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信頼性の高いシステムを構築！メンテナンスや改造も当社にお任せください
当社は30年以上真空技術に携わり、ユーザー様の仕様に合わせた製品を 主に研究機関に提供してまいりました。 2系統のガス導入が可能な「RFマグネトロンスパッタ装置」や 安価で手軽に薄膜作製が可能な「小型真空蒸着装置」など 真空成膜装置を多数ラインアップ。 その他「真空チェンバー」や「ターボ真空排気装置」などの 各種研究用装置もご用意しております。 ご用命の際はお気軽にご相談ください。 【特長】 ＜真空成膜装置＞ ■装置の拡張性を考慮 ■経済性なシステムとなるよう設計 ■簡易・小型のものから1mを超えるターゲットサイズも対応 ■実験から生産まで幅広い分野で実績あり ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
光学顕微鏡試料（透明材料）又は、SEM試料のためのメタルコーティング装置です。業界最小モデル。超小型のコーティング装置です。
マグネトロン電極により極めて低い電圧でコーティングします。 シンプルなのに非常に光沢のある金属膜がワンタッチでコーティングできます。 試料をセットします。コーティング厚さに応じてタイマーをセットします。スタートボタンを押すと予備排気からコーティングまで自動的に進行します。コーティングが終わるとRPが止まり、自動的にエアリークされます。
電子顕微鏡の試料に導電膜処理を施す為に。マグネトロンスパッタ装置。
マグネトロンスパッタ装置 ＭＳＰ－２０ＵＭは電子顕微鏡の試料に導電膜処理を施す装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。様々な用途に対応することを可能にする調整機能を装備。 アルゴンガス等の導入・圧力調整機能を装備しています。膜純度の向上に活躍します。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
SEM試料のために。試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－１Ｓは低電圧でコーティングするとともに試料台がフローティング式なので試料損傷がありません。試料に優しいマグネトロン方式イオンコータです。小型で場所をとりません。机の片隅で活躍します。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。
マグネトロンスパッタ装置 ＭＳＰ－２０－ＴＫは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のタングステンコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化。
マルチ成膜装置VEＳ－１０は親水処理・蒸着装置・イオンスパッタの機能を完全一体化した小型卓上装置です。シャーペンの替え芯を蒸着。マグネトロンターゲットで低ダメージスパッタ。イオンスパッタと親水処理の操作は全自動。排気開始からコーティング終了まで自動で行なえます。機能切替はボタン一つで楽々。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
独自の冷却水の経路により、マグネトロン全体を、常時、一定温度で冷却可能です
当社では、矩形タイプの『IONIX（R） マグネトロンスパッタソース』 を取り扱っております。 内部・外部での取付けが可能。独自の冷却水の経路により、 マグネトロン全体を、常時、一定温度で冷却出来ます。 さらに、KF、ISO、CF接続が可能なほか、独自の磁極配置で、 UMBS配列にも対応します。 【特長】 ■全体を、常時、一定温度で冷却 ■内部・外部での取付け可能 ■KF、ISO、CF接続が可能 ■独自の磁極配置で、UMBS配列にも対応 ■ターゲットに負担を掛けない冷却構造で、ターゲットの変形を防ぐ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能
『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。 多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 （ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。 また、アシスト用プラズマ源も対応可能（ECR、ICP、他）です。 【特長】 ■三種のターゲットを同時に成膜可能 ■多元同時スパッタ以外にも、様々な使い方に対応 ■実験内容や予算に応じてカスタマイズ可能 ■アシスト用プラズマ源も対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
マグネトロンスパッタ、熱蒸着、EBに対応！IoT・車載デバイスの開発向け複合成膜装置
『R＆D向けPVD』は、開発向けマルチ成膜装置です。 マグネトロンスパッタ、熱蒸着、EBに対応。 ワールドワイドで納入実績は、400台以上を誇ります。 モジュール設計により、ご希望に応じた組合せが可能です。 【特長】 ■R＆Dに特化した開発用成膜装置 ■著名な研究所、大学、企業など納入実績400台以上 ■マグネトロンスパッタ、熱蒸着、E-Beamの組合せが可能 （改造により組合せも変更可能） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試料部分は断熱のため真空に引いて使用！透過測定用加熱ステージUNIT
