『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果の製品と なっております。 【特長】 ■圧力勾配現象を採用 ■高真空域でのスパッタ成膜が可能 ■九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

ケニックス株式会社では、低温材料を安定蒸発する蒸着源を 用いて、トポロジカル半導体として期待されるセレン化 ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました。 RHEEDストリーク、振動の確認とともに、ラマン分光計測による ピーク確認によりセレン化ビスマスの結晶成長を確認しました。 この結晶成長実験とデータは、九州工業大学教授の ご協力を得て実施・取得しました。 【評価データ】 ■低温材料高速分子線蒸着源 ■成長速度(Bi2Se3) ■RHEEDストリーク画像(Bi2Se3) ■RHEED振動データ(Bi2Se3) ■ラマン分光計測データ(Bi2Se3) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

ケニックス株式会社では、高速分子線蒸発源を用いて、セレン化 ビスマスの安定した結晶成長が得られることを確認しました。 RHEEDストリーク、振動の確認とともに、ラマン分光計測による ピーク確認によりセレン化ビスマスの結晶成長を確認しました。 この結晶成長実験とデータは、九州工業大学大学院情報工学 研究院教授の多大なご協力を得て実施・取得しました。 【計測データ】 ■高速分子線蒸発源 ■蒸発レート曲線(Bi,Se) ■RHEEDストリーク画像(Bi2Se3) ■RHEED振動データ(Bi2Se3) ■ラマン分光計測データ(Bi2Se3) ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

ケニックス株式会社では、石英・サファイア・アルミナ等、 硬脆材料の精密加工を受託します。 「パイレックス-SUS接合」をはじめ、「アルミナ微細加工」など 硬脆材料の研削・微細加工・接合を行っております。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【硬脆材料の研削・微細加工・接合】 ■パイレックス-SUS接合 ■アルミナ微細加工 ■石英微細加工 ■石英-SUS接合 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加工受託

『プラズマアシストソース』は、半導体製造プロセス用、 プラズマ応用製品です。 プラズマ機能付加により、反応性を促進することが可能。 また、既存プロセス技術にプラズマ機能を付加する製品を 設計開発し、革新的なプロセス技術を提案します。 【製品特長】 ■プラズマクラッキングセル ・蒸気圧が高く、指向性が悪い材料のクラッキング蒸発源 ・昇華蒸発させた材料を活性化させ、オリフィスを介して基板照射 ■ALD用プラズマソース ・ALD装置用、酸素または窒素プラズマ源 ・照射距離を50～100mm調整可能 ・ON/OFF高速応答性とプラズマ安定性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

ケニックス株式会社では、半導体プロセスにおいて 必要不可欠な各種石英製品を高度な技術でご提供します。 石英ガラス製のウエハボートは、縦型・横型をはじめ 小口径向けの石英ハンガー、太陽電池向けボートなど 幅広く対応可能です。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【主な加工品】 ■ウエハボート ■洗浄槽 ■プロセスチューブ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 加工受託

ケニックス株式会社では、半導体の製造プロセスや光学用などで必要な透過性、 耐薬品性、耐熱性にすぐれた様々な石英ガラスを取り揃えております。 石英管は、豊富なサイズバリエーションでご提案が可能。 また、リサイズ加工により最大φ400までの径修正にも対応します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わせください。 【主な材料】 ■石英管 ■石英板 ■石英異型管 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• ガラス

当社の『石英/ガラス平面接合』技術は、石英やパイレックス、 テンパックス等のホウケイ酸ガラスを熱と圧力によって直接接合します。 接合後は火加工、機械加工による剥がれもなく、強固な接合状態が得られます。 火加工では困難な加熱変形の少ない高精度の接合が可能。中空溝部品などの 部品を容易に製造することができます。 【特長】 ■ホウケイ酸ガラスを熱と圧力によって直接接合 ■機械加工による剥がれもなく、強固な接合状態が得られる ■加工材の大きさ：最大8インチ ■表面状態 　・接合後の表面は白濁した状態となる 　・透明性が必要な場合は研磨加工が必要 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

