「ウエハ剥離洗浄装置　ME-5700」は、ウエハを手動で搬送アームにセットし、チャンバー内でウォータージェットにより、1枚ずつ剥離分離後、手動で回収する装置です。外形寸法はL1300×W1200×H2100です。　 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

「小型スピン洗浄装置　ME-510」は対象ワークを手動にてセットし、スピン回転により洗剤（界面活性剤等）でブラシ洗浄し、純水リンス洗浄、エアブロー乾燥の処理を行うマニュアルスピンナーです。対応回転数はMAX3000rpm、対応試料サイズは30～150角、PETフィルム及びガラスとなっています。ブラシ部はブラシ昇降、旋回、ブラシ回転、洗剤供給を行い、純水供給部はエアシリンダーによる旋回、純水供給を行います。本体サイズはW650ｘD800ｘH710でアルミフレームになります。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

本装置はＬＣＤ、有機ＥＬ、太陽電池等のガラスの洗浄装置です。前工程より入口コンベアへ、ガラスの供給を受け、入口コンベア、シャワー、ロールブラシ、２流体、純水リンス（オプションとしてメガソニック）で 洗浄し水切り乾燥を行い、静電除去した後、出口コンベアに送り出す工程を枚葉式で行う装置です。

省スペースで、両面洗浄可能なメカグリップ機構の枚葉式スピン洗浄装置です。 メンテナンスが容易で高速、スピン乾燥、Ｎ２乾燥、によりウオーターマークを軽減します。（特許第3558543)

小形、安価な設計となっています。洗浄ノズルを内側と外側に設置し、汚れを完全に落とします。 ワークをワーク台にセットし、ワーク台が回転し、内側から加圧洗浄されます。 フィルターの水切りは電磁弁の切換えにより洗浄ノズルから高圧エアーを吹き出し水切りをします。 オプションとして、超音波洗浄槽もあります。

本装置はワークを本体に手動でセットし、真空吸着させスピン回転させながら二液体洗浄、超音波洗浄、N2ブロー乾燥を行う装置です。

本装置は、ウエハーカセットを本体に手動でセットし、収納されている対象ワークをロボットでスピン洗浄部に送り、スピン回転させながら二流体洗浄・超音波洗浄・N2ブロー乾燥の処理を行い、再びウエハーカセットに収納する装置です。

処理枚数は1-3枚の少量対応の為、研究・実験の用途に最適です。 100V電源で設置に制約がありません。 コンパクトなので１ｍ2（平方メートル）あれば設置可能と経済的です。 純水リンスはカスケード方式による純水使用量を抑えた低コストです。 ケミカル温度をコントロールが可能です。 比抵抗計によりリンス効果を判断します。 ウエハカセットは傾斜を持たせ、ウエハ表面側に液残留を防止します。 将来、２槽（下部タンク共）追加可能なスペースを確保しています。 エアーガン付です。 シャワーノズルでケミカル槽を簡単洗浄出来ます。