フォトマスクの製品一覧
- 分類：フォトマスク
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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。
- センサ
【歩留まり改善】半導体製造装置内で発生するコンタミを低減するグリス（グリース） 『LOGENEST LAMBDA TKM-03』
- 潤滑油
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」
2026年3月3日発売 仕事の邪魔をしないハンドクリーム「SALAVEIL（サラヴェール）」 塗ってすぐさらさらに、洗ってもさらさらが続く無香料処方で、仕事の集中を妨げません。 職場の共有スペースへの設置に適した法人購入（まとめ買い）に対応。 個人購入も承っております。 ↓詳しくはコチラ！↓ 製品サイト https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil.html 開発ストーリー https://www.nippeco.co.jp/product/salaveil-story.html 弊社は「手荒れ対策を個人任せにしない」社会を目指し、 職場の標準的な健康施策としての普及を推進しています。
Digital Generatorは半導体、電子部品、精密機器向けメガソニック洗浄システムに対応したデジタル制御型ジェネレーター
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- ウエハー
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
- 超音波洗浄機
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
SONOSYS社製メガソニック洗浄装置 最新リーフレット公開のお知らせ
このたび、ドイツ SONOSYS（ソノシス）社製メガソニック洗浄装置の製品リーフレットを最新版に更新いたしました。 SONOSYS社のメガソニック洗浄技術は、高周波の超音波エネルギーを純水（DI Water）などの液体を介して対象物表面へ伝達し、微細なパーティクルを効率的に除去する非接触型の精密洗浄技術です。 特に、半導体ウエハー、フォトマスク、MEMS、各種基板、光学部品など、微細構造を持つ製品の精密洗浄に適しており、半導体製造工程をはじめ、高い清浄度が求められるさまざまな分野で活用されています。 SONOSYS社では、用途や除去対象となるパーティクルに応じて複数の周波数をラインアップしているほか、Single Nozzle、Dual Nozzle、Triple Nozzleなど、多様な洗浄条件に対応するメガソニックノズルシステムを展開しています。 「ウエハーの微細パーティクルを除去したい」「フォトマスクやMEMSをダメージを抑えながら洗浄したい」「既存の洗浄工程を見直したい」といった課題をお持ちのお客様は、ぜひ最新版リーフレットをご覧ください。
NHK番組「真相の館」に弊社提供の半導体ウエハー洗浄動画が使用されます
このたび、NHK番組「真相の館」において、ティックコーポレーション株式会社が提供した半導体ウエハー洗浄の動画が使用されることとなりました。 今回のテーマは「水の真相（仮）」。 番組内では、半導体製造工程において、純水を使用してウエハーを洗浄する様子が数秒間紹介される予定です。 弊社では、半導体・電子部品分野に向けたメガソニック洗浄をはじめとする洗浄・噴霧技術を取り扱っております。 今回、弊社の映像がNHKの番組制作に活用されることを大変光栄に存じます。 放送予定：2026年9月12日（土）夜8:30～8:59（予定） 番組の詳細は、NHK「真相の館」公式ページをご覧ください。 https://www.nhk.jp/g/ts/N8JX1V6V69/ ※放送日時・内容は変更となる場合があります。
徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取り扱い中の機械的衝撃による損傷のリスクを最小限に抑えます
- フォトマスク
研磨ではパッドの精度管理が重要ですが、PADの種類を考慮した修正キャリアを使ってますか？カスタムすると精度管理も楽になります。
- ウエハ加工/研磨装置
- ミラー
- フォトマスク
最短半日見積り／【加工事例】A5052／フライス加工／黒アルマイト処理ご紹介！多種多様な装置部品、機械加工品を1個から頼める！
- フォトマスク
