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『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。 シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。 基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。 基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスのみでの運転や、スパッタアップ とスパッタダウンの組み替えなども可能です。 【特長】 ■シンプル設計で省スペース ■ターゲットと基板間の距離を任意に設定可能 ■高温での基板加熱が可能 ■チラーを標準装備 ※詳しくはカタログをご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
プロセス用に限定し手動操作とすることにより簡素化しました。屈曲型は関節により先端を任意に曲げられる構造とし、フランジの直進方向以外の測定を可能にしています。 関節部は真空外から操作できませんが探針部全体が回転しますので円を描けます。直線移動とあわせ広い範囲の測定が可能です。どちらも規定のストローク範囲内を直線で移動させ、測定したい部分１点１点を測定していきます。
プラズマ室は石英製になっており、また無電極放電により金属コンタミの少ないプロセスが可能です。活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることができます。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作しており、活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え、かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることができます。特に窒素ラジカル源として、多くの実績を有しています。
標準品以外でも豊富な経験とCADを駆使することによりお客様の要求仕様に応じて設計、製造いたします。現在までに標準品を初め、特殊仕様セル、各社MBE装置向けの代替など研究開発から大型生産装置用まで数多くの納入実績があります。
分子線セル、RHEED、BFM、基板加熱機構等の主要部品からチャンバー、シュラウド、プロセスコントローラ、シャッターコントローラ等の制御ユニットまで、一貫して自社にて製造致します。
各種コンポーネントを取り付け 大気側から直接移動調整が可能な中空Zステージ 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○φ34CF〜φ114CFまで対応 ○各種センサー・蒸着源と組み合わせることにより 真空内への移動が容易に行える ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
強力な希土類磁石を用いた磁気結合構造により 連続高速回転に使用できる、超小型回転導入機 【特徴】 ○ベアリングを交換するだけで半永久的に使用可能 ○小型化設計にて取り付け場所を選ばない 共通部品を多く採用し、ローコスト設計 ○磁気結合構造により長寿命 ○200℃までの高温ベーキング対応（NWフランジタイプは150℃） ○用途によりトルクの選択が豊富 ○多彩なオプションを設定（260℃高温タイプ、圧空駆動、モータ駆動等） ○特殊軸形状の製作も可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
蒸着、スパッタ、MBE、CVDなどの成膜プロセス 有機ガスを含むプロセス中で問題となるビューポートへの成膜やダメージを防止 【特徴】 ○コンフラットフランジ仕様により、MBE装置等 各種超高真空装置に使用可能 ○回転導入機も200℃ベーキング対応の RFTシリーズを使用しているため、高温ベーキングが可能 ○φ70CF〜φ203CFまで対応 ○ほとんど隙間なく閉じることができ、高蒸気圧の試料にも効果あり ○オプションのシールドガラス、RHEEDスクリーンが装着可能 ○簡単な組み替えで開閉方向を変更可能 ○特殊サイズフランジの製作も可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
真空システムにサンプル等を 導入するために使用するロードロックドア 【特徴】 ○小型軽量化した設計により取り付け場所を選ばない ○フッ素ゴムシールにより高真空に対応 ○150℃までのベーキングが可能 ○φ114〜φ305ＣＦに直接取り付けることが可能 ○各サイズ窓付き、窓なしタイプがあり 窓材は石英ガラスなどがオプション選択できる ○JISフランジや特殊フランジ形状の製作も可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
3軸の移動機構により、加熱機構や各種導入機 その他コンポーネントの位置調整用に最適な中空XYZステージ 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により、MBE装置等 各種超真空装置に使用可能 ○φ70CF〜φ203CFまで対応 ○2本の調整ツマミにより、X-Y移動が可能 クロスローラベアリングによる精密移動 ○トランスファーロッド、回転導入機、直線導入機等と 組み合わせることにより真空内への多軸運動伝達が行える ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
強力な磁気回路により回転、直線運動を 高トルクで真空内に導入できる、トランスファーロッド 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○CF仕様により、MBE 装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取り付けはφ70CF仕様 ○強力磁気回路のマグネットカップリングにより高トルク ○XY機構等との組み合わせにより真空内への4軸運動伝達が行える ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
石英放電管タイプでチャンバー外付型の 有磁場型マイクロ波励起ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英ガラス製で放電を目視確認可能 ○完全金属シール構造により、MBE装置など 各種超高真空装置に使用可能 ○ラジカル源用途以外に加速用高圧電源（オプション）の 使用によりイオン加速が可能 ○各種活性ガスの導入が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
電源及び、プラズマ化するガスを接続するだけで 大気圧プラズマの実験が可能な、大気圧プラズマ実験装置 【特徴】 ○強力な点火装置と、電子発生源を装備することにより 確実な点火が実現 ○シンプルな構成による、高いメンテナンス性 ○点火装置による高いプラズマ点火性 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
