マツボーの製品・サービス一覧

本製品は、密着性よくパリレンを成膜できる装置です。研究やR&Dだけでなく、量産にも対応できる装置を販売しております。また、装置の販売実績は50台を超えており、生産ラインで既に使用されております。 本装置の特徴は、次の通りです。 ・装置クリーニング及びメンテナンスが、容易です。 ・基材との密着性を向上させる為の前処理がin-situで処理可能です。 ・装置に付帯するPLCによりプロセスが実行可能です。成膜レシピのログもCSVファイルに出力することができます。 ・装置のカスタマイズが可能です。

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。　 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種類の容量のリアクターサイズ ■複数のプレカーサーを個別に温度コントロール ■多様な粒子材料へ多様な膜の成膜が可能 ■カスタムレシピーを容易に作成し自動運転 ■粒子容器は取り外し可能 ＊量産用の装置ラインアップもございます。

この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソード は、形状をカスタマイズすることができるため、水平型インライン式の真空成膜装置、垂直型インライン式真空成膜装置、ロールツーロールのウェブコーティングプロセスにも容易に組み込むことが可能です。簡単にカスタマイズできるデザインプラットフォームと広範囲な圧力域で安定したプロセスを実現できるため、ほとんどの既存CVD設備、PVD設備にも使用することができ、低コストでパフォーマンスの最適化が可能です。

韓国 A-tech社は1964年の創業以来、顧客のニーズに合わせた薄膜製造装置を提供してきました。デスクトッププロは小型高性能でデスクトップに設置でき、経済的にもメリットのあるスパッタリング装置です。 物性研究や製品QCおよびQA、半導体の故障解析などに最適です。 ■詳細はカタログダウンロードより■ ●御問合せ：03-5472-1722 (TEL)

米Morgan Advanced Ceramics社のCMPプロセスで使用する表面がダイアモンドで覆われた独特の構造のパッドコンディショナーを提案致します。ダイアモンド砥粒をシリコン基板、あるいはセラミック基板にCVDコーティングした構造です。ダイアモンド砥粒と基板の分子レベルでの強固な化学的結合を達成しました。耐スラリー性も強く、スラリーによる化学的な侵食もありません。また、ダイアモンドの欠落、粉砕が一切なく、ダイアモンド砥粒、密度の制御も可能です。 詳しくはお問い合わせ下さい。

フラッシュランプアニーリング装置　FLAは、DTF-FLA ウルトラショートタイムアニーリング用にデザインされたスタンドアローン装置です。半導体材料、その他の材料に対して、数ミリ秒から数百ミリ秒の超短時間のアニーリングをすることが可能です。非常に短いパルス（マイクロ/ミリ秒レベル）のキセノンフラッシュランプにより、超高速昇温レートで表面のみ加熱しますので、フレキシブル基板、 耐熱温度の低い基板上の膜のアニ－リング処理等に使用できる研究開発用の小型装置です。コンパクトで使い勝手がよく、各種アプリケーションの研究開発に最適です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

ISYS社　大面積イオンビーム照射装置は、成膜せずにドーピングで物質の表面を改質します。イオンビーム装置は加速されたイオンを製品表面内に注入させることによって表面を改質する方法です。メタル・セラミック・ポリマーなどの表面特性を向上します。イオンビームエネルギーは、～300KeV、イオンビーム電流は 5～50 mA、イオンビーム照射面積は 400mm×400mmです。処理効果は、機械的な特性向上として、耐摩耗性の向上・耐疲労性の向上・摩擦力の減少があげられます。また、電気/光学的な特性の向上としては、電気伝導性・紫外線の遮断などがあります。さらに、化学的な特性の向上としては、親水/疎水性・耐酸化性・耐腐食性・非晶質化などです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

WAFAB INTERNATIONALのケミカルエッチング/テクスチャリング装置、フレキシブルなウェットプロセス装置を提案いたします。 半導体向け手動、半自動、完全自動ウェットエッチング装置を含めてエンドユーザー、大手装置メーカー等に1,000台以上の納入しており、薄膜太陽電池メーカーへの装置納入実績もございます。
基板サイズ、スループット、使用ケミカルに応じて、手動バッチR&D装置から完全自動化生産装置までの提案が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

特許技術のナノフィルターエレメントを使用し、プロセス溶液や処理廃液から有機溶剤のみを分離する画期的でオンリーワンの技術です。 蒸留法と比べエネルギー消費量を90%削減し、通常2~3年で投資回収ができます。 初期コストを抑えながら未利用の廃溶剤を再生することができ、溶剤の使用コストを削減します。 CO2発生も大幅に削減され、企業としてグリーンテクノロジーを利用した社会貢献、イメージアップにも寄与します。 フィルターエレメントは強有機溶剤、酸、アルカリに耐性があります。 対応有機溶剤例： アセトン、アセトニトリル、DMAc、DMF、DMSO、エチルアセテート、エタノール、 ヘキサン、イソプロパノール、PGME、IPA、メタノール、PGME、PGMEA、THF、NMP、....