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インライン固液混合MHD分散機

最終更新日:2026年05月13日

澁谷工業株式会社
澁谷工業株式会社
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粉体供給から分散・脱泡・移送まで。 高粘度スラリー対応の分散機ラインを構築。

分散機を中心に、粉体供給・分散・脱泡・移送まで含めた固液混合ラインに対応しています。 高固形分・高粘度スラリーでは、粉体供給条件や瞬間濃度変動が分散品質へ大きく影響します。 本システムでは、分散機単体ではなく、工程全体を最適化することで、品質安定化と生産性向上を実現します。 また、インライン分散機・バッチ式分散機・スタティックミキサー等を組み合わせ、材料特性や処理条件に応じたシステム提案が可能です。 電池材料、CNT、電子材料、接着剤、インク、食品など、多様なスラリー用途に対応。 ラボテストからスケールアップ、量産ライン構築まで一貫対応可能です。

    乳化・分散機粉体供給装置分散・乳化装置・ホモジナイザー
MHD.png

分散機ライン 粉体供給〜連続分散対応

MHD.png
MHD.png IKA+shibuya .png 乳製品製造設備1.jpg IPA送液.jpg
  • 分散ライン一式。粉体供給から混合分散プロセス設計
  • 特設サイト - 製品・サービス詳細 - https://pr.mono.ipros.com/shibuya/product/

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基本情報

分散機を用いた連続処理ラインに対応。 粉体供給、分散、脱泡、移送まで含めた固液混合システムを構築可能です。 高せん断分散機による均一分散、高固形分・高粘度スラリー対応、連続処理による品質安定化に対応。 また、インライン分散機、バッチ式分散機、スタティックミキサー、粉体供給機、脱泡設備、タンク、配管、温調設備を組み合わせた工程設計が可能です。 ラボ設備による評価、パイロット検証、スケールアップ、量産ライン構築まで対応。 材料特性や処理条件に応じて個別設計いたします。

価格帯

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用途/実績例

電池材料スラリー、CNT導電材、電子材料、接着剤、インク、塗料、食品・飲料など、多様な固液混合ラインで採用されています。 高固形分・高粘度スラリーでは、粉体投入時のダマ化、凝集、沈降、瞬間濃度変動などが品質へ大きく影響します。 本システムでは、粉体供給から分散・脱泡・移送まで含めた工程全体を最適化することで、品質安定化と生産性向上を支援。 また、ラボ条件から量産条件へのスケールアップ検証にも対応可能です。

詳細情報

  • プロセス図1.jpg

    粉体供給から分散・脱泡・移送まで含めた固液混合ライン例。 高固形分・高粘度スラリーでは、粉体供給条件や瞬間濃度変動が分散品質へ大きく影響します。 本システムでは、分散機単体ではなく、工程全体を最適化することで、品質安定化と生産性向上を実現。 また、インライン分散機、粉体供給機、脱泡設備、配管、タンクを含めたライン設計にも対応しています。 電池材料、CNT、電子材料、接着剤など、多様なスラリー用途で活用されています。

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この製品に関するニュース(3)

装置スケールの違いにより分散条件は同一にならない

ラボから量産で結果が変わる理由とは?スケールアップで分散品質が崩れる原因と対策

  • その他・お知らせ

ラボでは良好な分散結果が得られたにもかかわらず、量産化した途端に品質が安定しないという課題は、多くの現場で発生します。その主な原因は、スケールの違いによって分散条件が再現されていないことにあります。ラボ装置では、装置サイズが小さいためエネルギー密度が高く、せん断や流動が均一に伝わりやすい一方、量産設備ではスケールが大きくなることで、同じ回転数や処理時間では分散エネルギーが不足しやすくなります。また、装置構造や流動パターンの違いにより、粒子が受けるせん断履歴や滞留時間にばらつきが生じ、結果として分散状態に差が発生します。さらに、単純なスケールアップでは、流速や滞留時間、せん断強度といった重要なパラメータが一致しないため、ラボと同じ結果を再現することは困難です。このような課題を解決するためには、単なる装置サイズの拡大ではなく、分散エネルギー密度や流動条件を基準としたプロセス設計が重要となります。インライン連続処理のように、粒子が一定条件で処理領域を通過する設計とすることで、スケールが変わっても再現性の高い分散品質を実現することが可能です。

