プラズマ装置 PiPi(ピピ)
小型卓上タイププラズマ装置 PiPi(ピピ)
・スペースを取らず、研究・開発用途に最適 ・使いやすく簡単に処理ができる低コスト装置 ・推奨真空ポンプPD139 ・RIEモード専用
- 企業:ヤマトマテリアル株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年08月27日~2025年09月23日
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小型卓上タイププラズマ装置 PiPi(ピピ)
・スペースを取らず、研究・開発用途に最適 ・使いやすく簡単に処理ができる低コスト装置 ・推奨真空ポンプPD139 ・RIEモード専用
生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。
プラズマイオン注入・成膜装置(Plasma Based Ion Implantation & Deposition:PBII&D)とは株式会社栗田製作所と産業技術総合総合研究所関西センター殿と共同で開発し、特許を取得特許第3555928号)した全く新しいプラズマイオン注入技術です。DLCコーティングも可能です。取扱いが容易な為、生産機としても使用でき、多くのユーザー様で採用されております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います!
SD-8004型は、4"~8"ウエハーのスピン式スプレー現像装置です。自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います。条件設定は操作パネル上のタッチパネルで行います。各処理モード中はタッチパネル上に各モードが表示されます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
2流体ノズルより高圧純水をスプレー、メガソニックによる仕上げ洗浄!
SRC-15001は、枚葉式のスプレー洗浄装置です。被洗浄物を試料台に置き、スタートSWをONにより、試料台は回転を始めると同時にノズルアームが洗浄物の半径をスイングし、2流体ノズルより高圧純水をスプレーします。次にメガソニックによる仕上げ洗浄を行い、スピン乾燥を行います。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有しています!
ジャパンクリエイト株式会社が行なった、『CVD装置』のオーダーメイド 製作実績をご紹介します。 「太陽電池用プラズマCVD装置」をはじめ、「立体物用プラズマCVD装置」や 「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有。 デモ機にてサンプル処理を実施しております。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【製作実績(抜粋)】 ■太陽電池用プラズマCVD装置 ■立体物用プラズマCVD装置 ■研究開発用ロードロック式プラズマCVD装置 ■金属容器用プラズマCVD装置 ■医療容器用プラズマCVD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
RIEモードとDPモードの切り替えが可能!特殊表面処理によるメタルコンタミ低減
『ドライエッチング装置』は、最大φ12インチ基板を全自動で 連続処理することができる量産装置です。 2周波独立印加方式で、特殊表面処理によるメタルコンタミ低減。 マルチチャンバ仕様や各種オーダーメイドも製作いたします。 ガス種およびプラズマモードの切り替えによりエッチング、アッシング及び イオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた装置です。 【特長】 ■RIEモードとDPモードの切り替えが可能 ■特殊表面処理によるメタルコンタミ低減 ■省フットプリント ■2周波独立印加方式 ■超低温冷却ステージ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます!
『有機EL用蒸着装置』は、デバイス開発や材料開発に好適なマルチチャンバ 仕様の装置です。 前処理から成膜、封止までの工程を大気に触れずに処理することが可能。 目的に応じて、プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、 封止室等を自由に選択できます。 【特長】 ■基板サイズは最大□300mm対応 ■蒸着セルは各種材料・サイズから選択可能 ■CVD室、スパッタ室等との組み合わせも対応可 ■各種オーダーメイドも製作可能 ■デモ機にてサンプル処理を実施 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
『加圧RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素抜けを軽減 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能 ■優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現 ■トレイ搬送にも対応可能 ■マルチチャンバ仕様も製作可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
デモ機有り! 初回は無償でサンプル作成いたします。 安価なガスで低温ダメージレスな大気圧プラズマ処理をインラインで!
表面処理機でお困りの方は是非お声掛けください。 プラズマ処理機、コロナ処理機、フレーム処理機、各種処理装置を取り揃えております。 アクシス社の大気圧プラズマは樹脂、ガラスや金属などへの接着性、密着性、親水性、印刷性の向上、コーティング、塗装、接着、密着の前処理、有機物の除去や洗浄などのクリーニングとしても有効です。 金属、ガラス、樹脂の表面活性なら是非お試しください。 弊社にて濡れ性の確認テストがすぐに行えます。 N2,O2,H2といった各種ガスは常備しており、 サンプルをご持参いただければすぐに処理いたします。 小型電極は既存のラインへ設置が容易です。 ポテンシャルフリーなため対象物をダメージレスで処理が出来、 繊細な表面を持つプラスチックの光学フィルム、金属箔への処理に効果を発揮します。 裏抜けの心配もなく均一な表面処理が可能です。 プラズマ以外の様々なデモ機がございます。 詳しくは弊社HPまで!
