枚葉式半導体ウエハの洗浄装置例
メガチューブ＆スポット型シャワーを使用した両面洗浄、表面洗浄とエッジの同時洗浄装置
メガチューブとスポットシャワーを半導体ウエハの枚用装置に搭載しました。 チャンパー内の狭いスペースにも振動子２台の設置が可能で、表面と裏面・エッジを同時に高清浄度に洗浄することが可能です。 ※以下で動画を確認いただけます。
- 企業：株式会社カイジョー ODM事業部
- 価格：応相談
ウェハ洗浄機 - メーカー・企業10社の製品一覧とランキング
更新日： 集計期間:2025年08月13日～2025年09月09日
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ウェハ洗浄機のメーカー・企業ランキング
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- 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,） 埼玉県/産業用機械
- 株式会社ダルトン 東京都/産業用機械
- 株式会社テクニカルフィット 埼玉県/産業用機械
- 4 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ 埼玉県/電子部品・半導体
- 5 株式会社カイジョー 東京都/産業用電気機器 ODM事業部
ウェハ洗浄機の製品ランキング
更新日： 集計期間:2025年08月13日～2025年09月09日
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- ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- ウエハー洗浄装置（バッチ式）※テスト可能機種あり 株式会社ダルトン
- ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」 株式会社テクニカルフィット
- ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー） 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
ウェハ洗浄機の製品一覧
1～15 件を表示 ／ 全 16 件
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バッジ式半導体ウエハの洗浄装置例
クオーバ＆ハイメガソニックを使用した半導体ウエハ洗浄装置
半導体ウエハの石英槽を用いた間接洗浄にクオーバやハイメガソニックが用いられています。特にハイメガソニックは高洗浄力や機能が評価され、1986年の出荷以来、世界中で使用され御好評をいただいております。 またクオーバは先進のダメージ低減機能を搭載しています。
- 企業：株式会社カイジョー ODM事業部
- 価格：応相談
ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）
実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせて、枚葉による高速処理・高洗浄力・低消費薬液が可能。
当社のスクラバー装置は、当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高洗浄力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。 ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。 また、DIP処理で問題となるパーティクルの再付着がありません。 使用薬液は純水ですが、仕様によってはNMP等の有機溶剤も 選定可能です。 【特長】 ■高圧ジェット方式による高い洗浄力 ■2流体、1流体スプレーノズル等の方式が選択可能！ ■高圧ジェットと2流体、1流体スプレーとの組み合わせもが選択可能 ■パーティクル再付着なし ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。
- 企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ
- 価格：応相談
エッチング装置 ウエハ洗浄装置
【デモ機貸し出し可能！】処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置
本機は手動でカセットの入ったバスケットをハンガーに取付、処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置になります。 詳しくはお問い合わせ下さい。
- 企業：ジャパンクリエイト株式会社
- 価格：応相談
洗浄装置 太陽電池 シリコンウエハー洗浄装置
精密な部品を洗浄するのに最適。
太陽電池に使用されるシリコンウエハーの洗浄ラインです。 完全オーダー品だからこそ、細かなニーズにお応えできます。 【特徴】 ○『粗洗浄装置』と『仕上洗浄装置』に分けて洗浄。（写真は粗洗浄装置） ○粗洗浄装置１台で、洗浄・治具分離・リンスの工程を全て行います。 ○仕上洗浄装置１台で、洗浄・リンス・乾燥の工程を全て行います。 ○シリコンウエハーを痛めない精密搬送。 ○鉱物性切削油、水溶性切削油、共に専用製作可能。（粗洗浄装置） ○自動消火装置の搭載 及び 防爆構造が可能。 ●詳しくはお問合せください。
- 企業：特機工業株式会社
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
ウエハー洗浄装置（バッチ式）※テスト可能機種あり
ウェットエッチングによる、コストダウンに配慮した仕様をご提案します。
ウェットエッチングならではの低コスト、高生産性を実現します ご要望に応じて様々な搬送位置や方式に対応し、追加機構の付加、カスタマイズも可能です 【特長】 ■全自動酸・アルカリエッチング（洗浄）装置 ■手動酸・アルカリエッチング（洗浄）装置 ■RCA洗浄装置 ■前面搬送機タイプ・背面上部搬送機タイプの他に、お客様のニーズに合わせ上部搬送機タイプ・背面搬送機タイプにも対応できます ■キャリアレス搬送式、キャリア搬送式、キャリアハンガー搬送式等、コストに合わせてお選びいただけます ■前後装置との受け渡し機構や外部通信機能の追加が可能 ■自動扉や自動蓋、自動薬液供給、秤量、回収装置を装備可能 ■エッチング液の濃度管理機構の装備が可能。対象薬液はご相談ください（例：TMAH、KOH、HF、HCLなど） ■出荷前検査としてエッチング処理槽内の温度分布の計測が可能 ■上下揺動機構の他、ウエハー回転機構の追加が可能 ※当社の東京テストセンター（墨田区）にて、テストを実施頂けます。（オンライン対応可） ※詳しくはカタログをダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください。
- 企業：株式会社ダルトン
- 価格：応相談
ウエハー洗浄装置（スピン式）※テスト可能機種あり
生産規模に応じて複数チャンバーに対応。ウエハーの均一なエッチングを実現します。
自動酸・アルカリ洗浄装置 対応ワークサイズ φ2～12インチ。角型基板などの特殊サイズもご相談ください 2流体混合ノズルにより直接2種類の原液を使用した洗浄処理を実現。混合比率を調整することにより反応熱で狙いの温度に昇温することが可能 【その他特長】 ■ブラシ洗浄機能付き装置の製作が可能 ■フォトマスク洗浄装置の製作が可能 ■薬液供給、回収ユニットの装置本体組込みが可能 ■オプションでオゾン水洗浄が可能 ■オプションでナノバブル洗浄が可能 当社東京テストセンターにて、テストを実施頂けます。（オンライン対応可） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
- 企業：株式会社ダルトン
- 価格：応相談
スピン＆コンベア処理装置 （エッチング・洗浄・剥離）
高品質基板を高スループット 且つ 低コストで提供可能！
■エッチングや洗浄プロセスに最適です。 ■薬液処理はスピン方式で、リンス乾燥はコンベアー方式 ■W-レーンで更なる高スループット対応した実績有り。 ■エッチング時の危険な腐食性ガス対策 ◎スピンチャンバー部に前後シャッターやローラーを具備 ■薬液の温調循環再利用機能や排水の濃厚/希薄分離機能を有します。 ■リンス時のスィングスプレー機能も搭載可能 ■リンス水飛沫の再付着防止を考慮した上下エアーナイフ乾燥 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ウエハ、枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、シリコン、スクラブ洗浄装置、スクラブ洗浄、ウエハ剥離装置、ウエハ洗浄装置、ウエハ洗浄機
- 企業：株式会社ソフエンジニアリング
- 価格：応相談
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）
- 価格：応相談
ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
- 価格：応相談
ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
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ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」
ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。
ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ ： シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径 ：φ2”～φ8” 厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ※詳しくはお問い合わせいただくか、カタログをダウンロードしてご覧ください。
- 企業：株式会社テクニカルフィット
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