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連続処理では粒子ごとの分散履歴が揃い、再現性が向上する

なぜ連続処理は再現性が高いのか?分散品質を安定させる仕組みを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、品質のばらつきは大きな課題の一つです。同じ装置・同じ条件で処理していても、ロットごとに分散状態が異なるケースは少なくありません。その主な要因は、粒子が受ける分散履歴のばらつきにあります。 バッチ処理では、タンク内の位置や流動状態によって、粒子ごとに受けるせん断や滞留時間が異なります。その結果、十分に分散される粒子と未分散の粒子が混在し、品質のばらつきが発生します。特に高粘度や高固形分条件では、この傾向が顕著になります。 一方、連続処理では、粒子が一定の処理領域を通過するため、ほぼ同じ分散条件を受けます。せん断エネルギーや滞留時間を一定に制御できるため、分散履歴のばらつきが抑えられ、均一で再現性の高い分散状態を実現できます。 また、連続処理はスケールアップ時にも有利です。流量を調整することで、ラボから量産まで同様の分散品質を再現しやすくなります。これにより、開発から量産への移行時の品質変動リスクを低減できます。 分散工程において重要なのは、すべての粒子に同一の処理履歴を与えることです。連続処理はこの条件を満たしやすく、品質安定化と再現性確保に有効な手法です。

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バッチ混合における流動ムラと分散不均一の発生イメージ

なぜ分散は均一にならないのか?凝集残存や分布のばらつきが発生する原因と均一分散を実現するための設計ポイントを解説

  • その他・お知らせ

分散工程において、見た目は混ざっているように見えても、実際には粒子が均一に分散していないケースは多く見られます。この原因の一つは、粒子同士の凝集が十分に解消されていないことにあります。分散エネルギーが不足している場合、粒子は一次粒子まで解砕されず、凝集塊が残存します。また、せん断条件や流動状態が不均一であると、局所的に分散状態が異なり、結果として粒度分布のばらつきが生じます。特に高粘度系や高固形分スラリーでは、流動性の低さからエネルギーが均一に伝わりにくく、分散ムラが発生しやすくなります。さらに、バッチ処理では混合ムラや滞留時間のばらつきにより、工程内で分散状態が均一に保たれにくい傾向があります。均一な分散を実現するためには、粒子特性に応じた分散エネルギーの設計と、流動条件を均一に保つ工程設計が重要です。インライン連続処理のように一定のせん断条件を維持することで、均一な分散状態と再現性の高い品質を実現することが可能です。投入順序や粉体の濡れ性、分散初期の混合状態も均一性に大きく影響します。特に粉体投入時に局所的なダマや偏在が発生すると、その後の分散工程でも解消されにくく、結果として分散ムラの原因となります。

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澁谷工業株式会社は、レーザ加工機(ファイバレーザ・CO2レーザ等)や半導体組立装置(テーピングマシン、多機能テストハンドラ、ボールマウンタ、ボンダ等)を中心とした精密機械分野において、高速・高精度搬送技術と制御技術を強みに事業を展開しています。 また、世界トップクラスのシェアを誇るボトリングシステムで培ったラインエンジニアリング技術を基盤に、原料(液体・粉体)計量から高粘度スラリー分散、CIP洗浄管理まで、調合プロセス全体の設計・最適化を実現しています。 固液混合分散システムでは、ラボ検証からパイロット、量産ラインまで一貫したスケールアップ対応により、「止まらない・汚さない」安定した生産プロセスを構築。さらに、医薬分野におけるアイソレータや洗浄システムなど、高度な品質要求に応える装置開発にも対応し、多様な産業の生産技術を支えています。 加えて、半導体分野では高精度位置決めや高速搬送制御などのコア技術を応用し、生産性向上と品質安定化に貢献。固液混合分散分野においても、分散状態の安定化や再現性向上といった課題に対し、工程設計を通じて解決しています。

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