弊社では、各種レーザー用の反射ミラー・反射板の加工はもちろん、 フォトエッチングの技術を利用しパターニングを付加した製品を扱っています。 特に、半導体パッケージへのYAGレーザマーキング装置用ガラスマスクの供給では 長年の実績があります。そのマスクは誘電体多層膜を直接パターニングする手法で 製造していますので、タイムリーな対応が可能です。 KrFエキシマレーザー加工機用ガラスマスクついても耐久性のよい 誘電体膜仕様で製作可能です。メタル膜仕様の耐久性に問題をお持ちの方は 是非ご相談ください。 その他、全反射ミラー、ハーフミラー、金属マスク、 拡散仕様（サンドブラスト処理、ガラスエッチング処理）マスク等も取り扱っております。 一枚の試作から承ります。

【特徴】 ○反射ミラーにパターニング処理を施したレーザ用マスク →パッケージ等へのマーキング及び微細穴あけ加工等の用途として多用 ○フォトファブリケーションを駆使した製品で、ファインパターンを形成出来る 【製品例】 ○各種半導体レーザ用全反射ミラー ○ハーフミラー ○YAGレーザマーキング用ガラスマスク ○エキシマレーザ加工機用ガラスマスク等 【構成】 ○基板：各種ガラス、金属等 ○表面処理 →AL、Cr、Cu、Au等の各種金属膜コーティング、誘電体膜コーティング →ガラスエッチング、サンドブラスト処理等 ○パターニング法 →薄膜エッチング、リフトオフ、 ガラスエッチング、サンドブラスト等 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

【掲載内容】 ○ご挨拶 ○加工技術のご案内 →試作加工：お客様の草案・設計をもとに研究・開発品の試作を承ります。 →製品受託加工：お客様の製品仕様をもとに安定した品質のものを生産します。 ○代表的な加工技術 ［研磨加工］ →ガラス等の基板を高精度に切削･研磨処理 →創業時から磨き上げた技術でニーズに合わせた加工が可能 ［成膜加工］ →主にガラス・Siウエハ・有機材などの基板へ膜付け加工 →ご要求の仕様にあわせて膜付け方法を選択致します。 →真空蒸着法・スパッタリングが代表例 →各種電極膜や光学用薄膜として精度の高いものを提供致します。 ［パターニング］ →主にフォトファブリケーション技術を用いたパターニング →代表例としてフォトエッチング法は高精細のパターニングが可能 →用途･目的に合わせた加工方法を提供致します。 ○会社概要 ○会社沿革 ●詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。