石英の製品一覧
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渋谷光学では、グリッド・チェッカー・ドットと３つパターンから３タイプ・各種サイズにて、ご用意しております。
- その他画像関連機器
- 三次元測定器
- その他計測・記録・測定器
デュラサーフDS-5800シリーズは、表面張力が低く、耐溶剤性と撥水・撥油性に優れた効果を発揮するフッ素コーテイング剤です
- コーティング剤
- プリズム
- その他高分子材料
テルモセラ・ジャパン研究開発用実験炉を紹介。燃料電池・セラミックス等の材料開発・黒鉛・等の超高温実験に活用頂けます。
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
流体を汚染させること無く瞬間加熱を行うことが可能で、装置組込みや既設ラインへの組込み等、インライン設置に最適です。
- その他ヒータ
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です。ユニテンプジャパン製
- はんだ付け装置
- 加熱装置
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です。ユニテンプジャパン製
- はんだ付け装置
- 加熱装置
半導体式マイクロ波加熱実験装置 発振周波数915MHz 各種電池材料の開発・化学合成等の実験に最適です。電界と磁場の個別制御
- 加熱装置
GaNの結晶成長をはじめ、急速・均一な熱処理を必要とする幅広いアプリケーションに応用頂けるアニール炉です【テスト可】
- はんだ付け装置
- 加熱装置
【飲料･食品業界国内シェアトップクラス！1970年代からの豊富な実績と経験】貯水タンクの微生物抑制に！薬品を使用しない安全な対策
- 紫外線照射装置
卓上ディップコーター(ディップコーティング装置)に最適のガラス製ディップコート液用タンク。石英、テンパックスに対応。
- ガラス器具・容器
異物が混入しても液割れなくフラットで精密な噴射が可能！ 液割れしない、スプレー式液ノズル (フラット)
革新的な内部構造設計により、異物が混入しても ノズル噴射口は詰まりませんので、安定的なプロセスを維持出来ます。 製品サイズもお客様の要求に合わせて製作可能ですので、お気軽にお問合せ下さい。 ■石英ガラス製ノズル 特定ケミカルに対してはPVDF材質を使用しますが、 PVDFは強度、重量の問題でノズルに撓みが発生、改善品として石英で製作して問題解決！ ■アクアナイフ LCD、OLEDを製造する装置で良く使われているアクアナイフです。 洗浄機のインシャワー、現像後の水洗、エッチング後の洗浄、 剥離後の水洗など重要な工程で使用されています。 現在使用中ナイフとの交換も、改造無しで行う事が出来ます。