当社の『ガラス-金属接合』技術は、膨張係数の一致したコバール金属と コバールガラスを直接接合することが可能です。 コバール金属を介することで様々な金属チューブをガラス管に変換可能。 開発事例では、ガラス材料もコバールガラスだけではなく、中間ガラスを 用いた段継接合を実施。 パイレックスガラスをはじめ膨張係数の大きく異なる石英ガラス、 ソーダライムガラスまで用途に応じて材料を任意に選択することが可能です。 【特長】 ■膨張係数の一致したコバール金属とコバールガラスは直接接合可能 ■コバール金属を介することで様々な金属チューブをガラス管に変換 ■接合部の耐環境性能 　・耐熱温度：-196℃～400℃ 　・漏れ量：1×10^-7Pa・m3/sec（He）以下 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

当社の保有する接合技術は、還元雰囲気中にて金属を酸化させることなく 接合することを特長としており、これらの技術は電子管製造技術にて培われた ノウハウを応用しております。 開発事例では、セラミックにメタライズを施すことにより金属部品と 直接ろう付け接合し、耐熱・真空気密・絶縁性に優れた部品を製作。 また、サファイアと金属の接合も可能であり､ビューイングポート等の 製作も行っております。 【特長】 ■接合部の耐環境性能 　・耐熱温度：-196℃～900℃（ろう材により変動） 　・漏れ量：1×10^-9Pa・m3/sec（He） ■主なろう材 　・金、銀、銅、ニッケルの合金（780℃～1083℃） ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

当製品は、制御応答性が高く、ガス放出のきわめて少ない構造の クリーンヒーターです。 試料直接照射加熱、及びホットプレート間接加熱ともに対応可能。 熱容量が小さく、超高真空中・大気圧中・酸素雰囲気中での使用ができます。 【特長】 ■均一照射が可能なハロゲンランプ ■経済的でエネルギー効率・応答性の高いヒーター ■石英ボディーランプ、高温対応の金属リフレクタ・ベースで構成 ■ガス放出が極めて少ない構造 ■最高温度900℃（温調測定点、真空中）加熱可能 ■非常に制御応答性が高い ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他ヒータ

当社が取り扱う『管状電気炉』をご紹介します。 「燃料電池加熱試験装置」は、炉体、高真空排気系付き石英炉心管・ガス系・ 電気計測系により構成。試料を常用1000℃で加熱し、H2.O2ガス反応により 発電効率を測定します。 他に、「固体内イオン移動装置」や「縦型電気雰囲気炉」などもございます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【ラインアップ】 ■燃料電池加熱試験装置 ■固体内イオン移動装置 ■縦型電気雰囲気炉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 電気炉

当製品は、ウェハーレベルのシリコン、金属、石英、ガラス等を 真空～任意雰囲気で表面改質処理後精密接合する装置です。 4～6インチのウェハーレベル各種ボンディングに対応。 陽極接合、拡散・共晶接合、直接接合、熱圧着接合など、接合材料に適した 表面改質処理および精密接合モデルを提案いたします。 【特長】 ■4～6インチのウェハーレベル各種ボンディングに対応 ■任意材料に適した表面改質処理による前処理機能 ■均一な加熱、加圧機能を備えた接合システム ■残留応力低減のための加熱冷却システム ■超高真空～加圧雰囲気に任意対応 ■任意ポジション加圧・電圧印加制御機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• ウエハー
• その他機械要素

当社が取り扱う『半導体プローブ評価装置』をご紹介します。 「有機半導体・EL評価装置」は、高真空から大気圧雰囲気でコンタクト プローブさせた基板を加熱しながら、電気計測･光学測定をすることが可能。 他に、SiC等のパワーデバイスを対象とした「高真空高温プローブ装置」や 「環境制御評価試験装置」もございます。 【ラインアップ】 ■有機半導体・EL評価装置 ■高真空高温プローブ装置 ■環境制御評価試験装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• プローブ

当製品は、TEOSをはじめ、液体原料ソースを対象とした シリンダーキャビネット付きプラズマCVD装置です。 液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構を備えており、 内部異常放電防止対策や安定プラズマ生成目的の独自のプラズマ電極を 設計開発。 上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャビネット付き ■液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構搭載 ■独自のプラズマ電極を設計 ■上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンス可能 ■小型でスペース効率が優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• CVD装置

