昭和真空の製品・サービス一覧

新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【対象製品】 ◆自動車ヘッドランプリフレクター ◆ミラー ◆金属装飾膜 ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。

• 真空機器
• スパッタリング装置

『SPE-2136A』はφ4～φ6インチウエハに対し、 残渣除去・表面改質・アッシング処理が可能なプラズマクリーナー装置です。 自動搬送機構が付属しており、ウエハ割れの防止や ウエハ移載にかかる人件費・作業時間を削減可能。 プロセス室はウエハを2枚同時に処理でき、 高いスループットを実現しています。 【特長】 ■1400(W)×3000(D)×1900(H)mmのコンパクト設計 ■分布はウエハ内±5％以下 ■SAWデバイスなどの極薄圧電ウエハにも対応 ■Arプラズマクリーニングもオプションでご用意 ※詳しくは資料をご覧ください。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• プラズマ表面処理装置
• その他

光学薄膜プロセスでは一般的な蒸着，スパッタとは異なるALD（Atomic Layer Deposition）の手法を用いることにより、これまで困難とされてきたボールレンズや高曲率レンズなどの基板に対し、 付き廻りに優れかつ高品質な薄膜の形成が可能となっております。 【概要】 ○φ10 インチ基板 最大50枚一括処理（25枚×2軸） 　※基板形状や条件により異なります。 ○基板回転機構付属

• レンズ

新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。 射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可能です。 【特徴】 ○全自動 ○サイクルタイム： 80sec（Al：100nm＋SiOx：20nm） ○高い密着度 →アンダーコート無しでも高密着力が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器
• スパッタリング装置

Sapio-DBR（SGC-S1550i/S1300iシリーズ）は、LED用光学多層DBR膜用に特化した真空蒸着装置で、ドーム内の均一性が良く、生産効率の向上を図ることが可能です。 LED用光学多層DBR膜の成膜に最適です。 【特徴】 ○優れた量産性能 →基板搭載数：φ2inchウェハー約400枚/batch 　　　　　　　φ4inch ウェハー約110枚/batch →タクト：3h/batch　以内　　　　　 →必要設置エリア：W4.6m×D6.3m×H3.2m 　※SGC-S1550i 使用時 　※水晶式膜厚計の脱着の際には 　　工場側天井パネルの取外し等が必要な場合がある ○優れた再現性　連続batch保証も対応 ○膜質の調整が可能　Chippingによる膜の損傷を抑制するための 　　　　　　　　　　条件補正も協力できる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 蒸着装置

超高性能光学薄膜用蒸着装置 「Sapio 1300/1550」は、新開発のファイバー式光学モニターの採用や、安定した温度制御が可能な80点モニターガラス機構を搭載することで設計通りの特性が得られる高精度を実現しました。 徹底した放出ガス対策により、槽内が汚れていても特性のみならず、安定した膜質が得られます。 【特徴】 ○高効率排気システム ○低パーティクル仕様（オプション） ○高精度膜厚制御システム ○高出力・大面積照射イオンソース 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器
• 蒸着装置

「SLS-401T」は、SMD水晶振動子を対象としたＡu/Ｓｎ用真空加熱封止装置です。 水晶用関連真空装置は、昭和真空の主力製品の1つです。 ここでいう「水晶」とは、水晶振動子、水晶発振器等、水晶を基板とした、クォーツデバイスと呼ばれている電子部品を指します。 クォーツデバイスは、非常に安定した発振周波数を有し、私たちの生活に関わるあらゆる製品に不可欠なキーデバイスとなっています。その使用用途は多岐にわたり、コンピューター、時計、自動車、携帯電話、家庭用ゲーム機、コードレス電話、CD、デジタルカメラなど、身の回りの電気製品のほとんどに利用されています。 【特徴】 ○SMD 水晶振動子を対象としたＡu/Ｓｎ用真空加熱封止装置 ○取出室にて CI 測定によるリークチェックが可能です（オプション） ○タクトタイム 0.4sec/pcs 以下 ○周波数調整装置への連結も可能（オプション） ○高温封止（450℃）対応も可能（オプション） 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他加工機械