『TP-HEA-1』は、テラヘルツ分光装置「TeraProspecor」に搭載可能な 透過測定用加熱ステージUNITです。 試料部分は断熱のため、真空に引いて使用します。真空引きは試料を セットした後に手動にて行ない、真空で封じ切ったUNITを試料室に セットして測定します。 温度は試料を接触させる金属部の温度をモニターし、電熱ヒーターより制御。 排熱用にチラーを使用し、冷却水を循環して使用します。 【特長】 ■試料部分は断熱のため、真空に引いて使用 ■温度は試料を接触させる金属部の温度をモニター ■排熱用にチラーと冷却水を循環して使用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
テラヘルツ分光装置に搭載可能！試料による偏光の影響を測定するためのステージ
『TP-POL-1』は、テラヘルツ分光装置「TeraProspecor」に搭載可能な 試料による偏光の影響を測定するためのステージです。 入射および検出信号の水平偏光成分以外をカットするための偏光子と、 挿入した試料を回転させることができる試料ホルダーから構成されます。 【仕様】 ■型式：TP-POL-1 ■試料回転角：360°（手動で任意の角度に設定可能） ■消光比：＜10-4 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
各種デバイス・センサー用膜厚電極としても作成可能なマグネトロンスパッタ装置
ラボテック株式会社 の『LA-S2020』は、 対向平行円板型の2インチマグネトロン方式DCスパッタ装置です。 非導電性試料(サンプル)を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察する際の、 金属(Au/Pt etc)コーティングが可能です。 各種デバイス・センサー用薄膜電極(50nm 以下)の作製が可能なスパッタ装置です。 短時間に簡単な操作で効率の良いグロー放電が得られ粒状性に優れたスパッタ膜が作製可能です。 【特長】 ■簡単な操作 ■高効率 ■低コスト ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
低ダメージでオスミウムをコーティング可能！
当社では、観察倍率が高いSEM試料やデリケートな有機材料、複雑な 凹凸構造を持つ試料に低抵抗のオスミウム金属（非晶質&微細粒子）を コーティングし、導電処理を行う装置『オスミウムコーター』を取り扱っております。 「ホローカソード試料台による低電圧放電CVD法」を採用。 ホローカソード円筒内全域に高密度プラズマが発生し、均一にコーティングが 可能なため、試料サイズや試料高さでお悩みの方にもおすすめです。 【ラインアップ】 ■HPC-1SW ・CHサイズ：内径120mm×高さ90mm ・試料サイズ：φ95mm、高さ40mm ■HPC-20 ・CHサイズ：内径120mm×高さ77mm ・試料サイズ：φ95mm、高さ45mm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる 膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
1辺25mmトライアングルの有効エリア！単一基板に数百条件分の組成分布を形成します
『CMS-6420』は、PLD法では実現しにくかった成膜面積の拡大を図るべく 開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどの ライン後工程に投入できることから、成膜のみならず解析までを ハイスループット化できます。 【特長】 ■プロセスラインに適合可能な4インチウエハ対応 ■有効エリア：1辺25mmトライアングル ■2元＆3元コンビ成膜に対応 ■LabVIEWレシピ入力＆自動成膜 ■最大6元構成(マトリクス用2インチカソード6基) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレードアップ
『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の 卓上型マグネトロンスパッタ装置です。 基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで 構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの 拡張オプションにより、研究ステージに合せて グレードアップしていただくことが可能です。 【特長】 ■初期導入コストを抑え、後の拡張で高性能化が可能 ■基本仕様でアルゴン用MFCを備えており、ガス流量を精密に制御 ■成膜方向は試料へのゴミ付着を防止するためにデポアップを採用 ■卓上タイプながら真空シール性の高いSUSチャンバを採用 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ＣＶＤ－ＤＬＣと硬質膜用ＰＶＤの複合型コーティング装置。スムースサーフェスのＰＶＤ膜＋ハイレートＤＬＣ。硬度＋トライボロジー薄膜
