半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
2024/4/10（水）～2024/4/12（金）名古屋 ものづくり ワールド 2024出展のご案内
三和式ベンチレーター株式会社は、ポートメッセなごやで開催される 2024ものつくりワールド（名古屋）に出店いたします。 弊社も大型冷風機、涼暖ビエントの展示をおこないます。 日時：2024/4/10～2024/4/12 開場：AM10:00~ 場所：名古屋ポートメッセ（第１展示会場） ※弊社ブース：19-1 お時間が御座いましたら、ご来場頂ければ幸いです。
JIS B2401のP番溝に対応した過酷な環境でも利用可能なロッド/ピストン兼用シール。低摩擦で耐熱、耐薬品性に優れる。
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
- シール・密封
半導体製造環境の清浄度を維持する、耐薬品性に優れたシール。
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
- シール・密封
JIS B2401のP番溝に対応した過酷な環境でも利用可能なロッド/ピストン兼用シール。低摩擦で耐熱、耐薬品性に優れる。
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
- シール・密封
温泉地や水処理場、畜産、再生紙工場等で発生している硫化水素への腐食対策として活躍のフッ素樹脂塗料のF-200SI、サビマセン
- その他半導体製造装置
次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- 超音波洗浄機
弊社取扱いレヒラー社製エアーノズル、タンク洗浄ノズル、ソニア社製超音波スプレーノズル及びソニック社製ブロワー及びエアーナイフ（乾燥装置）が産業用製品・メーカー情報比較サイト「メトリー」で紹介されました。
この度は弊社取扱いレヒラー社製エアーノズル、タンク洗浄ノズル、ソニア社製超音波スプレーノズル及びソニック社製ブロワー及びエアーナイフ（乾燥装置）が産業用製品・メーカー情報比較サイト「メトリー」で紹介されました。 「Metoree（メトリー）」について メトリーはエンジニア・研究者・購買担当者の方のための産業用製品メーカー比較サイトです。 エンジニアの方が簡単に製品やメーカーを比較、選定する際に役立つ情報を提供しています。
Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- ウエハー
超音波スプレーノズルメーカー「Sonaer」社HPがリニューアルしました
超音波スプレーノズルメーカー「Sonaer（ソニア）」社のHPが新しくなりました。 以前のHPに比べて商品閲覧、そして新たにシステムの提供も開始しました。 ご興味が御座いましたら弊社までお気軽にお問合せください。
【Sonaer】ソニア社製パーティクルジェネレーター販売終了のお知らせ
このたびソニア社より、製品供給に関する重要な通知がございましたので、下記の通りご案内申し上げます。 ■ 販売終了製品について 2026年6月1日より、以下の製品は販売終了となります。 •241TM •VM モジュール •241CT •CST •CV •2.4MHz クリスタル 金およびフッ素系ポリマー製クリスタルの製造・調達コストが高騰していることから、これらの製品を単品で販売することが困難となったための措置です。 ■ 販売継続条件について 今後、241TM、VM、および 2.4MHz クリスタルにつきましては、 過去に 241PGT または 241PG をご購入いただいたお客様に限り、販売を継続いたします。 ■ 新規 241PGT の取り扱いについて 新規の 241PGT につきましては、 交換部品（リプレースメントパーツ）としてのみ提供されます。 新規用途での販売は行われません。 本件に関しましてご不明点やご相談がございましたら、どうぞお気軽にお問い合わせください。 引き続きご愛顧賜りますよう、何卒よろしくお願い申し上げます。
ピエゾの振動により加圧なしで液体を霧化させて噴霧。消費電力や液の無駄を抑えて均一な塗布が可能
- スプレー
- コーティング機
- ＣＭＰ装置
弊社取扱商品カタログがアペルザにて公開中
弊社取扱商品であるレヒラー社製エアーノズル（通称：マルチチャンネルジェット）、ソニア社製超音波スプレーノズル、ソニック社製ブロワー及びエアーナイフシステムのカタログが公開となりました。
高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式スパッタリング装置
- その他半導体製造装置
- スパッタリング装置
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ12inch対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ12inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF150W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF150W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリス（グリース） 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』
- 潤滑油
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」
2026年3月3日発売 仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」 塗ってすぐさらさらに、洗ってもさらさらが続く無香料処方で、仕事の集中を妨げません。 職場の共有スペースへの設置に適した法人購入（まとめ買い）に対応。 個人購入も承っております。 ↓詳しくはコチラ！↓ 製品サイト https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil.html 開発ストーリー https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil-story.html 弊社は「手荒れ対策を個人任せにしない」社会を目指し、 職場の標準的な健康施策としての普及を推進しています。
最高レベルの長寿命性。極高真空下（10-8Pa以下 ）にてアウトガスが発生しにくいグリス（グリース）です。
