更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
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外装SUSは仕様！CR内に対応した洗浄装置、剥離装置
ヴァリアス社製の「自動洗浄装置、レジスト剥離装置」は、 多種の洗浄物に対応した洗浄レシピを搭載。 処理能力に対応した自動搬送型で、剥離液にはリークの無い配管を使用。 ポンプもシールレス採用しています。 【特徴】 ○溶剤により防爆仕様対応 ○超音波は各メーカー、周波数に対応 ○装置内はFFU搭載も可能 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
洗浄は品質が決め手！各種非標準洗浄装置をオーダーメイド対応いたします！
『電解イオン水生成装置』は、水道水を洗浄液に変える電解イオン水洗浄システムです。 当社独自の特殊電気分解方式を採用した電解イオン水生成装置を搭載しており、 原水（水道水・工業用水等）を供給するだけで、自動的に電解イオン水を生成し、洗浄液として使用します。 また洗浄機の前後工程である、搬送機、圧入機、刻印装置、組立装置等も ご要望に合わせて設計から対応が可能です。 【特長】 ■各種非標準洗浄装置をオーダーメイド対応 ■薬剤・薬品は使用しない ■水道水を洗浄液に変える電解イオン水洗浄システム ■電解イオン水でクーラントをパワーアップ ■世界の3拠点にて最適生産対応 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
洗浄物に合わせ多彩な洗浄方法が可能！ロボットハンドリングによる洗浄機！※特許製品
『ロボットハンド式洗浄機』は、高洗浄力でシンプル構造、ハンドチェンジのみで 簡単段替ができる洗浄機です。 搬送構造の簡略化でメンテナンス環境を向上。稼働率アップで省エネに貢献します。 また、洗浄液の瞬時ろ過は当社のノウハウによって異物再付着防止ができます。 各社ロボットメーカーに対応可能です。 【特長】 ■ロボットハンドリングによる洗浄 ■洗浄物に合わせ多彩な洗浄方法が可能 ■ノズル駆動物の削減 ■設備構成のシンプルスリム化 ■簡易メンテナンス ■省エネ・低コスト ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
レジスト・ペースト除去ができる太陽電池用の洗浄装置！超高速処理が可能
『VALIUS（バリウス）』は、レジスト・ペースト除去が出来る、 多連式超音速ノズル搭載の蒸気2流体洗浄装置です。 高価な薬液を必要としないため、コスト低減に繋がるほか、 コンパクトな設置面積（本体）を実現しています。 連続処理で500枚／時以上の超高速処理が可能。 原料は「水」なので、化学薬品の使用量を大幅に低減することが できる環境にやさしい装置です。 【特長】 ■コスト低減 ■コンパクト設計 ■超高速処理能力 ■環境負荷低減 ※詳しくは、お気軽にお問い合わせ下さい。
世界に一つしかない究極の完成度と品質を追求する高精度洗浄機専用メーカー！
株式会社アチカ機械は、高精度の洗浄機等の設計・据付・調整までの トータル専用機メーカーです。 当社の機械たちは、微細な汚れまでも洗い落とし、安全で効率の高い製品を 作り上げるお手伝いをしています。また、徹底した生産管理体制にも 充分対応しており、お客様のご要望どおりの機械が「輝き」の製品作りを お約束します。 洗浄機のことでお困りでしたら、洗うことなら何にでも対応する当社に ご相談ください。 【事業内容】 ■超音波洗浄機、高圧洗浄機、溶剤洗浄機、ほか洗浄機各種、搬送装置、 マシンツーマシン、リークテスター等の製作 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
洗浄品質の確保や機械間のワークストックレスなどに！水平インデックス搬送により効率的な工程設計が可能
「インデックス式洗浄機・各種自動化」についてご紹介します。 当社の取り扱う『インデックス洗浄装置』は、省スペースである為 様々な工程に組み込むことが出来、応用性の高い装置です。 安全確保と作業効率を向上させオペレータ作業の効率化を図るほか、 洗浄機単体の自動化やインライン自動化など多彩な場面で貢献します。 【ターゲット01：オペレータ作業の効率化】 ■設備内容 ・エリアセンサ ・ながらスイッチ ・投入OKランプ ・ワーク誤セット検知(ポカ除け) ・未加工品取出し防止(インターロック) ■特長・効果 ・安全確保と作業効率向上 ・洗浄品質の確保 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
