLabフレキシブル薄膜実験装置】 多彩な装置構成、必要なコンポーネントを要求仕様に合わせて組み合わせ構成する「フレキシブル実験装置」
受託加工専業30年を超える実績！技術の向上で、更なるイノベーションへ！
東邦化研株式会社では、表面処理に最適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 特に導電性・絶縁性等の機能性膜に重点を置き、試作・開発・研究・大量生産・小ロット生産までの、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えております。 お見積りから加工まで、迅速・確実な対応を心がけ、且つリードタイムの短縮に貢献します。 【事業内容】 ■イオンプレーティングと真空蒸着による薄膜の受託加工サービス (機能性膜の作製、表面改質、薄膜加工全般の受託請負) 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
高精度・短納期・少量多品種などお客様のご要望に対応いたします！
株式会社和絋工業は、主にガラス製品薄膜加工を行っている会社です。 当社では薄膜コーティング技術で最先端情報機器の発展に貢献しています。 また、高精度・短納期・少量多品種などお客様から寄せられる様々な ご要望にきめ細かに対応いたします。 真空蒸着装置や測定器、環境試験機など新鋭設備で信頼にお応えいたします。 【主な事業内容】 ■ガラス製品薄膜加工 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに金属蒸着・有機蒸着・スパッタカソードを設置
抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2. スパッタカソード + 有機蒸着源x2 3. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ） ・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ） ・基板回転、上下昇降ステージ ・Max500℃基板加熱ヒーター ・水晶振動子膜厚センサー ・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリモート監視ソフト付属）
柔軟な対応と30年の実績！多岐に渡るご要望に応える、高機能受託加工サービス
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング・真空蒸着・P-CVD・スパッタによる、導電性、絶縁性、耐蝕性などの機能性薄膜の受託加工サービスを行っております。 様々な機能性薄膜を、試作から生産まで対応しております。 膜種・膜厚・成膜条件・対応基板(材質、サイズ、形状)への柔軟な対応と、35年の実績をもとに、マスキング成膜やメタルマスクでのパターン形成にも対応いたします。 お気軽にご相談下さい。 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式コンポーネント・制御機器設計によりバリエーションが豊富、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026/090）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-070/080）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み立てることができるセミカスタムメイド薄膜実験装置
コンパクト/省スペース、ハイスペック薄膜実験装置 下記蒸着源から組合せが可能 ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ・有機蒸着源 x 最大4 ・電子ビーム蒸着 ・2inchマグネトロンスパッタリングカソード x 4 ・プラズマエッチング：メインチャンバー、ロードロックチャンバーのいずれでも設置可能 【スモールフットプリント・省スペース】 ・デュアルラックタイプ（MiniLab-070）：1200(W) x 590(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
小型・省スペース! 有機薄膜開発に好適 蒸着・スパッタ・アニール等全ての作業をグローブボックス内でシームレスに行う事ができます。
OLED（有機EL）, OPV（有機薄膜太陽電池）, OTFT（有機薄膜太陽電池）, 又, グラフェン, TMD（遷移金属ダイカルコゲナイド）などの2D材料における成膜プロセスでは、酸素・水分から隔離された不活性ガス雰囲気で試料を取扱う必要があります。 MiniLab-026/090-GBでは、PVDチャンバーをGB内に収納することにより有機膜用途の「酸素・水分フリー」実験環境をコンパクトな省スペース環境で実現します。 【特徴】 ◉ PVD成膜、スピンコート塗布・ホットプレートベーキングなど一連の作業を外気に晒すことなく、GB内でシームレスに行うことができます。 ◉ 省スペース：背面にチャンバーがせり出しませんので、スペースを取りません。 【MiniLab対象】 ◉ MiniLab-026（26ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ◉ MiniLab-090（90ℓ容積）：金属/絶縁物/有機材料蒸着、EB蒸着、スパッタリング、プラズマエッチング、アニール ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な「複合型」薄膜実験装置 nanoPVD-ST15A
nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。 顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。 ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。 真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソフトウエア付属：Windows PCとUSBケーブルで接続しリモート監視、オフラインレシピ作成・ダウン＆アップロード、ログ保存 新素材・新材料開発、及び半導体・電子部品・燃料電池・大陽電池などの先端基礎技術開発部門でのさまざまなアプリケーションに対応致します。
精密金型と摺動部品の耐久性向上のための硬質薄膜コーティング受託加工
ナノコート・ティーエス株式会社は、精密金型や摺動部品の耐久性向上を目的とした硬質薄膜コーティングの受託加工を専門としています。PVD（セルテス）やハイブリッドDLCコーティング、表面分析サービス、さらには大阪事業所での塩浴軟窒化加工など、幅広い表面処理技術を提供。薄膜作成技術、真空・プラズマ技術、薄膜評価試験、トライボロジーをコア技術として、高品質な製品をお客様に提供しています。
メンテナンス工数と刃物交換頻度を低減する非粘着処理
刃物への粘着付着は、清掃作業や交換頻度の増加を招き、現場の負担やコスト増加の要因となります。NonStick STCの適用により、粘着剤の付着を抑制し、清掃回数の削減と刃物寿命の延長を実現。結果としてメンテナンス工数の削減と設備稼働率の向上につながります。工程改善とコスト削減を同時に実現したい現場に適したコーティングです。 NonStick STCに関する技術相談・試作検証は当社までお気軽にお問い合わせください。
優れた技術力！高品質の結合スパッタリングターゲットを提供するFHRについてをご紹介
FHR Anlagenbau GmbHは、真空プロセスおよび薄膜技術の分野における 革新的な企業です。 1991年にドイツのドレスデンにおいて薄膜の複数アプリケーション向けに 新しいコンセプトとソリューションの開発と販売を目的として開発と設計に 優れた技術力を持ったエンジニアのグループによって設立されました。 FHRは薄膜技術を提供し、世界中の顧客に幅広い用途向けにカスタマイズ された機器を提供しています。 【FHRテクノロジーポートフォリオに含まれるもの】 ■マグネトロンスパッタリングとCVDによる高度なメタライゼーション技術 ■酸化物および窒化物の堆積のための反応性スパッタリング技術 ■高密度プラズマ源のサポートによる高度なエッチング技術 ■半導体、金属、セラミック、ナノ構造、フォトニック材料の処理と改質の ためのフラッシュランプアニーリング（FLA） ■複雑な3D形状において高度な成膜制御により優れた均一性を持った 単層結合のための原子層堆積（ALD）技術 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
薄膜コーティングで親水性を付与できる『ナノプロセス HPシリーズ』 曇り止めや防汚で効果を発揮します。
『ナノプロセス HPシリーズ』は親水性に優れ、 曇り止めや防汚、防湿、防錆効果に貢献する薄膜コーティングになります。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでコーティングが難しかった『精密部品』や、 『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈用途例〉 ・部品、機器類の防汚 ・給水ローラーの親水化による水持ちの改善 ・ガラスの親水化による防曇性付与 ・結露防止 etc また、ナノプロセスはその他3つの新しい機能で リニューアルを行っており、それぞれで特長・用途が異なります。 【各シリーズの特長】 ■TC-10S 精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれる ■TLSシリーズ ガムテープのような粘着物の非粘着性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる 現在、各シリーズの詳細をおまとめした技術資料を進呈しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
撥水性・撥油性・非粘着性・液滑落性などを追求した超薄膜コーティングプロセス！現在新シリーズをまとめた特性データ付き資料を進呈中
超薄膜表面処理『ナノプロセス』はナノレベルから１μｍ程度の薄い膜でコーティングし、撥水性・撥油性・非粘着性・液滑落性などを向上させます。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や、『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈対応可能な高い表面精度を必要とする業界例〉 半導体 自動車 電池 電子部品 医療機器 etc また、ナノプロセスは4つの新しい機能でリニューアルを行っており、 それぞれで特長・用途が異なります。 【各シリーズの特長】 ■TC-10S 100nmの精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性に優れる ■TLSシリーズ ガムテープの様な粘着物の非粘着性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在、全シリーズの特徴や機能をおまとめした特性データ付き資料を配布しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