自動車用のＤＬＣ膜に実績豊富なＰＩＧ式ＤＬＣ膜コーティング装置に高密度スパッタカソードＡＤＭＳ機構（アーク放電型マグネトロンスパッタリングカソード）を多元追加。トライボロジー特性に優れたＤＬＣ膜に硬質合金膜を積層。スムースな表面を持つ新硬質コーティングを実現。 従来のＤＬＣ膜も新カソードの機能を追加し性能UP。 密着力。耐面圧の向上を容易に実現 もちろん従来のPIG式ＤＬＣ膜コーティング装置は機能追加でシステムアップＯＫ ＣＶＤ／ＰＶＤ単体性能も充分発揮できる最新型新機能硬質膜コーティング装置
鉄鋼試料用 発光分光(OES)前処理 半自動ベルト研磨装置 SAB-2-200
各種鉄鋼試料に対応した半自動ベルト研磨装置です。 試料を所定の位置に置きスタートボタンを押すだけで1サイクル自動運転を行います。 オペレータの方が稼働中の装置に触れる必要のない安全な装置です。 試料はベルト回転に対して垂直方向に往復し研磨を行い、 ベルトの中央部だけでなく両端まで使用することでランニングコスト削減に寄与します。 試料押さえ圧力や試料往復回数は任意に設定できるため、 試料材質やベルトの状態によって条件の変更が可能です。
最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP)
『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンの マグネトロンスパッタ装置です。 アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、 光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。 また、プロセスはマグネトロンスパッタとなっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板 ■回転式単体マグネトロン(最大径300mm) ■共焦式4マグネトロン ■ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer FEP) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
試料搬送装置
本製品、試料搬送装置（Sample Carrying System：KSC-1000）は試料導入室を兼ね備えた搬送装置です。 複数の真空システム間において超高真空領域を保ったまま試料搬送が行え、将来的に真空システムの増設・拡張が容易です。 また標準で６連の試料搬送キャリアを備え試料ストッカーとしても最適で付属の過熱機構にて試料表面のクリーニングが可能です。
スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能
「超高真空対応マグネトロンRFスパッタソース」は超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。 本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。 【特徴】 ○Oリングを使用しない超高真空タイプ ○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能 ○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能 ○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能 ○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、 ガス導入用のフランジは不要 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能
本スパッタソースは超高真空対応の汎用型小型マグネトロンスパッタソースです。 本体がすべてベーカブルであるため、反応性の高いターゲットでも、不純物の少ない成膜が可能です。 【特徴】 ○Oリングを使用しない超高真空タイプ ○スパッタソースを超高真空に保持したまま、マグネットの取り外しが可能 ○マグネットを取り外すことにより、300℃までのベーキングが可能 ○ターゲットの固定はリテイナーで行われ、ターゲットを短時間で交換可能 ○ガス導入口が取付フランジと一体となっているので、 ガス導入用のフランジは不要 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
試料の上面、側面などや、複雑な試料にも奥深く均一にコーティング可能！
試料表面の導電被膜形成処理として、金属オスミウム（Os）の極薄膜 コーティングを行います。 熱ダメージもなく、nm単位の膜厚を高い再現性で成膜可能。 また、試料表面に膜由来の形状が現れず、表面形状観察やEBSD測定への 前処理に用いることができます。 繊維構造を有するサンプルの表面観察では、オスミウムコートでは、複雑な 構造でもチャージアップなく観察できました。 【特長】 ■チャージアップのない極薄膜の形成 ■再現性の高い膜厚制御 ■粒状性のない膜 ■熱ダメージのない成膜 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
標準モデル登場！低コスト・短納期で提供可能になりました｡ 高真空、多層連続膜・同時成膜、RF/DC多目的スパッタ装置。
