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裏面アライメントがないので低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に最適な装置を実現しました。
『AMA6000』は、自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 ASAPのマスクアライナーはマスクと完全非接触でウェハとのギャップ管理を行います。 非接触もできますが、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 低価格、コンパクト、簡単操作を実現しました。 【特長】 ■完全非接触での平行出し&露光 ■省スペース&簡単メンテナンス ■オートアライメント ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ESシリーズのローコスト片面アライナー
お客様の仕様やご予算にあわせて最適なマスクアライナーをビルドアップ。各種ユニットやオプションの中から必要なものだけを選択することで無駄なコストを抑えた使い易い装置が構成できます。ご要望を伺い、最適な仕様をご提案致します。 またほとんどのユニットが後から追加・交換できますので将来のグレードアップや初期導入コスト削減も可能です。2タイプのUV光源装置から選択できます。（露光サイズ各種）φ1～4インチ試料対応（角形試料等カスタム形状にも対応）し、□2～5インチマスク対応です。また、CCDカメラ、実体、接眼タイプ等各種観察顕微鏡から選択できます。コンパクトでローコストです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ローコストでフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナー
実験・研究用マスクアライナー ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー
高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動＋ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応！
両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応
両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載（オプション） 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
最大4インチ角基板対応 手動露光機
ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使用頂けます。
光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、完全非接触ギャップ管理、オートアライメント機能搭載です。
当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントも正確に行います。 露光方式としてプロキシミティ、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたラインアップで、 設計から製造・販売まで自社で行っているので、低価格を実現しました。 【特長】 ■i線（365nm)、H線（405nm)に対応！（g線はご相談ください） ■完全非接触でフォトマスクとウエハの平行出し&露光 ■オートアライメント機能 ■段取り替えが容易で、複数基板サイズ対応可能 ■省スペース&簡単メンテナンス ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産にも好適 ■超精密UVWステージ搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
露光光源照度分布は±5％以内！デスクトップ型と自立型のモデルをラインアップ
『BA100/160/200』は、上下両面に高位置精度パターニングするマニュアル型の両面マスクアライナーです。 デスクトップ型でウェハサイズ4inの「BA100」と6inの「BA160」に加え、 自立型でウェハサイズ8inの「BA200」をラインアップ。 また、アライメント精度はTop-sideにて±2μm、Bottom-sideにて±5μm としております。 【仕様（抜粋）】 ■ウェハサイズ：4in/6in/8in ■露光光源照度分布：±5％以内 ■露光解像度 ・ソフトコンタクト：L/S 3μm ・ハードコンタクト：L/S 1μm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
セミカスタムで最適なシステム構成にできます
汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。
弊社独自の多層膜蒸着マルチミラーランプハウス搭載機
■マルチミラーランプハウス採用により均一性の高い照度分布。 ■各種自動機構部採用により操作性が向上したセミオートでの使用も可能。 ■アライメント顕微鏡は三眼鏡筒を採用。モニターでのアライメントも可能(オプション)。
ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備！マスクアライナー
『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などに ご使用いただけます。 【特長】 ■ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性 ■各種ユニットやオプションを選択可能 ■目的にフィットした装置にセットアップ可能 ■ほとんどのユニットが後から追加・変更可能 ■将来のグレードアップにも対応 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
