光学式アライナ SAL46C6シリーズ
シリコンウエハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決め
150mm~300mm対応光学式アライナ SAL46C6シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。シリコンウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
- 企業:株式会社ジェーイーエル
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年12月03日~2025年12月30日
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シリコンウエハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決め
150mm~300mm対応光学式アライナ SAL46C6シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。シリコンウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェーハ(シリコン、GaAs、ガラス)の位置決めを必要とする搬送に対応
光学式アライナ SAL4381シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハ(シリコン、GaAs、ガラス)の位置決めを必要とする搬送に対応しております。シリコンウェーハのセンタリングとオリフラを高速、高精度に位置決めします。スピンドル側に0.1μmのフィルタを装備しています。制御方式はRS232C及びパラレルフォトI/Oです。オプションでGaAsウェーハやガラスにも対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
エッジグリップ方式を採用しウェーハへの接触を最小限にすることが可能
300mm対応エッジグリップアライナ SAL20C1シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応します。エッジグリップ方式を採用しウェーハへの接触を最小限にすることが可能です。ノッチサーチ後、指定位置へノッチを移動する為、持ち直し動作が入っています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ベルヌーイ方式によりウェーハのダメージを最小限に抑えたアライメント可能
300mm対応光学式アライナ SAL30C1シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応します。シリコンウェーハのセンタリングとノッチを高速、高精度に位置決めし、薄物ウェーハのアライメントを実現します。薄物、反り、フィルム貼りに対応しますが、ワーク検出可否、位置決め精度につきましてはお問い合せ下さい。ベルヌーイ方式によりウェーハのダメージを最小限に抑えたアライメントが可能です。制御方式はRS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウエーハ材質に影響を受けない新型アライナ
各種ウェーハに対応した100~200mm新型アライナ。 シリコンウェーハ、シリコンウェーハBGテープ(乳白色)付、透明、半透明ウェーハなどウェーハ材質に影響を受けずにアライメント可能 独自開発のイメージセンサを使用し、モータドライバ、コントローラを本体に内蔵 ウェーハサイズ、材質にあわせてスピンドルの径、形状、材質の変更も対応可能 ベルヌーイスピンドルも搭載可能 制御方式:RS232C及びパラレルフォトI/O SEMI規格にない形状のノッチ、オリフラ等への対応も可能 ウェーハ持ち直し動作が可能なZ軸付きも製作可能
ウェーハ用アライナ
半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応 小径ウェーハ対応で省フットプリント化を実現 小径ウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします
【50~300mmウエハ用】 業界最短アライメント時間を達成する吸着保持式アライナ
■上位コマンドにより、複数サイズのウエハアライメントが可能 ■オリフラ部及びノッチ部を指定位置に停止可能(ウエハID読取り利用) ■石英ウエハにも対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
最大8インチ対応角基板まで対応可能 セミオートアライメント対応露光装置
ズースマイクロテック MA/BA GEN4 は最大8インチ角基板まで対応可能なセミオートアライメント対応の露光機です。MEMS、光学部品の製造、化合物半導体などのR&D、少量生産用途に対して最適な装備を備えています。最適化されたアライメントマーク観察光学系と画像処理機能によりバラツキの少ないアライメントが行えます。
光学系の光軸調整時間を桁違いに短縮!照明部品の光軸中心が高精度にアライメント可能
当社では『顕微鏡用レーザーアライナー』を取扱っております。 倒立顕微鏡等のサイドポート側に全反射(エバネッセント波蛍光)照明等を 研究者が楽に組立てられるよう顕微鏡光軸を可視化し、照明部品の光軸中心が 高精度にアライメントできます。 顕微鏡対物ねじマウントを利用して、一般のレーザー光学系のアライメント用 にも使用可能です。 【特長】 ■光学系の光軸調整時間を桁違いに短縮 ■倒立顕微鏡等のサイドポート側に全反射(エバネッセント波蛍光)照明等を 研究者が楽に組立てられるよう顕微鏡光軸を可視化 ■照明部品の光軸中心が高精度にアライメント可能 ■顕微鏡対物ねじマウントを利用して、一般のレーザー光学系のアライメント用 にも使用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
リソグラフィー装置の世界市場:マスクアライナ、レーザーダイレクトイメージング、プロジェクション、レーザーアブレーション、 ...
本調査レポート(Global Lithography Equipment Market)は、リソグラフィー装置のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のリソグラフィー装置市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 リソグラフィー装置市場の種類別(By Type)のセグメントは、マスクアライナ、レーザーダイレクトイメージング、プロジェクション、レーザーアブレーションを対象にしており、用途別(By Application)のセグメントは、MEMSデバイス、高度パッケージング、LEDデバイスを対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、リソグラフィー装置の市場規模を算出しました。 主要企業のリソグラフィー装置市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
クリアアライナー治療の世界市場:プロフェッショナルトリートメント、ファウンデーショントリートメント、大人、青少年
本調査レポート(Global Clear-Aligner Treatment Market)は、クリアアライナー治療のグローバル市場の現状と今後5年間の展望について調査・分析しました。世界のクリアアライナー治療市場概要、主要企業の動向(売上、販売価格、市場シェア)、セグメント別市場規模、主要地域別市場規模、流通チャネル分析などの情報を収録しています。 クリアアライナー治療市場の種類別(By Type)のセグメントは、プロフェッショナルトリートメント、ファウンデーショントリートメントを対象にしており、用途別(By Application)のセグメントは、大人、青少年を対象にしています。地域別セグメントは、北米、アメリカ、ヨーロッパ、アジア太平洋、日本、中国、インド、韓国、東南アジア、南米、中東、アフリカなどに区分して、クリアアライナー治療の市場規模を算出しました。 主要企業のクリアアライナー治療市場シェア、製品・事業概要、販売実績なども掲載しています。
ローコストでフォトリソグラフイに必要な機能を完備!マスクアライナー
『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などに ご使用いただけます。 【特長】 ■ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性 ■各種ユニットやオプションを選択可能 ■目的にフィットした装置にセットアップ可能 ■ほとんどのユニットが後から追加・変更可能 ■将来のグレードアップにも対応 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。