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ■ALD・プラズマ処理・スパッタ・表面分析システム ■MBE成長・XPS表面分析システム ■MBE成長・酸化処理・STM分析システム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• プラズマ表面処理装置
• スパッタリング装置
• 分析機器・装置

当製品は、「MBE法」と「表面熱分解法」を併用したグラフェン結晶薄膜 成長機構とRHEED/LEED表面分析機構を連結したinsituシステムです。 6H-SiC微傾斜([1-100]4°off]基板の(0001)面(Si面)を用いて、 グラフェンの成長を行った際、回折パターンよりグラフェンの形成を 確認。 また、顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。 【構成】 ■「グラフェン薄膜成長用高温Kセル」を備えたMBE成膜機構 ■「SiC基板を熱分解する加熱ホルダー」による表面熱分析機構 ■RHRRD結晶構造解析システム ■LEED表面観察システム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置

当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 　基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

当製品は、50×50基板対応で、有機トランジスタ、EL素子用 抵抗加熱蒸着装置、酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに 連結した装置です。 トランスファーロッドにより、各室間を搬送。 大気解放することなく連続成膜することができます。 ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■50×50基板対応 ■大気解放することなく連続成膜可能 ■有機トランジスタ、EL素子用抵抗加熱蒸着装置、 　酸化物用RFスパッタ装置をグローブボックスに連結 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• スパッタリング装置

当製品は、100×100基板に対応した有機･金属蒸着装置です。 マスク交換用にグローブボックスを連結しており、大気解放することなく 連続成膜することが可能。 蒸着源は、抵抗加熱蒸着源、有機専用蒸着源、コニカル蒸着源Kセルを 複数備えた大型蒸着チャンバーです。 【特長】 ■100×100基板に対応 ■マスク交換用にグローブボックスを連結 ■抵抗加熱蒸着源、有機専用蒸着源、コニカル蒸着源Kセルを複数備えている ■基板回転･基板加熱対応のホルダーを搭載 ■膜厚分布に優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

当製品は、アタッチメントフリーのKセルおよびコニカル型蒸着源を 備えた基板入射角可変型蒸着装置です。 任意の基板入射に対応する円弧型レール上に、任意位置で固定可能。 蒸着ポジションを調整することができます。 【Kセル】 ■ルツボ容量：2cc ■加熱温度：Max1,200℃ ■加熱制御電源 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

当製品は、金属材料を対象とした3源切り替え式抵抗加熱蒸着装置です。 角型チャンバーにより、メンテナンス性が向上。 4インチ基板対応で、基板加熱機構と膜厚制御機構を備えています。 【特長】 ■基板寸法：100×100 ■基板加熱温度：常用600℃ ■基板回転ホルダー ■水晶式膜厚計 ■EB源増設ポート付 ■抵抗加熱源：100A 3源切替式 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

当製品は、金属材料を対象とし、リフトオフ成膜可能な電子ビーム蒸着装置です。 3連式EBガンはスライド移動機構により、メンテナンス性・作業性が簡便。 基板寸法は最大φ3インチで、リフトオフ成膜機構には特殊遮熱機構を 採用しております。 【特長】 ■基板寸法：最大φ3インチ ■基板加熱温度：常用600℃ ■リフトオフ成膜機構：特殊遮熱機構採用 ■電子ビームガン：ハース3連手動スライド移動式 ■EBガンメンテ機構：EBガンスライド移動機構 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

当製品は、金属・絶縁材料を対象とした3源RFマグネトロンスパッタ装置です。 基板は、加熱機構・逆スパッタ機構を備えています。 スパッタカソードはφ4インチマグネトロンカソード（3基）で、 基板挿入は上蓋手動開閉仕様となっております。 【特長】 ■基板寸法：最大3インチ（3枚収納可） ■基板ホルダー：基板加熱500℃、基板回転、逆スパッタ機構付き ■スパッタカソード：φ4インチマグネトロンカソード（3基） ■ガス系：Ar,O2 MFC2系統 ■基板挿入：上蓋手動開閉 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。 ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの 仕様です。 また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗加熱蒸着と なっております。 【特長】 ■1インチUHV対応スパッタカソード2源 ■3源切替式抵抗加熱蒸着 ■2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダー ■ロードロック室増設可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有機デバイス開発用 ■スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結 ■UHV対応スパッタカソードを4本装着可能 ■酸素や水分を排除したい研究製膜環境 ■多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置

