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年間約50万円の削減効果が見込める！拭き取り作業のみで清掃しやすい構造
『NAW-PATA』は、電源プラグを差し込むだけで起動し、 カゴを装置に押し込めば自動的にカウントを開始する食器・トレイ 自動カウント装置です。 食器やトレイを非接触でカウントするので、カゴに付着した残菜等で汚れる 心配はなく、飛び跳ね等で汚れが付いた場合でも拭き取り作業のみで 対応可能。 また、従来の食缶洗浄における前処理作業を自動化する 「食缶前処理システム」もご用意しております。 【NAW-PATA 特長】 ■カゴを押し込むだけで自動カウント ■清掃しやすい構造 ■作業人員1名の削減とした場合年間約50万円の削減効果が見込める ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
調理と配缶場所を明確に区分して作業性を高められる！状況に応じた移動や固定が可能
『和え物盆SMK』は、内釜を取り外し、シンクで洗浄できる 排水用の床ピットが不要な内釜着脱移動式和え物盆です。 内釜1個当たり65Lでおよそ600食の調理に対応。 1校単位での調理、配管が可能なので喫食までの時間を短縮し、 トレーサビリティも確保できます。 また、果物提供時や清掃時など使用状況に応じて移動や固定ができます。 ロックは2か所に取り付けられたフットレバーを踏み込むだけで簡単です。 【特長】 ■簡単設置 ■少量調理 ■移動式 ■内釜着脱式 ■内釜回転 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ひとつ上の美味しさを実現する、スチーム専門メーカーの技術力。調理から除菌、乾燥まで幅広く対応したオーブンです。
過熱水蒸気オーブン『DFC-800-2R』は、 最高400℃の過熱水蒸気を常圧加熱で実現しました。 過熱水蒸気の「凝縮熱」は、豊富な熱量で食材を素早く均一に焼成し、 旨味と水分を閉じ込めてジューシーな食感をキープ。 調理庫の上部に扉を設置（フロントウイングハッチ式） 日頃の洗浄やメンテナンス工程がシンプルになり、時間とコストを低減します。 「過熱水蒸気」は調理だけでなく、除菌・乾燥・脱臭・焙煎・油ヌキなど、様々な利用方法があります。 【特長】 ■平均歩留まり率が80％、生産性が大幅アップ ■上部扉が簡単に開閉（フロントウイングハッチ式）で、清掃性が格段にアップ ■高温の水蒸気を、安全で大量につくることが可能 ■超低酸素状態で調理する過熱水蒸気は食品が酸化しにくい ■できたての風味と食材本来の色味を長時間キープ ■におい移りがなく、異なる食材の同時調理も可能 当社は6月10日～6月13日に開催されるFOOMA JAPAN 2025に出展いたします。 皆様のご来場を心よりお待ちしております。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
《レンズ・プリズム・精密部品洗浄に》洗浄溶剤が常に再生・再利用され、高い洗浄精度が期待できます。その上、溶剤消耗量が激減します。
2種類の洗浄溶剤で洗浄と乾燥を行うコ・ソルベント方式。 炭化水素系洗浄溶剤（HC溶剤）で洗浄し、HFE/HFC溶剤（リンス溶剤）でリンス・乾燥する洗浄システムです。 HC溶剤中で溶解された汚れはHC真空蒸留機で蒸留再生され装置外へとたされます。 リンス溶剤に持ち込まれたHC溶剤は溶剤分離装置を経て、HC溶剤とリンス溶剤は其々の洗浄槽に戻され、再利用されます。 【特徴】 ○経済的 HC・HFEの蒸留装置とHC/HFE分離装置により 洗浄溶剤は再利用される（溶剤消耗量が激減） 溶剤の予想使用量は見積時に算出・提示します。 ○安全 引火点の高い安全な第4類・第3類石油類の溶剤が使用可能 非洗浄物はフッ素系洗浄溶剤の沸点温度以上には上りません ○洗浄精度 表面張力約25nN/mの炭化水素系洗浄溶剤洗浄後 表面張力約13.6nN/mのフッ素系洗浄溶剤でリンス・乾燥 精度の高い洗浄結果が期待できます ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
省スペース・低ランニングコスト・低価格の超音波洗浄機！安全・簡単乾燥を実現
