加熱装置・炉の製品一覧

  • 分類:加熱装置・炉

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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  • その他搬送機械

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室温から-13°Cの強冷風!ご使用環境によりコンボタイプかセパレートタイプを選択可能!

  • 冷却装置

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2024/4/10(水)~2024/4/12(金)名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内

三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド(名古屋)に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時:2024/4/10~2024/4/12    開場:AM10:00~ 場所:名古屋ポートメッセ(第1展示会場) ※弊社ブース:19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。

粉体・粒体乾燥、焼付塗装、固体乾燥、暖房、その他様々な熱処理に適している

  • 加熱装置

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省エネ型(L型)。従来一般タイプより省エネを追求した新バーナです

  • 加熱装置

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食品加工に最適。バーナー本体がステンレス製のため極めて衛生的!

  • 加熱装置

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高い経済性と低公害を実現!従来の赤外線ラインバーナーを改良。

  • 加熱装置

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電気いらずでコンセント不要なため、震災、及び災害時の非常事態にも好適。ステンレス製で、軽量、防錆性、耐熱性にも優れています!

  • その他
  • その他ヒータ
  • その他安全・衛生用品

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フランジに固着しにくいクリンガー製ガスケットでガスケット交換時の手間を省略化して人件費を削減しませんか?

  • 工業炉
  • 管継手
  • 配管材

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加熱と保温のクリエイター!常に考え、独自のアイデアを絞りだし、価値ある加熱をご提案します!

  • 加熱装置

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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

  • 加熱装置
  • アニール炉
  • 電気炉

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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

  • 加熱装置

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◆nanoANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"〜最大6"基板対応、 高真空アニール装置(<5 × 10-7 mbar) [nanoANNEAL]は、ウエハー等の基板を安定したプロセス雰囲気にて高温熱処理が可能な研究開発用アニール装置です。 高真空水冷式SUSチャンバー内に設置した加熱ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により3種類のバリエーションがあります。 ・ハロゲンランプヒーター:Max500℃ ・C/Cコンポジットヒーター:Max1000℃(真空中、不活性ガスのみ) ・SiCコーティングヒーター:Max1000℃(真空、不活性ガス、O2)

最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、タングステンメタル炉) 小型・省スペース実験炉

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4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】

Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜:3元同時成膜(RF150W or DC780W)+ HiPIMS(PulseDC 5KW) x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統(Ar, O2, N2)反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W(メインチャンバー) + <30Wソフトエッチング(LLチャンバー) 基板加熱:Max500℃, 800℃, 又は1000℃(C/C、又はSiCコート) 基板回転・上下昇降(ステッピングモーター自動制御) APC自動制御:アップストリーム(MFC流量調整)又はダウンストリーム(排気側バルブ自動開度調整) デポレート・膜厚レート制御 寸法:1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。

マイカヒーターの採用でレンジ0.2℃以内の温度均一性を実現!

  • ヒーター
  • その他ヒータ
  • ホットプレート

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1000℃の熱源にも対応!炉回りなど配線・ケーブルを守ります。

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  • 焼却炉・焼却装置
  • 配線部材
  • 加熱装置

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曲げ加工が可能な構造!用途に合わせた形状で幅広くご活用いただける棒状ヒーター

  • その他ヒータ
  • 加熱装置

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最高使用温度は350℃!対象物の形状に合わせ曲げ加工が可能な円筒状ヒーター

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  • 加熱装置

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材質はSUS430/ボンデ鋼板!液体の入った容器の側面に取付けて加熱や保温にも使用可能

  • その他ヒータ
  • 加熱装置

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電源電圧は100v/200v/220v/240v!凸形状や凹形状などさまざまな形に製作が可能

  • その他ヒータ
  • 加熱装置

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円筒円柱物の【加熱】や【保温】外周部が周囲に干渉しないよう突起部を最小限に低く設計!密閉型も製作可能

  • その他ヒータ
  • 加熱装置

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圧縮減径し堅牢構造!被加熱物に孔加工を施し挿入して使用するカートリッジヒーターをご紹介

  • その他ヒータ
  • 加熱装置

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ガス不使用でも安心・高性能!顧客ニーズにも柔軟に応えることができるように

  • ヒーター
  • その他ヒータ

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耐火断熱材のイソライト工業 複合材料エンジニア-ドファイバー、マイクロポーラス系超低熱伝導率材料LTCシリーズの新製品ご紹介

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イソライト工業 新製品 LTC-MT 最高使用温度1200℃、高強度、耐水性のバランスの良い製品

断熱技術のイソライト工業 高温断熱ウールカタログを改訂しました。 LTCシリーズの新製品 LTC-MTをご紹介。 最高使用温度1200℃、高強度、耐水性のバランスの良い製品です。 詳しくはリーフレットをダウンロードください。 ご希望の方にはサンプルの送付も可能です。お問い合わせください。 断熱技術からコストダウン、熱エネルギー再利用に貢献します。

家庭用電源100Vで持ち運び可能な軽量タイプの高周波コンパクト加熱接着機!

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  • 加熱装置

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省スペースとトータルコスト削減!ヒーターとユニット組立をご提案

  • ヒーター
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素材とニーズに合わせた適切な赤外線加熱をご提案いたします!

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溶湯保持炉のヒータ交換を短時間で完了。生産停止を最小化し、現場の稼働率を高める高効率設計です。

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短時間でヒータ交換可能。生産停止を最小化し、高出力でも作業効率を高める設計です。

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既設炉を活かしながら電化と高出力化を実現。工期を抑え省エネ化できる後付けヒータです。

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火炎を使わず放射熱を抑制。作業環境の暑熱負荷を軽減し安全で快適な現場をつくります。

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燃焼火炎を使わず、安全で安定した加熱。失火や異常燃焼の心配なく炉運転が可能です。

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断熱性に優れた構造で放熱を抑制。溶湯温度を安定させながらエネルギー使用量を削減します。

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高断熱構造により溶湯温度の変動を抑制。品質安定と加熱効率向上を同時に実現します。

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ガスレスで加熱するため失火の危険性を回避。安全性を確保しながら溶湯保持を安定化します。

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排ガス損失がなく周囲温度低下、作業環境を改善し鋳造現場の暑熱対策を実現

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煤の発生がないクリーン加熱で鋳造製品品質を維持、取鍋の均一温度を簡単に確保

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赤外線均一加熱で取鍋の局所過加熱を防止、歪み抑制と鋳造品質の安定化を実現

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  • その他ヒータ

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メンテナンス・エネルギーコスト削減!遮断性向上で溶湯温度が安定、ガスから電気で低燃費化

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ワークに合わせたコイル設計と適切な電源のカスタムで高いエネルギー効率を実現!

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  • 加熱装置

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過熱水蒸気で効率的に加熱、酸化リスクを最小化!熱風よりも昇温速度の速い雰囲気加熱が可能

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  • 加熱装置

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ヒータ加熱への切り替えで溶湯保持の課題解決・高出力化を同時に実現!

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従来比10倍の出力で大容量炉でも高速加熱。溶湯温度を安定させ生産効率を向上します。

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