当社の取り扱う『薄膜作成コンポーネント』をご紹介します。 世界最小クラスのUHV対応「マグネトロンスパッタカソード」をはじめ、 ICF70よりマウント可能な「EBガン」やルツボ最小2cc～100cc対応の 「Kセル」などをラインアップ。 また、有機・金属材料対応の「マルチ抵抗加熱ソース」や「コニカル型 蒸着ソース」などもご用意しております。 【ラインアップ】 ■マグネトロンスパッタカソード ■EBガン ■Kセル ■マルチ抵抗加熱ソース ■コニカル型蒸着ソース ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• スパッタリング装置
• その他機械要素

『PGSモデル』は、圧力勾配現象を採用した画期的なスパッタ装置です。 高真空域でのスパッタ成膜が可能。 また、低ダメージ高品質薄膜を高ルートで形成することが可能です。 九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果の製品と なっております。 【特長】 ■圧力勾配現象を採用 ■高真空域でのスパッタ成膜が可能 ■九州大学・名城大学・岡山理科大学との共同研究成果 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• その他理化学機器

偏光モード変換器（PMC）の小型化と試作設備の開発では、レーザービーム断面に偏光・位相・強度の分布を持つ、ラジアル偏光、アジマス偏光など特殊偏光ビームの関心が高まっています。これらの偏光は光計測、特に光学顕微鏡分野で注目されており超解像や表面観察の高感度化、高効率光トラッピングなど数多くのアプリケーションが提案され発表論文数も増加しています。新規応用装置の構想を持たれている兵庫県立大学富木啓介先生は、分子方向を3次元の分解能で計測する世界初の3次元立体配向顕微鏡を開発しており、それを実現した液晶光学素子がPMCです。兵庫県立大学の光学システム構築・制御技術とケニックス株式会社の装置設計・プロセス開発を用いた両者の共同研究により小型・簡便なPMCを安価に製造・販売することを目的としています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他

超高真空1インチ（小型）スパッタカソードは、世界最小クラスで単品試作から用途に合わせて製作します。製品開発の背景には研究装置の小型化、レアメタル材料の使用効率化、高品質化・高再現性・量産応用可能技術への継続性、分析・評価システムへの接続などがあります。ヘッド直接ガス導入・水冷式構造でφ1インチターゲット対応、マッチングボックス内蔵の専用RF電源付きでUHVにも対応お手持ちの真空チャンバーに容易に搭載可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他

sic表面熱分解法　エピタキシャルグラフェン結晶成長装置の設計開発コンセプトは、グラフェン成長装置の小型化と簡易化。高結晶品質化・成長再現性、表面分析機器の増設・連結性と設備投資しやすい経済性です。回折パターンよりグラフェンの形成を確認。グラフェン／バッファー層が形成されています。ストリークはファセット上のグラフェンの1次元的な構造によるものと考えています。約250nm幅のテラス（0001）上にグラフェンが均一に形成され周期構造はオフ基板特有のステップパンチングの結果です。顕微Raman測定でもグラフェンの形成を確認しました。サンプル表面の光学顕微鏡像に示すテラス（赤）及びファセット（青）のRamanスペクトルを示しています。典型的なグラフェンスペクトルであり．2Dの半値幅から1層グラフェンであることが確認されまた、Dバンドはファセットにおいて大きくグラフェンの1次元構造を反映した結果であると思われます。マッピングにおいてもその様子がはっきりと観察されました。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『薄膜作成コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■単品試作から用途に合わせて製作！スパッタカソード ・ヘッド直接ガス導入、水冷式構造 ・φ1インチターゲット対応 ・マッチングボックス内蔵の専用RF電源付き ・UHVにも対応 ・お手持ちの真空チャンバーに容易に搭載可能 ■ICF70よりマウント可能なEBガン ・3kWシングル、3連式をラインナップ ・2cｃルツボを備えた小型電子銃（最小） ・水冷式接続ポート等、設計製作します ・水冷式UHV対応構造 ・豊富なハース材料 ■ルツボ最小2cc〜100cc対応Kセル ・ICF70よりマウント対応 ・シャッター機構オプション ・制御電源付き ■有機・金属材料対応のマルチ抵抗加熱ソース ・任意のフランジに搭載設計します ・水冷式 フレクタオプション ・シャッター機構付き ■詳細は、お問い合わせ下さい。

