加熱装置の製品一覧
- 分類：加熱装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
高耐熱・低熱膨張のカーボン特性を活かした熱処理用グラファイト製部品！【ご要望に合わせた素材や加工をご提案！】
- 加熱装置
高真空仕様の加熱マイクロプローバ！加熱温度は最大500℃で、10mm形状の サンプル加熱に対応します！
- 加熱装置
ARCはリチウムイオン電池（LIB）や化学材料に対する熱反応の影響を定量的に測定できる装置です。
- 温湿度関連測定器
- 加熱装置
- 環境試験装置
【第65回電池討論会にTHT社と共同でブースを出展します】
第65回電池討論会 https://www.jtbwmice.jp/2024/denchi65/index.html 主 催：（公社）電気化学会 電池技術委員会 日 時： 令和6年（2024年）11月20日（水）〜11月22日（金） 会 場： 国立京都国際会館 協 賛： 公益社団法人 日本化学会 一般財団法人 大阪科学技術センター 一般社団法人 日本固体イオニクス学会 一般社団法人 燃料電池開発情報センター 公益社団法人 電気化学会 関西支部 公益社団法人 電気化学会 キャパシタ技術委員会 公益社団法人 電気化学会 燃料電池研究会 SOFC研究会 一般社団法人 電池サプライチェーン協議会 討論主題：１．電池、燃料電池の反応と材料 ２．革新的電池 ３．車載用二次電池と定置用二次電池 ４．燃料電池の高耐久化と低コスト化 ５．COI-NEXT先進蓄電池研究開発拠点シンポジウム ６．NEDOセッション
IBCxはリチウムイオン電池専用の等温型熱量計（ARC）です。 革新的な測定モジュールで熱特性とサイクル性能を評価します。
- 温湿度関連測定器
- 加熱装置
【第65回電池討論会にTHT社と共同でブースを出展します】
第65回電池討論会 https://www.jtbwmice.jp/2024/denchi65/index.html 主 催：（公社）電気化学会 電池技術委員会 日 時： 令和6年（2024年）11月20日（水）〜11月22日（金） 会 場： 国立京都国際会館 協 賛： 公益社団法人 日本化学会 一般財団法人 大阪科学技術センター 一般社団法人 日本固体イオニクス学会 一般社団法人 燃料電池開発情報センター 公益社団法人 電気化学会 関西支部 公益社団法人 電気化学会 キャパシタ技術委員会 公益社団法人 電気化学会 燃料電池研究会 SOFC研究会 一般社団法人 電池サプライチェーン協議会 討論主題：１．電池、燃料電池の反応と材料 ２．革新的電池 ３．車載用二次電池と定置用二次電池 ４．燃料電池の高耐久化と低コスト化 ５．COI-NEXT先進蓄電池研究開発拠点シンポジウム ６．NEDOセッション
有機蒸着源〜800℃、金属蒸着源〜1500℃、真空用 高温加熱セルとしても使用できる高性能真空蒸着ソースです。
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
モジュラー式コンポーネント・制御機器設計による豊富なバリエーション。様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3元）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大2、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3元） ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4極 コントローラで自動切替） ◉ 有機蒸着セル：1cc or 5cc ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 同時成膜、HiPIMS、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
Φ6〜8inch超高温ウエハーアニール装置 研究開発から小規模生産まで多目的に幅広く対応するハイパフォーマンス機
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
真空用 高温るつぼ加熱ヒーター。有機蒸着源 800℃、金属蒸着源 1500℃、としても利用できるバーサタイルなヒーターユニット
- 蒸着装置
- 加熱装置
- 電気炉
★☆★☆【MiniLab-026】R&D開発用 小型薄膜実験装置★☆★☆
モジュラー式コンポーネント・制御機器設計による豊富なバリエーション。様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3元）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大2、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、RFエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます（*要仕様協議）。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3元） ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4極 コントローラで自動切替） ◉ 有機蒸着セル：1cc or 5cc ◉ グローブボックス搭載可能（オプション 要仕様協議） ◉ その他オプション： 同時成膜、HiPIMS、自動成膜コントローラ、特注基板ホルダ、ロードロック、基板回転/加熱・冷却などオプション豊富。 ※ まずはご要求の仕様をご連絡下さい、ご要望に合わせシステム構成致します。
PVD、CVDなどの薄膜実験用基板加熱ヒーター均一性・昇温特性・制御性に優れたヒーターです。RF/DCバイアス仕様も可能。
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能CVD装置
- CVD装置
- アニール炉
- 加熱装置
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
高周波解凍装置を導入することで「原料崩し・流水ほぐし」の工程の削減が実現できます！冷凍原料（さば・さんま・イワシ）の事例紹介！
- 加熱装置
撹拌真空、圧送、温度制御を1台で！加熱撹拌、真空脱泡、加熱などの用途で利用できます。マントルヒーターであれば、低コストで利用可。
- 加熱装置
基板作業や熱収縮作業に使いやすい、小口径ヒートガン
- 加熱装置