- その他半導体製造装置
- 真空機器
仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」
2026年3月3日発売 仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」 塗ってすぐさらさらに、洗ってもさらさらが続く無香料処方で、仕事の集中を妨げません。 職場の共有スペースへの設置に適した法人購入（まとめ買い）に対応。 個人購入も承っております。 ↓詳しくはコチラ！↓ 製品サイト https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil.html 開発ストーリー https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil-story.html 弊社は「手荒れ対策を個人任せにしない」社会を目指し、 職場の標準的な健康施策としての普及を推進しています。
LOGENEST LAMBDA AEP-4は真空かつ150℃以上の高温環境下でも汚染リスクやメンテナンス頻度の低減が期待できます
- その他半導体製造装置
- プリント基板
仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」
2026年3月3日発売 仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」 塗ってすぐさらさらに、洗ってもさらさらが続く無香料処方で、仕事の集中を妨げません。 職場の共有スペースへの設置に適した法人購入（まとめ買い）に対応。 個人購入も承っております。 ↓詳しくはコチラ！↓ 製品サイト https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil.html 開発ストーリー https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil-story.html 弊社は「手荒れ対策を個人任せにしない」社会を目指し、 職場の標準的な健康施策としての普及を推進しています。
高感度検出・定量化・可搬性に優れ、品質検査や研究開発の現場に好適。微小な付着異物や傷の検出とその定量評価に貢献いたします。
- 半導体検査/試験装置
- その他 衛生検査
- その他 外観・画像検査装置
メンテナンス・レジリエンス2026 『第52回 プラントメンテナンスショー』に微粒子可視化システムを出展いたします。(2026.7.15.(水)-7.17.(金)/東京ビッグサイト 東1ホール 1-H12)
自社ブランド「ViEST」として展開している微粒子可視化技術は、マイクロ・ナノサイズの微小粒子の浮遊状態や付着状態をリアルタイムに映像化できる非常に高い水準の検出感度を有しています。 可視化システムの販売や、評価サービス（生産工程・製造装置内外・工場環境等における微粒子や気流の調査、クリーン化商品の性能評価、歩留り改善策の提案等）の受託業務を国内外で展開しています。 製造現場では、目に見えない微細異物や発塵、静電気による粒子付着、気流の乱れなどが品質不良や歩留まり低下の原因となっています。 当社では、これらのコンタミネーション要因を可視化技術によって明確にし、発生源の特定から改善策の検討・効果確認まで一貫してサポートいたします。 このようなお悩みはありませんか？ ・異物混入の原因が特定できない ・クリーンルーム内の気流や清浄度を確認したい ・製造装置や搬送設備からの発塵を把握したい ・フィルムや基板への粒子付着を低減したい ・歩留まり低下の要因となるコンタミを改善したい
漏電遮断器【LCB15mA100V15A PSC AAM A】
- テスタ
半導体後工程検査にて安定した検査が可能なシートソケット！高速・高密度測定を可能にする「PCR」とは？動作原理等の技術資料を進呈！
- その他電子部品
- ソケット
- 半導体検査/試験装置
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
多元マルチスパッタリング装置【MiniLab-125】Φ12inch対応 SiCコーティング 1000℃ヒーターステージ 搭載！コンパクトサイズ！
多元マルチスパッタリング装置（Φ12inch基板対応） ・3元同時成膜 + 1元PulseDCスパッタ ・RF150W, DC850W両電源を3元カソード（Source1, 2, 3）へ自在に配置変更 ・5KW PulseDC電源も搭載 → 専用カソード（4）で使用 ・基板加熱ステージ Max800℃（SiCコーティングヒーターでMax1000℃も可能） ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF150W ・LLチャンバー ＜30W 低出力制御ソフトエッチング ・独自の"Soft-Ething"技術で基板バイアスにより基板のダメージを軽減 ・タッチパネル又はWindows PC操作：操作が分散せず、全ての操作をタッチパネル/PCで行うことができます。 ・装置設置寸法：1,960(W) x 1,100(D) x 1,700(H)mm ・マルチチャンバー式も製作可能です。 ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
【半導体業界必見】チップ確認をより正確に！高精度の研磨技術で集積回路を傷付けずに検査可能！
- ウエハ加工/研磨装置
耐薬品性・耐熱性に優れたPFA毛材を使用。特殊環境向け特注ブラシ
- その他半導体製造装置
- 食品用フィルム・シート
- その他食品機械
Compact & Resonable for Highend Process !
- その他ポンプ
- レジスト装置
- めっき装置
Compact & Resonable for Highend Process !
- その他ポンプ
- その他半導体製造装置
- ミキサー・攪拌器
寿命がある軸受や摩耗するシールを使わない、革新的な磁気浮上式遠心ポンプ！
- その他ポンプ
- ＣＭＰ装置
- ウエハ加工/研磨装置
Better Pumps for Better Yields !
- その他ポンプ
- その他半導体製造装置
- 純水製造装置
熟練作業に依存せず、安定した加工品質を確保する半自動研磨装置！加工条件を一定化し仕上がりのばらつきを低減！バリ残り加工ムラ防止！
- ウエハ加工/研磨装置
医療機関・工場の使用環境に合わせて選べるバリエーションと設備組込み対応の高耐久アーム
- その他
- その他機械要素
- その他半導体製造装置