高機能 多目的 RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 タッチパネル簡単操作 熟練度を問わずどなたでも簡単に操作が可能です。 【nanoPVD-S10A標準構成仕様】 ● 基板ステージ：Φ4inch、基板シャッター付 ● 最高到達圧力：5 x 10-5 Pa（10-3paまで10分、10-4paまで20分以内） ● 2"マグネトロンカソード x 2：自動連続多層膜, 2源同時成膜（RF/DCのみ） ● RF150W、DC780W両電源搭載 ● MFC x 3：プロセスガス3系統（Ar, O2, N2） ● 主排気TMP、粗挽RP（*ドライポンプ オプション） ● Windows PCリモートソフトウエア"IntelliLink"付属：システムライブモニター、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ● 水晶振動子膜厚センサ付属 【主な用途】 ・酸化膜、絶縁膜 ・金属・合金、導電性膜 ・化合物、反応性膜、他 【オプション】 ◉ 基板加熱ヒーター500℃、磁性材用カソード、ドライスクロールポンプ、など
ターゲットは大きい試料もそのままコーティング可能な４インチサイズ。
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－２０ＭＴは電子顕微鏡試料に導電処理を施す為のコーティング装置です。マグネトロンターゲット採用で、試料ダメージを最小限にします。４インチサイズのターゲット仕様。大きな試料・多数の試料を処理可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
8インチウェーハに対応する大面積試料ステージを搭載。
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－８インチはマグネトロンターゲット電極で、8インチウェーハに対応する大面積試料ステージを搭載。コーティング厚さのムラは10%以内、ステージ全域を有効に使えます。コーティング電圧500V以下で、イオン衝撃によるダメージを軽減。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
高機能・低価格 タッチパネル式フルオートコーティング機能搭載で、あらゆる性能をパワーＵＰしました！
電子顕微鏡観察用前処理のための新型オスミウムコーター。 これまで人の手によるオペレーションの難しかった部分を完全自動化。より安全に、より簡単にオペレーションできる、オスミウムコーティングの新次元。 タッチパネルを搭載し、簡単で明快な操作を実現しました。誰でも簡単に、電子顕微鏡用導電膜を成膜可能。 また、多彩なオプションもご用意。安全面や機能を拡張します。 徹底的にこだわり抜いた装置ですが、驚きの低価格も実現。オスミウムコーティングにご興味のある方、オペレーションに不安のある方、是非当社のオスミウムコーターをご検討ください。テスト成膜、デモの依頼も随時承っております。
多目的、実験用全自動成膜装置。マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔ型
マグネトロンスパッタ装置ＭＳＰ－４０Ｔは多目的､多金属､実験用イオンスパッタ成膜装置です。電極分離型試料台で試料損傷回避、高速排気・簡易操作で能率的成膜、低価格・コストパフォーマンスの良い機能を持っています。 ＭＳＰ－３０Ｔの後継機として、フルオートコーティング、タッチパネル、レシピ機能などを搭載してパワーアップしました。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
試料カバーを開放することなく連続して測定が可能！自動試料ステージUNIT
『TP-TRM-1』は、テラヘルツ分光装置「TeraProspecor」に搭載可能な 自動試料ステージUNITです。 ステージに取り付けられた試料取り付けプレートに6試料を取り付ける ことにより、試料カバーを開放することなく連続して試料の測定が可能。 試料カバーを開放する回数を抑え、測定効率の向上と水蒸気の 流入を最小限にとどめます。 また、反射自動試料ステージUNIT「TP-RFL-1」も取り扱っています。 【特長】 ■プレートに6試料を取り付け （1か所はリファレンス測定用に使用。オプションにて試料数の変更可能） ■試料カバーを開放することなく連続して試料の測定が可能 ■測定効率の向上と水蒸気の流入を最小限にとどめる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子顕微鏡の試料に導電膜処理を施す装置です
『マグネトロンスパッタ装置』は、ターゲットの背面に強力な磁石を用いて カソード表面層でのイオン化を促進し、電界によりイオンをターゲットに 衝突させて金属分子を放出させる原理を応用させたものです。 株式会社真空デバイス製の本装置は試料へのダメージが極めて少ないことが 特長です。 また、スパッタターゲットの種類、試料のサイズ、価格など、 お客様のご要望に合ったラインアップを各種取り揃えております。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■MSP-mini ■MSP-1S ■MSP-20-UM ■MSP-20-MT ■MSP-20-TK など ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
