ウェハ洗浄機のメーカーや取扱い企業、製品情報、参考価格、ランキングをまとめています。
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ウェハ洗浄機 - 企業5社の製品一覧とランキング

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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企業ランキング

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  1. 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,) 埼玉県/産業用機械
  2. 株式会社テクニカルフィット 埼玉県/産業用機械
  3. 特機工業株式会社 大阪府/その他
  4. 4 ジャパンクリエイト株式会社 埼玉県/試験・分析・測定
  5. 5 セファテクノロジー株式会社 京都府/産業用電気機器 京都事業所

製品ランキング

更新日: 集計期間:2025年03月26日~2025年04月22日
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  1. ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
  2. ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)
  3. 洗浄装置 太陽電池 シリコンウエハー洗浄装置 特機工業株式会社
  4. ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」 株式会社テクニカルフィット
  5. 4 ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」 株式会社ゼビオス(XEVIOS CORP.,)

製品一覧

1~9 件を表示 / 全 9 件

表示件数

エッチング装置 ウエハ洗浄装置

【デモ機貸し出し可能!】処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置

本機は手動でカセットの入ったバスケットをハンガーに取付、処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置になります。 詳しくはお問い合わせ下さい。

  • エッチング装置

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洗浄装置 太陽電池 シリコンウエハー洗浄装置

精密な部品を洗浄するのに最適。

太陽電池に使用されるシリコンウエハーの洗浄ラインです。 完全オーダー品だからこそ、細かなニーズにお応えできます。 【特徴】 ○『粗洗浄装置』と『仕上洗浄装置』に分けて洗浄。(写真は粗洗浄装置) ○粗洗浄装置1台で、洗浄・治具分離・リンスの工程を全て行います。 ○仕上洗浄装置1台で、洗浄・リンス・乾燥の工程を全て行います。 ○シリコンウエハーを痛めない精密搬送。 ○鉱物性切削油、水溶性切削油、共に専用製作可能。(粗洗浄装置) ○自動消火装置の搭載 及び 防爆構造が可能。 ●詳しくはお問合せください。

  • シリコンウエハー洗浄機 画像1.jpg
  • その他洗浄機

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ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

  • その他洗浄機

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バッチ式 ウェハー洗浄装置

大掛かりな改造も時間の短縮が可能

架台のユニット化により装置コンフィング等の大掛かりな改造も時間の短縮が可能

  • その他洗浄機

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ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

  • その他洗浄機

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ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

  • その他洗浄機

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ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(量産型)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

  • その他洗浄機
  • 超音波洗浄機
  • その他半導体製造装置

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ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置(研究開発用)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

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ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置(研究開発用)」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ : シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径  :φ2”~φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。

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