【新規カタログ登録】これまでとは違う！ニューノーマルな加工部品調達方式
〈調達を兼務する設計の方向け〉 これまでの加工部品調達とは違ったニューノーマルな調達方式をご提案します。 加工部品の調達を兼務されている設計者や社長、調達・購買にお悩みをお持ちの ご担当者様にこれまでの加工部品調達とは違ったニューノーマルな調達方式をご提案します！ 【カタログの掲載内容】 1.「加工部品調達におけるお客様の課題」 2.「アシスト式部品調達3つのメリット」 2-1.多品種小ロットの手配 2-2.製品カテゴリと材質について 3.「アシスト式調達の全体像」 3-1.手配先が複雑な場合 3-2.工程が長く、管理が大変な場合 3-3.加工先と付加価値 3-4.検査、品質保証について 4.「製品加工例」 5.「会社概要」 是非、ご覧ください。 ご相談などお気軽にご連絡ください。
＜半導体関連マスク‐基本資料公開＞部署異動や転職で、はじめて各種マスクを扱われる方必見！マスクの構造や種類、製造方法を詳しく解説
- フォトマスク
【展示会にてサンプル展示予定】プリント基板との版離れ性が向上！有機溶剤、アルカリ耐性といった耐薬品性あり
- フォトマスク
ミラープロジェクションマスクアライナー、コンタクトアライナーで両面露光を可能にするユニット。IR(近赤外線)仕様も実績あり。
- フォトマスク
とりあえず、これ！ たった5スワイプで理解できる！フォトマスク初心者のための、今さら聞けないフォトマスクの基本！
- フォトマスク
X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ターゲット1μm以下)が可能になりました。
- スパッタリング装置
- 半導体検査/試験装置
- フォトマスク
マスクに付着した1μm以上のパーティクルとレジスト残渣を一挙に完全除去
- その他洗浄機
- フォトマスク
- その他半導体製造装置
簡易洗浄ユニットは、最大7インチマスクサイズまで対応できる簡易洗浄ユニットです。
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
- その他洗浄機
スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で実施！
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
- その他洗浄機
【大手メーカーで全自動フォトマスク洗浄装置の導入が増加しています！】
"マスク洗浄といえばテクノビジョン" を合言葉にこれからも業界一、世界一を 目指して参ります。 台湾、中国、日本でLEDの生産が活発になり、それに伴いフォトマスク洗浄装置の受注が大手メーカーより相次いでいます。 テクノビジョンでは従来から培ってきたスクラブ洗浄術に加え、新たに薬液洗浄技術の開発に取り組んでまいりました。 ◆スクラブ洗浄：主にパーティクルの除去 ◆薬液洗浄：マスクに付着したレジストを除去 LED生産においては素子パターンのデザインルールL/Sが、サブミクロン領域には至っていないため、露光プロセスにはプロキシミティーまたはコンタクトアライナーが使用されます。 このため、マスク汚染に対してはレジスト除去とパーティクル除去機能をもった 洗浄装置が必要となります。 某大手LEDメーカーではマスク洗浄が月間5000枚以上に達し、有害薬液などの保護対策が必要とされています。 テクノビジョンの全自動マスク洗浄装置は、このような量産工場で対応できる、 安全かつ環境にやさしい唯一のコンパクト、スモールフットプリント洗浄装置です。 ◆詳しくはお問い合わせください。
位置決めステージ選定でお悩みの方へ。どの工程でどんな位置決めステージが使われているのかがわかる！装置の選定ポイントもご紹介
- その他半導体製造装置
- フォトマスク
プリント基板（PCB）製造用マスクに適したフィルムです。
- フォトマスク
- プリント基板
フォトマスクやプリント基板の資材・設備の事ならラットコーポレーション
- フォトマスク
- 基板加工機
- 解析サービス
独自のチャック方法により、高精度の薄板加工品を提供します【サイズや、加工による変形で精度でお困りのお客様お気軽にご相談ください】
- ステッパー
- 真空機器
- フォトマスク
データがなくても、マスクから設計データを復元します！お困りの場合は、是非一度ご相談ください
- フォトマスク
- その他半導体
- その他受託サービス
今さら聞けない！フォトマスクとは？から、用途や製造工程をご紹介！長年の歴史と先端技術があるから、信頼性が高く高精度を実現できます
- フォトマスク
- その他半導体