小型ノズルで取付場所を選びません。 狭いスペースでも処理が可能!デモ機あり! サンプル作成可能です!
マーケット最小クラスのプラズマノズルで取付、扱いが簡単です。 その重さたったの280g! 小型でありながら最大1000Wの出力で高速プラズマ処理が可能です。 特殊ガスを必要とせず、圧縮空気のみで動作できます。 タッチパネルで簡単操作、出力も自由に変更可能です。 最大1台の発信機で3本のノズルまで搭載可能。 デモ機でサンプル作成や貸出での現地テストも可能です。
10mmから70mm幅ノズルまで、簡単作業で取替可能です。 一つの機械で幅広い用途に対応します。
プラズマ処理とは、表面に生成される官能基により、科学的結合を変化させて接着効果を得る、表面改質技術です。 空気中で放電することにより、発生したプラズマの電子・イオン・ラジカルが基材表面に接触します。 基材表面の分子とプラズマ中のイオン・電子が反応して、親水性官能基が生成され、表面が活性化し、接着性やぬれ性が向上します。 (=分子間力、ファンデルワース力の働き) 表面に残存する有機物や酸化物を除去することで、表面活性・クリーニング効果も得られます。 RAantec社プラズマ処理機は、Plasmajet (5 - 10mm) と Plasphere (20 - 70mm) の2種類のノズルがあります。 スポットタイプのPlasmajetは、狭い隙間や細い場所の処理、ケーブルや電線への印字前処理に好適です。 Plasphereは広い面積用ノズルで、20mmから70mmまでの先端ノズルを簡単に取替可能です。 大きめの樹脂や金属表面の表面改質・前処理に好適です。 詳しい情報は弊社ブログまで。 https://www.kbrasch.co.jp/blog/2021/03/31/302
独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生!
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク(ガラス基板等)の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現!
独自のリアクターヘッドにより大面積エリアに高密度プラズマを発生!
半導体ICパッド部クリーニングからFPC基板、液晶ガラス基板等の大型ワーク(ガラス基板等)の量産インラインシステム構築を容易にし、設備投資とランニングコストの低減を実現!
「大気圧プラズマの発生メカニズム」や「大気圧プラズマ装置の特長」などを掲載!
当資料は『大気圧プラズマ発生装置』について掲載しています。 大気圧プラズマ装置の新型プラズマヘッドを開発し、従来に比べ優れた プラズマを発生させる表面処理装置は、密着しにくい材質の密着向上・ 浸水性向上・洗浄効果向上等のドライプロセスに効果を発揮できます。 是非、ご一読ください。 【掲載内容(一部)】 ■プラズマとは? ■大気圧プラズマの発生メカニズム ■印刷向上のための大気圧プラズマ処理 ■大気圧プラズマ装置の特長 ■プラズマ処理効果の確認方法(接触角度測定) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
2 次元表面の高速、高効率、広範なインラインプラズマ処理に最適なソリューションを提供します。
ドイツDiener(ディエナー)社の大気圧プラズマ装置は、プラズマノズルの電極部に高電圧フィールドを形成し、そこを通過するガスをプラズマ化します。 そのプラズマをエアーの気流で大気中に照射し、対象製品のクリーニングや親水性改善を行います。ガス源にはアルゴンガスやヘリウムガスを使用せず、圧搾エアーを使用するため、ランニングコストの削減も可能です。 Diener 社の革新的製品である PlasmaBeam RT は、2 次元表面の高速、高効率、広範なインラインプラズマ処理に最適な大気圧プラズマ装置です。 PlasmaBeam RT は既存の生産ラインに容易に組み込むことができ、各種部品や材料の自動洗浄・活性化を可能にします。 運転中に高速回転する 2 つの相補的に配列されたノズルが特徴で、Diener 社大気圧プラズマシステムの安定した品質と効果で、最大 120mm までのプラズマ処理幅を可能にします。