• 製造受託

ロール状フィルムを連続成膜する装置 ■□■特徴■□■ ■スパッタ・EB・抵抗加熱蒸着に対応 ■テンションピックアップフィードバック制御 ■フィルム放出ガス排気用コールドトラップ ■差動排気システム（任意設置） ■基板クリーニング機構 ■抵抗値透過率モニター機構 ■成膜ローラー冷温媒装置 ■表裏連続成膜にも対応します（右記イメージ図参照） ■ロール幅・ロール径・巻取り速度は任意相談 ■巻取り制御 UW、W、CR単独制御 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

ウェハーレベルのシリコン、金属、石英、ガラス等を、真空〜任意雰囲気で 表面改質処理後精密接合する装置 ■□■特徴■□■ ■4〜6インチのウェハーレベル各種ポンディングに対応 ■任意材料に適した表面改質処理による前処理機能 ■均一な加熱、加圧機能を備えた接合システム ■残留応力低減のための加熱冷却システム ■超高真空〜加圧雰囲気に任意対応 ■任意ポジション加圧・電圧印加制御機構 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。

• ウエハ加工/研磨装置

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『真空封止・接合装置』のご案内です。 ■□■特徴■□■ ■陽極接合・直接接合・熱圧着接合に任意対応 ■ウェハーレベルからチップレベル接合に任意対応 ■加熱エリア・温度：φ6cm・Max1,000℃ ■加圧：Max1,000kg/cm2 ■雰囲気圧力：真空〜加圧雰囲気 ■各種MEMSセンサー・マイクロチップ・次世代デバイス ■表面改質ユニット任意取り付け対応可能 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『分光・計測』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■顕微レーザーラマン分光　熱に弱い試料安定・高感度に測定 ・微結晶、太陽電池薄膜、熱可塑性高分子、たんぱく質等 ・励起光とラマン光をそれぞれ効果的に扱う光学系を採用 ・高NAの対物レンズ（100倍）を用い、ラマン集光量が大きい ・ラマン集光ポイントとTVモニターフォーカスを一致 ・レーブベポットを任意調整し、S／Nの高いベペハルトを短時間測定可能 ■真空プローバー　外部操作型プローブにより任意環境多機能測定　 ・真空、加圧、任意ガス雰囲気でのプローブ計測 ・高温（1,000℃）〜低温（-190℃）対応 ・成膜装置との真空一環搬送対応 ・BNC付きプローブ（XYZストローク：各5ミリ以上） ・卓上型コンパクト設計 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単 ・AC100Vのコンセントで動作 ・メンテナンスが容易 ■低速高強度イオンビームガン ■簡易型卓上プラズマ処理装置 ・ハンディー型、100V駆動 ■半導体製造装置や理化学機器及び付属品のオーダーメイド品なら 　 お任せください。詳細は、お問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置
• 製造受託

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『石英精密加工製品』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■超精密石英加工　石英など高度脆性材料の精密微細加工製品 　 最細穴径：φ0.1 ・溝入加工・深穴加工・ 　 ガラス、単結晶（シリコン・サファイアetc）セラミック ■光学部品　単品試作から用途に合わせて製作可能 　 各種レンズ・フライアイレンズ・各種プリズム・ 　 各種ミラー、フィルター・各種偏光素子 ■超精密研磨・接合部品　 　 （マイクロフローセル、光学セル etc） 　 流路断面 20μm角より製作可能 　 用途に応じた単品より製作 　 超精密研磨による石英直接接合 　 精密サンプルホルダーや石英治具にも応用 ■石英製クリーンヒーター 　 発熱部が露出しないクリーンなヒーター 　 反応性ガスや参加雰囲気下での高加熱が可能 ■石英管・石英板材　 　 ウェハーホルダ・サンプルホルダー・ガスパージ管・石英炉芯管・ 　 任意形状のガスバーナー加工 ■詳細は、お問い合わせ下さい。

• 製造受託
• 加工受託