炭化水素（HC)系洗浄溶剤で洗浄⇒HFE溶剤蒸気でリンス洗浄⇒乾燥工程で速乾性のあるHFE溶剤を回収（乾燥・洗浄終了）⇒取り出し HC溶剤は洗浄中、HFE蒸気に覆われ、直接空気に触れる事が無い為、引火の心配が不要。 リンス洗浄工程で使用するHFE溶剤の沸点は56℃で洗浄物の表面温度は56℃以上には上昇しません。 洗浄後の製品取り扱いが非常に簡単になります。 本装置で使用します溶剤は全て回収・再利用が可能（オプション）。 300型と600型の2機種の販売を開始します。 其々の洗浄冶具寸法は 200mm×300mm×200mmH、290mm×350mm×250mmHです。
基材を痛めずに洗浄やコーディング膜の削除を可能とした噴流加工
SIRIUS-Oは、噴流加工技術を搭載した洗浄装置です。 噴流加工とは、弾性体であるメディアを噴射し、スベリながら被加工物に アタックすることで面ダレ・梨地などが発生しない加工技術です。 被加工物へのダメージも無く、コーティング膜のみを落とすことができるので、精密部品の洗浄などに適しています。
洗浄槽にはフィルター循環方式を採用
【特長】 ●汎用性の高い洗浄槽+リンス槽（２槽）の組み合わせ ●超音波発振器は洗浄槽とリンス槽（１槽）に装備（38ｋＨｚ/600Ｗ） ●洗浄槽にはフィルター循環方式を採用 ●リンス槽は２槽のフロー方式でヒーター（ＭＡＸ５０℃）が付属 ※詳細は【資料請求】まで
ドライ洗浄により冶具が長持ち・コスト削減！ウェット洗浄に比べて大幅な時間短縮！
GaN成膜装置冶具用ドライ洗浄装置はMO-CVD装置の冶具などの成膜時に堆積するGaNやAlN等をドライエッチング方式で洗浄する装置です。 パワーデバイス、レーザーダイオード等の化合物・半導体や青色LEDの製造に最適。製造時の製品歩留まりの向上、ランニングコストの削減に効果を発揮します。 ★☆★【無料デモ】実施中！！★☆★ 【特徴】 ●ＧａＮ成膜装置に使用する各種冶具のドライ洗浄に最適 ●洗浄可能な冶具は、ＳｉＣコートカーボン、石英等。 ●ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 。 ●ウェット洗浄に必要な高価な大量の予備部品は不要 ●本装置導入でメンテナンス費用の削減に貢献可能！ ●作業者に負担のかからない安全設計。 ★【無料デモ】ご希望の方は≪お問い合わせ≫よりご連絡ください★
精密部品、光学ガラス部品から自動車・衛星まで。幅広く利用可能の蒸気洗浄機
精密部品、光学ガラス部品をはじめとして電子部品や自動車関係、衛生関係部品に至るまで幅広い分野で使用する事が可能。 真空装置で問題となる「出ガス」を大幅に取り除く事も可能とした蒸気洗浄機です。
【無料デモ実施中！】新開発・高性能設計で大幅なコストダウンを実現！作業者の負担も軽減されます
「MDC8540L」は、パワーデバイスや青色レーザーダイオード、青色LED等の化合物半導体製造用MOCVD装置の治具に、成膜時に堆積するGaN、AlN等のドライエッチング方式で洗浄するMDCシリーズのフラッグシップモデルです。 量産時の製品歩留まりの向上、ランニングコスト削減に最適です。 【特徴】 ■GaN、AlN成膜装置に使用する各種治具のドライ洗浄に最適 ■洗浄可能治具は、SiCコートカーボンサセプター、石英治具等 ■ダミーウエハのサファイア基板も洗浄可能 ■ウエット洗浄や、大量の予備部品不要 ■本装置導入による、メンテナンス費用の削減 ■作業者に負担のかからない、安全設計 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
ガラスの各種洗浄及びプロセス間での液切りに最適！！
PVAロールスポンジはカーボンシャフトを使用し、P V A スポンジ表面に特殊研磨加工を施し、高精度な洗浄を可能とします。従来と比較し、ガラス洗浄のP V A スポンジとしては、最長の3 6 0 0 mmまで製作が可能です。詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
２種類のフィルター搭載したろ過システム
研磨材ろ過システムは、２種類のフィルターを搭載したろ過システムです。１次フィルターはバッグ式３層フィルター（※メッシュ＃50 メッシュ＃80 メッシュ＃200）、２次フィルターはカートリッジフィルター（特殊形状）です。循環研磨材の中に含まれる異物を除去し再度研磨機へ供給致します。詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。