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器
• その他半導体製造装置

光学薄膜用蒸着装置 「SGC-S1700シリーズ」は、Sapio 1300 のテクノロジーを盛り込みつつコストパフォーマンスに磨きをかけたAR コート専用 スタンダードマシンです。 ＲＦイオンソース、光学モニター、反転パレットなど多彩な仕様選択が可能です。 【特徴】 ○量産性能と作業効率を高次元で融合 ○設置スペースは1300クラスのたった２割増 ○製品の取数は2倍以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 蒸着装置

ホローカソード方式 イオンプレーティング装置　SIH-400Tは、アクセサリーなどの装飾膜成膜、工具の硬化膜成膜に最適です。 導入ガス（N2、O2、C2H2）の量、及び種類を変えることにより、成膜色を変える事が可能。 【特徴】 ○工具の硬化膜成膜用に最適 ○タッチパネル操作による成膜レシピ制御が可能 ○少量生産機・実験機として最適 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

昭和真空は、約15年の実績を誇るベストセラー装置SPH-2500のフルモデルチェンジを行いました。 ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」は、従来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形：W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良することによりターゲット使用効率が４４％まで大幅にUP ○ラック＆ピニオン方式を採用しローラーの滑りなどによる搬送不具合を解消 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• スパッタリング装置

SIA-400Tは、工具・刃物・金型等への「表面硬化膜」及び、「装飾膜」に最適なホロカソードタイプを、さらにバージョンアップしたアーク放電タイプ（蒸発源表面上にアーク放電を発生させ、溶解・蒸着・イオン化という過程を経て膜形成）を採用した装置です。 【特徴】 ○ムダを極力少なくし、処理量の確保をはかった ○1バッチごとの蒸発源の補給が不要 ○基板取付けを容易にした担当者にやさしい装置 ○本装置で成膜したTiNの密着強度70N以上 ○蒸発源をかえればほとんどの金属の成膜が可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

広範囲で安定した放電を可能にし、光学フィルターのノンシフト膜から樹脂基板への密着性改善まで様々な用途でご使用いただけます。 放電性能においては独自のアプローチにより確実な着火と安定した放電が可能です。 【特徴】 ○ビーム電流 1500mA / ビーム電圧 1500V / 　イオン電流密度100μA/cm2以上の高出力イオンソース ○イオン電流密度分布±10％以下（1300、1550装置にて）の均一性をハイパワーで達成 →Sapio-1300 での測定結果。株式会社昭和真空指定条件に限る ○ニュートラライザーにオートマッチャーを採用し、 　確実な着火性能と安定化を図った ○新開発コレクター電極（特許出願中）の採用により、 　エミッション電流2500mAの大出力を可能にした →チャージアップによるパーティクル発生を予防する 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• イオン注入装置

高真空アニール装置 「SAF-52T-II」は、主に水晶振動子などの加工時に生ずる内部応力の歪みの除去、電極膜の安定化のための熱処理を行うことを目的として開発された装置です。 W460×D350×H35mm の加熱棚が左右計10段、170×134mmの標準トレーを最大60枚収納可能です。 【特徴】 ○独立して稼動可能な処理室を2室有している ○生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れる ○効率的なサイクルタイム/全自動による省力化 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• アニール炉

多機能型・真空蒸着装置 「SEC-22C」は、蒸発源として電子ビーム式蒸発源を採用しています。 高融点金属や酸化物を成膜する事ができます。 蒸発速度の制御と膜厚の制御は水晶発振式膜厚計により行います。 主ポンプはクライオポンプを搭載しています。 操作制御系は全自動式になっています。 【特徴】 ○良好な膜厚分布が得られるように蒸発源と基板治具が配置されている ○電子ビーム式蒸発源は6点式坩堝を採用していますので、 　同一真空中内で6種類の成膜が可能 ○基板はφ75mmで30枚、φ100mmで20枚、φ150mmで9枚収納できる ○入射角±5°以内で成膜可能 ○真空槽内の防着シールドは分割式となっていますので、交換が容易 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 蒸着装置

