装飾・塗装のドライ化や増産をご検討中のお客様向け
イオンプレーティング装置 「SIP-1600」は樹脂基板へ金属膜を成膜する装置です。 同一バッチで2種類の材料が成膜可能です。 内部治具及び台車が2式付属しており高い生産性を有します。 イオンプレーティング機構により、付き回りよく成膜できます。 【特徴】 ○ワークの大きさにより、6軸もしくは8軸の自公転治具が搭載可能 ○抵抗加熱蒸発源は切替電極（2式）を搭載している ○イオンプレーティング機構が付属している ○治具台車を2式標準装備している ○冷凍機の搭載によりH2Oに対する排気スピードが向上している 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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基本情報
【仕様】 ○到達圧力 10-4Pa 台 ○排気速度 大気圧より6.7×10-3Pa 迄20 分以内 ○内部治具 自公転式 6軸（Φ440mm×H1650mm/軸：ワーク搭載エリア） 8軸（Φ360mm×H1650mm/軸：ワーク搭載エリア） ○自公転数 6 軸：自転11～33rpm/公転1～3rpm 8 軸：自転13～37rpm/公転1～3rpm ○真空槽 Φ1600mm×H2300mm（SS400 製） ○フットプリント W4700mm×D7000mm×H3100mm 【所要諸元】 ○所要電力 本機：Φ3 200V 約12KVA、抵抗蒸発源：Φ1 200V 40KVA ○所要水量 0.2MPa 以上（差圧）、4.8 ㎥/h、20～25℃ ※冷却水入口の最大圧0.4MPa 以下、水質は市水相当 ○所要圧空 0.5MPa 以上、接続口径 8A(Rp3/4)、70NL/min ○ガス圧力 0.03MPa（設定圧0.02MPa）、接続口径 SWL1/4 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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用途／実績例
【用途】 ○各種装飾膜 ○不連続膜 ○電磁波防止膜 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
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企業情報
株式会社昭和真空は、真空中で特定の基板に薄膜を形成させる装置を主とした、真空蒸着装置やスパッタリング装置等の真空技術応用装置（真空装置）を製造販売しております。