《新型》社内デモ機でさまざまなサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応！好適な形にカスタマイズ
本装置は、40KHz帯の[ホーン型超音波]、[BLT型超音波]に加え、 [高圧ジェットノズル]、[スプレーノズル]等の多種多様なツールを 搭載し各種基板表面状態に応じた有機剥離リフトオフのデモに対応します。 社内デモ機で様々なサイズや基板種、デバイスパターン状態に対応。 そして得られた各種知見・ノウハウを盛り込み、好適な形に カスタマイズされた実装置化を行います。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、枚葉基板洗浄機、枚葉スピン洗浄機、表面処理、薄ウエハ、絶縁膜、高圧ジェット洗浄機、基板クリーニング装置、ロードロック室、ガラス搬送、ガラス基板、ウエハ洗浄機
電子基板、電子部品のフラックス洗浄！ 研究開発、実験、少量生産に最適！
ダイレクトパス洗浄機は各種電子基板用のフラックス洗浄装置です。 強制液流により洗い辛い狭い隙間の汚れを効果的に洗浄可能です。 研究開発、実験、少量生産に最適な小型機です！ 【特長】 ○洗浄性、乾燥性 特殊な液流により狭隙間、袋穴、束ねた板状物等の洗浄、乾燥に優れた威力を発揮します！ 純粋再生ユニットPINE RECを用いることで廃水も低減。 ○コンパクト ３層式とし装置幅を抑えコンパクトに設計 標準仕様にて安価に製作 ○最適な洗浄システム 各種フラックス洗浄剤、ワークサイズ、搬送機構、等お客様ニーズに併せたカスタム対応が可能！
シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。
■国内マスク製造メーカー業界ではシェアー90%を誇ります。 ■「研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」に最適。 ■デバイスメーカ様では、「コンタクト露光時に付着したレジスト除去」に実績豊富 ■基板サイズごとにシリーズ化した標準装置ですが、カスタム対応も可能です。 ■基本処理プロセスは、「洗剤/スクラブ⇒DIW2流体⇒表裏リンス⇒スピン乾燥」 ◎スクラブや2流体処理時には、スキャン旋回機能が標準搭載 ◎DIW2流体ツールで、優れたパーティクル除去 ◎スクラブブラシは、ナイロン刷毛ブラシ or PVAブラシを基板表面状態で選択 ■各種オプションで多様なニーズに対応 ◎<洗剤の自動希釈><ブラシの自己超音波洗浄><CO2イオナイザー><MS洗浄> ■基板のC/C自動搬送処理装置にも対応実績豊富 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置
最小1.4mのラックコンベアタイプ食器洗浄機
『CTRシリーズ』は、コンパクトなサイズながら高い洗浄パフォーマンスを誇る、コンパクトラックコンベア食器洗浄機です。 1時間に最大195ラックの処理が可能で、食数100~400名までの食器洗浄に最適です。 ランニングコストも低く抑え、衛生面でも最高の安全性と非常に高い柔軟性を確保。 後からでも追加可能なモジュールシステムで、現場の食数に合わせてカスタマイズ。最高3タンクまで拡張可能。 オプションで排気回収システム『Energy』を選択すればランニングコストをさらに削減。室内環境の悪化も効果的に抑制します。 【特長】 ■食数に合わせてカスタマイズ可能なモジュール設計 ■コーナーやエッジを無くした衛生的な設計 ■ラック感知によるゾーン別稼働でランニングコスト削減 ■搬送速度に応じたすすぎ湯量自動調整機能で経済的 ■180°横開きドアで安全 ■スマートタッチディスプレイで簡単操作 ※詳しくはカタログをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
量産現場向け 高信頼性自動スクラブ洗浄装置
