半導体製造装置の製品一覧

【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！

その他搬送機械

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安全柵　『SATECH』【低コスト＆スピード施工！】

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SATECH株式会社

JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案！デモキット無料貸出。

その他安全・衛生用品

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HISR　シチズンファインデバイス

シチズンファインデバイス株式会社

3D検査装置　HISR　精密な検査・検証をお手伝い

カラーカメラ
その他半導体製造装置

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【オーダーメイド製作実績】スパッタリング装置

「有機EL用GB付きスパッタリング装置」や「研究開発用IBS装置」などの実績を保有！

スパッタリング装置

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【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を保有しています！

CVD装置

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RTA装置

トレイ搬送にも対応可能！優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現

アニール炉
加熱装置

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ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコンタミ低減

エッチング装置

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ロードロック式EB蒸着装置

好適な表面処理によるパーティクル低減！ロードロック式による高真空プロセスに対応

蒸着装置

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【オーダーメイド製作実績】蒸着装置

「2段階複合Pt成膜装置」などの実績を保有！ご用命の際はお問い合わせください

蒸着装置

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有機EL用蒸着装置

プラズマクリーニング室、有機蒸着室、電極蒸着室、封止室等を自由に選択できます！

蒸着装置

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加圧RTA装置

基板加熱温度最高1000℃！基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減！

加熱装置
アニール炉

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アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れたコンパクトな装置です！

エッチング装置
アッシング装置

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スピンドライヤー（乾燥機）

【デモ機貸し出し可能！】シリコンウエハーやマスク、フィルム基板のスピン乾燥に最適！

その他クリーンルーム用機器・設備
その他半導体製造装置

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ウエハー自動洗浄装置　300mmウエハ自動洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】Φ300まで対応可能なカセットタイプのバッチ式洗浄装置です

その他半導体製造装置

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ウエハー自動洗浄装置　枚葉式自動洗浄装置　ディップタイプ

【デモ機貸し出し可能！】Φ300まで対応可能なディップタイプの枚葉式洗浄装置です

その他半導体製造装置

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エッチング装置　スプレー式ウエハーエッチング装置

【デモ機貸し出し可能！】一連の洗浄・エッチング処理を行い、純水処理・乾燥までを処理する装置です

エッチング装置

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エッチング装置　ウエハ洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】処理槽からリンス槽へ円弧搬送しウエハーを処理する半自動装置

エッチング装置

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エッチング装置　急速エッチング装置

【デモ機貸し出し可能！】ウエハーは専用のバレルに装填され処理されます

エッチング装置

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エッチング装置　半自動ウエハーエッチング装置

【デモ機貸し出し可能！】カセットで前処理を行った後、専用バレルで自動エッチングを行います

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スピンドライヤー　SPD型

【デモ機貸し出し可能！】上部にクリーンフィルターを設け、チャンバー内のクリーン化を計っています

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半導体製造装置　マスク自動洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】バッチタイプ、スクラブ洗浄等多彩なオプションにて対応いたします

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半導体製造装置　自動石英管洗浄装置

【デモ機貸し出し可能！】石英管の形状に合わせ対応致しますので御相談下さい

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スピン洗浄装置　スピナー MSC-200型

小型コンパクト・オプションにて10,000rpmに可能！

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スピン洗浄装置　自動レジストスピンコーター JASC-200型

対象ワーク：2"□～5"□基板又はφ２"～φ５"基板に適用！

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スピン洗浄装置　高性能型減圧式スピンコーター HMSC-300A

均一な高精度のコートができる様、技術が盛り込まれています！

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スピン洗浄装置　スプレー現像装置 SD-8004型

自動および手動運転により、現像、リンス、水洗、スピン乾燥を行います！

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枚葉式ウエハ処理装置『自動エッチング装置』

装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置しウエハ搬送！

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枚葉式ウエハ処理装置『自動基板用現像装置』

装置のセンターに3軸多関節クリーンロボットを設置し基盤搬送！

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枚葉式の自動洗浄装置『RCAウエハ洗浄装置』

カスタマイズOK！素早い対応と、メーカーならではのアフターフォローが可能です

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PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢献します

CVD装置

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酸化膜／窒化膜プラズマCVD装置

広範な膜特性の制御可能！大幅なパーティクル低減および生産性を向上します

CVD装置

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多元スパッタリング装置