更新日： 集計期間:2025年11月26日～2025年12月23日
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最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭載可能
『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■スチールステンレス製チャンバー ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
『無料サンプル』進呈中！【PDFダウンロード】ボタンからお申し込み方法をご確認いただくか、関連リンクから直接お申し込みください。
世界のALD装置の市場規模は、2023年に39億米ドル、2028年までに62億米ドルに達し、2023年～2028年にCAGRで10.0%の成長が予測されています。 当レポートでは、世界のALD装置市場について調査分析し、主な促進要因と抑制要因、競合情勢、将来の動向などの情報を提供しています。
粒子専用のALD（原子層堆積 Atomic Layer Deposition）装置 ナノスケールの粒子を成膜できます。
研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種類の容量のリアクターサイズ ■複数のプレカーサーを個別に温度コントロール ■多様な粒子材料へ多様な膜の成膜が可能 ■カスタムレシピーを容易に作成し自動運転 ■粒子容器は取り外し可能 ＊量産用の装置ラインアップもございます。