石英放電管タイプでチャンバー内突き出し型の 有磁場型マイクロ波励起イオン・ラジカル源 【特徴】 ○プラズマ室は石英製で、金属汚染の少ないイオン・ラジカルが得られる ○特殊なアンテナ構造、磁気回路のため漏洩磁場が少ない ○完全金属シール構造により MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取付が容易な空冷式 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により イオン加速が可能。ラジカル源としても使用可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 面倒な導波管接続が不要 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
ラミック放電管タイプで チャンバー外付型の有磁場型マイクロ波励起イオン源 【特徴】 ○超高真空仕様により、金属汚染の少ないイオンが得られる ○プラズマ室は高純度アルミナ製で 金属汚染の少ないイオンが得られる ○完全金属シール構造により、MBE装置など 各種超高真空装置に使用可能 ○加速用高圧電源（オプション）の使用により、イオン加速が可能 （ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能） ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコンによる外部制御が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
アリオス社が取り扱う、マイクロ波を用いたプラズマ実験装置のご紹介です プラズマ源やマイクロ波電源などを、全て自社設計する アリオス社だからこそできる、柔軟設計。 お客様の要求仕様に応じた設計、製造をいたします。 【特徴】 ○DLC膜・カーボンナノチューブ・プラズマ殺菌・真空紫外照射 その他のプラズマ暴露実験ができるマイクロ波実験装置等 多種に渡り製作が可能 ○基板移動機構により、基板とプラズマの位置を任意に設定できるため 様々なプロセスに対応可能 ○プラズマ中に基板を挿入すれば、プラズマにより加熱されるため ダイヤモンド薄膜作製時には、ヒーターは不要 ○排気装置もロータリーポンプ・メカニカルブースター さらに超高真空まで対応可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
無電極放電により 金属コンタミの少ないプロセスが可能なRFプラズマ源 【特徴】 ○光学窓付きにより放電が目視確認できる ○石英製窓により高精度のプラズマ分光等が可能 ○自動マッチング機構により 操作が簡単かつ長時間安定な動作が可能です。 ○空冷仕様になっており冷却水の心配がなく 既設装置等へ気軽に取り付けられる ○活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え かつクリーンな原子・ラジカルビーム等を得ることが可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
ガスラインや排気ラインの途中に取り付けて 使うことを想定して開発された、超小型のマイクロ波励起プラズマ源 【特徴】 ○プラズマ室は、高純度アルミナ製で、放電を目視観測可能 ○無電極放電。新方式のマイクロ波供給方式により高密度プラズマを実現 ○完全シールド構造により、マイクロ波漏洩に対して極めて安全 ○完全空冷式で冷却水は不要 ○各種活性ガスの使用が可能 ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されているため 面倒な導波管接続が不要 ○イグナイター搭載により、放電がしやすい ○プラズマ源本体の重量はわずか1.9kgの軽量設計 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な 高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置 【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入はロードロック方式への発展が可能 ○完全なシールド構造により、マイクロ波の漏れ対策は万全 ○全て空冷仕様により、電力とガス供給のみでの運転が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
アリオス社が取り扱う、RF13.56MHz励起プラズマ源を用いた プラズマ実験装置のご案内です プラズマ源を自社設計する、アリオス社だからこそできる柔軟設計。 お客様の要求仕様に応じた設計、製造をいたします。 【特徴】 ○自動マッチングによる簡単操作 ○コンパクトチャンバー＋シンプルな構成により、メンテナンスが容易 ○PFに対する、高電圧感電防止のためのインターロックを装備 ○高周波漏洩対策、停電等に対しても安全に停止するような機構を装備 ○オプションでロードロック機構を追加可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
放電部、引き出し部は高純度PBNで製作され 活性ガス導入時でも長時間安定動作が行え かつクリーンな原子・ラジカルビームを得ることが可能な、ラジカルビーム源 【特徴】 ○ICPタイプのRF放電により化学的に活性なラジカルを形成し 差圧によりフラックスを引き出す ○放電が目視確認できるビューポートを標準装置 発光モニターや分光器を使用して、放電状態・励起状態を確認できる ○完全金属シール、200℃ベーカブル対応によりMBE装置等 各種超高真空装置に使用可能 ○分子線セルポート取付を前提に設計されているため 従来型のMBE装置に増設可能 ●その他機能や詳細については、お問合わせ下さい。
トランスファーロッドの位置調整用に最適な チルト調整機構を組み合わせた、簡易型XY機構 【特徴】 ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○コンフラットフランジ仕様により MBE装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○φ70CF〜φ203CFまで対応可能 ○4本のロッドを調整することにより、チルト調整が可能 ○トランスファーロッド、回転導入機 直線導入機等と組み合わせることにより 真空内への多軸運動伝達が経済的に行える ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
2軸構造のマグネットカップリングにより チャッキング操作が行えるトランスファーロッド 【特徴】 ○強力な磁気回路により回転、直線運動を 高トルクで真空内に導入できる ○オールメタルシールによりベーキング可能 ○CF仕様により、MBE 装置等、各種超高真空装置に使用可能 ○取り付けはφ70CF仕様 ○最適な磁気回路設計により高トルクを実現 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。
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