水・油の液滑落性に優れた超薄膜コーティング！
『ナノプロセス NCFPCシリーズ』はフッ素樹脂コーティングと比較し、水・油などの液滑落性に優れ、液切れ・液流れを改善する超薄膜フッ素コーティングになります。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や、『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈用途例〉 ・水、油の液切れの改善 ・水・油の液流れの改善 ・軸受け部品のオイル拡散防止 etc また、ナノプロセスはその他3つの新しい機能で リニューアルを行っており、それぞれで特長・用途が異なります。 【各シリーズの特長】 ■TC-10S 精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれる ■TLSシリーズ ガムテープのような粘着物の非粘着性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在、各シリーズの詳細をおまとめした技術資料を進呈しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
低温成膜の為、各種材料へのDLC(TAC)の成膜可能！耐磨耗性、耐スクラッチ性を大幅改善！金属材料からプラスチック材料へ置換えに
プラスチック材料やセラミックス材料へのコーティングが難しかったDLC (ta-C)膜の成膜が可能になりました。 低温でコーティングを行っているため、基板材料の変形、変質もありません。 更に、DLC(TAC)上に装飾膜（金属膜）をコーティングすることにより 高級感あふれる高硬度膜を提供することが出来ます。 DLC(TAC)だけでなく、金属膜のコーティングも可能です。 【特長】 ■低温成膜 ■キズ付き防止 ■DLC(TAC)＋装飾膜が可能 ※詳しくはPDFをダウンロード、もしくはお問合せください。
精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれた薄膜コーティング。新シリーズをまとめた技術資料を進呈中
『ナノプロセス TC-10S』は100μm以下の薄膜コーティングが可能で 精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性にすぐれています。 寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や、『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈用途例〉 ・電子機器、電子部品のシールや撥水処理 ・光学レンズの撥水 ・軸受け部品のオイル拡散防止 ・シール部品のオイルスラッジ防止 etc また、ナノプロセスはその他3つの新しい機能でリニューアルを行っており、 それぞれで特長・用途が異なります。 【各シリーズの特長】 ■TLSシリーズ ガムテープのような粘着物の非粘着性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在、各シリーズの詳細をおまとめした技術資料を進呈しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
粘着物がくっつかない非粘着性に優れた薄膜コーティング。刃物の粘着防止に役立ちます。
『ナノプロセス TLSシリーズ』はガムテープのような粘着物をくっつかなくする 非粘着性に優れた薄膜コーティングになります。 膜厚は1μm程度の薄膜が可能となり、寸法変化をほとんど起こさず、光学特性を維持できることから、 これまでフッ素樹脂コーティングが難しかった 『精密部品』や、『高い寸法・表面精度を必要とする分野』での加工が可能となっております。 〈用途例〉 ・ガムテープのような粘着力の高い製品の非粘着性 ・電子部品の封止材の付着防止 ・ホットメルト接着剤の付着防止 ・シリコーン粘着剤の付着防止 など また、ナノプロセスはその他3つの新しい機能でリニューアルを行っており、 それぞれで特長・用途が異なります。 【シリーズの特長】 ■TC-10S 精密性・可視光線透過率・撥水性・撥油性に優れる ■NCFPCシリーズ 水・油の液滑落性に優れる ■HPシリーズ 親水性に優れる 現在シリーズの詳細をおまとめした技術資料を進呈しております。 詳細が気になる方、精密分野で表面処理にお困りの方は 資料をダウンロードをいただくか、弊社まで直接ご連絡ください。
【受託コーティング加工】光学部品用『金型』の離型性をUPできる独自技術の表面処理技術！持ち込みサンプルテスト可
有機ナノ薄膜処理技術 「NANOS（ナノス）」は、特殊なフッ素系高分子をスプレー処理・真空蒸着によってステンレス（SUS)やニッケル（Ni）などの金属やガラス基材に対して、撥水性・撥油性・防汚性（耐指紋性）・滑り性（動摩擦係数）向上などの機能膜を付与することが出来る技術です。 プロセス全体の最高温度が80℃と基材への熱影響が小さく、無色・透明のため、光学特性への影響もほとんどありません。 【採用例】 ■対象：スタンパ金型 ■目的：離型性向上、タクトタイムの短縮 【特徴】 ○優れた撥水性・撥油性 純水：110°以上・n-ヘキサデカン：68°以上 ○薄い膜厚をコントロール可能 スプレー処理：5～10nm（任意に１nm刻みでコントロール） 真空蒸着：5～45nm（任意に5nm刻みでコントロール） ○光学特性への影響が少ない（無色・透明） ○低温プロセス 弊社の表面処理方法には、蒸着とスプレー方法の２つがございます。処理方法の指定はもちろん、お任せいただいても構いません。ぜひ一度ご相談ください！(機械本体の販売については要相談)