オイルレベルゲージでは、オイル量、汚れを一目で確認できます。またメンテナンスについては早めのオイル交換を実施いただくだけで十分。作業効率もUPします。 【特徴】 ○オイル加熱ヒーターには内熱式シースヒーターを採用し、省電力化を実現 ○ジェットの改良により、排気性能が大幅に向上 ○ポンプの立ち上げ時間を短縮 ○直接水冷式コールドキャップをバッフルに内蔵したことにより 　水冷式でもオイルバックを抑制することが可能となった 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空ポンプ

インライン式周波数調整装置 「SFE-X2012」は、処理室と取出室を別にし、イオンソースもＨ／Ｌを各々搭載したことで、アイドルタイムの少ない効率的な動作が可能になりました。 ＳＦＥ‐Ｂ０３に搭載したＩＧＦ－２０１型 １００ｍｍビームのイオンソースを２基搭載しています。 イオンソース１台あたり最大２４個、計４８個同時処理が可能です。 ＳＦＥ－Ｂ０３で実績のある高精度・高安定・高再現性の搬送機構を本装置にも採用しております。 今までインラインでは困難であった小型ワーク(2.0×1.6、1.6×1.2）の周波数調整も、安定して量産できます。 ユニット毎に各機器の分解が可能で、メンテナンス性を考慮した設計となっています。 【装置性能】 ○タクトタイム ：０．３ｓｅｃ/ｐｃ以下 　　　　　　　　 ※１８MHz以上のワーク、１列２４個以上の場合 ○調整精度 ：±１．５ｐｐｍ以下 ○処理数 ：最大２４列(ｐ４．０)×３２列 ○生産量 ：12000pcs /時間 以上 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

イオンプレーティング装置 「SIP-1600」は樹脂基板へ金属膜を成膜する装置です。 同一バッチで2種類の材料が成膜可能です。 内部治具及び台車が2式付属しており高い生産性を有します。 イオンプレーティング機構により、付き回りよく成膜できます。 【特徴】 ○ワークの大きさにより、6軸もしくは8軸の自公転治具が搭載可能 ○抵抗加熱蒸発源は切替電極（2式）を搭載している ○イオンプレーティング機構が付属している ○治具台車を2式標準装備している ○冷凍機の搭載によりH2Oに対する排気スピードが向上している 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

ロードロック式周波数調整装置 「SFE-B03-II」は、省スペース・高精度・低価格、タクトタイム0.4 s/pcs以下を実現しました。（※SMD3.2 × 2.5, 24 MHz, H1000 ppm/s, L50 ppm/s の場合） 新型イオンガン (ビーム幅: 100 mm) 搭載で、標準24～32個同時処理が可能となりました。 高精度・高安定・高再現性の搬送機構により、2.0 × 1.6以下の微小ワークも安定して生産できます。 FLモード (負荷容量自動演算モード) を搭載しています。 イオンガン本体、コンタクト機構のメンテナンス性が大幅向上しました。 ２室ロードロック方式を採用することで、処理室は常時真空に保持されているので、タクトタイムが真空排気及び大気開放の時間に依存しません。 オプションユニットとしてオーバードライブ機構付ローダー・アンローダー装置装着により、連続運転が可能となりました。 【特徴】 ○コンパクト設計 ○高精度 ○低価格 ○高安定性 ○高再現性 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他半導体製造装置

「ECO-22」は昭和真空製内熱式油拡散ポンプ(22インチ)に簡単に取り付けられる省電力ユニットと断熱ジャケットです。ECO-22を用いることで、排気性能を実用上低下させずに、環境対策、電気代削減が可能になります。 【性能】 油拡散ポンプ2本搭載装置（SGC-1300シリーズ）の場合、ECO-22を用いると、１本で1.7ｋＷ，2本で3.4kWhの電力量削減が可能となります。 同システムを年間300日稼動（24時間）使用した場合、24480ｋＷhの電力量が削減可能で、電気料金1kWh当り10円とした場合、24万4800円の電気料金の削減が可能となります。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他FA機器