■「CMP後や研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」としての量産現場に最適 ■マスクのコンタクト露光時に付着した「レジスト除去」にも対応可能 ■2-チャンバー構成で1.8分/枚にも対応実績有り ■「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等のオプション対応が可能 ■ベベル部汚れには「高圧Jet」「DIW2流体」で対応 ■裏面コンタミフリーを基本コンセプト ◎真空チャックはコンタクト部の汚染があるため基本使いません ◎裏面リンス機能は標準搭載です。 ※詳しくはPDF資料をダウンロードいただくか、気軽にお問い合わせ下さい。 ※類似機種の《フォトマスク洗浄機》カタログも参照ください。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、基板クリーニング装置、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機、搬送装置
端面をローラ駆動させ川幅方向のサイズ変更も可能とした次世代型洗浄装置
『DACC-061-3L』は、4インチ（61mmx124mm）から7インチ （140mmｘ200mm）のパターン付き小判ガラス両面の各種汚れを 洗浄除去する装置です。 洗浄液は一般の洗剤やクリーナーに含まれる界面活性剤や化学合成物質 BOD/CODなどの環境汚染物質の含有量がゼロの機能水を生成する装置を搭載。 成分の99.9%が純水でありながら合成洗剤と同等、 またはそれ以上の洗浄効果を発揮します。 【特長】 ■ガラス基板にローラー痕ゼロ ■多品種生産対応可能 ■優れた洗浄力 ■機能水＋超音波洗浄 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせて、枚葉による高速処理・高洗浄力・低消費薬液が可能。
当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。 ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。 また、DIP処理で問題となるパーティクルの再付着がありません。 使用薬液は純水ですが、仕様によってはNMP等の有機溶剤も 選定可能です。 【特長】 ■高圧ジェット方式による高い洗浄力 ■2流体、1流体スプレーノズル等の方式が選択可能！ ■高圧ジェットと2流体、1流体スプレーとの組み合わせもが選択可能 ■パーティクル再付着なし ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
※洗浄テスト実施中！全自動で簡単洗浄！トリクレンなど有機溶剤を使用しない環境に配慮した『水で洗う部品洗浄機』のノウハウを公開中！
『VORTENRYUシリーズ』は、水で洗うTriple Wash部品洗浄機です。 強力洗浄トリプルウォッシュにより「シャワー洗浄」「流水洗浄」 「浸漬・揺動洗浄」を同時に行い、優れた洗浄力を発揮する 当社独自の洗浄方法。 オペレーターの身体的負担が少ない構造となっており、視界を遮らない コンパクトな高さで、持ち運びができる適切な重さです。 【特長】 ■洗浄スピード ■特許技術の「トリプルウォッシュ」による確かな洗浄力 ■オペレーターに配慮 ■溶剤を使用しないので匂いが少ない ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
電子基板、電子部品のフラックス洗浄で実績多数！ 狭い隙間の汚れを効率的に洗浄！
ダイレクトパス洗浄機は各種電子基板用のフラックス洗浄装置です。 強制液流により洗い辛い狭い隙間の汚れを効果的に洗浄可能です。 大手半導体、電子部品メーカー様に多数採用頂いております。 数10μｍの狭ギャップのフリップチップパッケージ、カメラモジュール 等の各種電子部品のフラックス洗浄に最適です。 【特長】 ○洗浄性、乾燥性 特殊な液流により狭隙間、袋穴、束ねた板状物等の洗浄、乾燥に優れた威力を発揮します！ ○高スループット 洗浄物多くを充填する事で洗浄・乾燥効率が向上し、一般的な方式の２倍の高スループットを実現します！ ○低ランニングコスト 効率的な液切りにより、洗浄剤消費量を１／３に低減！ ○最適な洗浄システム 各種フラックス洗浄剤、ワークサイズ、搬送機構、等お客様ニーズに併せたカスタム対応が可能！
