半導体製造装置の製品一覧
- 分類：半導体製造装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
『 第1回 中部食品産業創造展'26 』出展決定！
〈 ポートメッセなごや 〉にて、2026年11月4日(水)～6日(金)に開催されます、 【 第1回 中部食品産業創造展'26 】に出展いたします。 昨年4月より発売を開始していおります、『小型サニタリーハンディポンプMHS型』の 新たなラインナップとして、『コードレスサニタリーハンディポンプ』の展示をいたします。 ・コードレス！どこへでも持ち運べ！サッと使え！簡単洗浄！ 従来通り18L缶やBIB（バックインボックス）に対応し、簡単に分解洗浄が可能な構造となっています。 この機会にぜひご来場いただきたくご案内申し上げます。 ・会場：ポートメッセなごや ・弊社出展ブース：第1展示館「C-６６」
カセット内のウエハを異なるカセットへ自動移載、2カセット同時やピッチ変換・FtoF(BtoB)等の機能を付加可能
- その他半導体製造装置
露光装置及び、周辺装置用のレチクルケース。主要露光装置メーカーの露光装置にて多数採用済み。クリーンな環境での使用可能！
- ステッパー
徹底した静電対策によるレチクル保護と、独自機構によりレチクルの磨耗と取り扱い中の機械的衝撃による損傷のリスクを最小限に抑えます
- フォトマスク
結晶Si太陽電池セル量産用 NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用 高生産性 連続式常圧CVD(APCVD)装置
- CVD装置
試作・開発・小ロット生産向け NSG(SiO2)/BSG/PSG/BPSG膜成膜用 バッチ式(複数枚同時処理)APCVD装置
- CVD装置
少量・多品種向け NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用 枚葉式常圧CVD(APCVD)装置(8インチSiCウェハ対応)
- CVD装置
独自技術で極小のナノバブルの開発に成功！超純水にも使用可◆設置簡単◆コンパクトで高機能◆洗浄能力UP
- その他半導体製造装置
- 超純水製造装置
- その他
半導体、理化学機器、厨房機器など多分野で実績あり。ヒーター曲げ技術により、様々な形状を設計できます。
- その他半導体製造装置
- 電気炉
- その他ヒータ
総合カタログがリニューアルしました
この度、弊社の製品・サービスをより見やすく、わかりやすくお伝えするために、総合カタログをリニューアルいたしました。 弊社は、工業用ヒーターやヒーター部品を搭載した機械装置を手掛けるメーカーです。お客様ごとにカスタマイズした製品を納入しており、設計、製造、販売まで一貫して当社で対応します。 シーズヒーターのお問い合わせ、熱のお困りごとに関する様々なご相談等も受け付けておりますので、お気軽にお問い合わせください。
断熱材不要で高効率、クリーン加熱が可能なヒーター！気体加熱器「クリーンホット」はヒーター曲げ技術を生かした電気ヒーターです！
- その他半導体製造装置
- 加熱装置
パネル面に穴を空け、ビス留めするだけで簡単に取付けができるパネルマウント式の継手です。
- その他工作機械
- その他半導体製造装置
- 管継手
広視野角・超高精細な撮像が可能で、各種MV用途に好適な超高画素カメラ (127M/250M/400M)
- モノクロカメラ
- カラーカメラ
- 半導体検査/試験装置
高耐圧PTFEホースは、細波状PTFEコルゲーション構造を採用。高耐圧と低反力を両立し、高純度薬液ラインや可動配管部に対応します
- ホース
- その他半導体製造装置
- エッチング装置
普通のバルブメーカーではありません！フィルターやセンサーなどを組合せた「ユニット集積バルブ」など要望に合わせて幅広く製作可能！
- その他半導体製造装置
新しい形で半導体薬液供給にかかわる排圧弁のソリューションを提案！幅広い用途に合わせて選択できます。
- バルブ
- その他半導体製造装置
モジュラータイプをカスタムオーダーメイド！メンテナンス簡単・フレキシブルな組み合わせをお客様にて実現！
- バルブ
- その他半導体製造装置
安定したスラリー供給を実現！GEMU 半導体製造向けスラリー供給アプリケーション事例
- バルブ
- その他半導体製造装置
【オンライン展示会 3/8-3/10】日本の製造業の未来展 出展のご案内
2021年3月8日～10日において、『日本の製造業の未来展』へ出展します。 かつては「モノづくり大国」と呼ばれたが、 DX化への遅れなどにより危機に直面している日本の製造業界に、大きなインパクトをもたらす技術が集結。 池上彰氏や、HUAWEI社 会長の王氏も登壇者として登場。 日本の製造業の”未来”をともに考えるチャンスです！ 皆さまのご来場をお待ちしております。
「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。
- スパッタリング装置
大好評 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置
今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜
指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリコンプラズマイオンソースPVDモジュール
- スパッタリング装置
- プラズマ発生装置
FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。
- スパッタリング装置
高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！ 販売・修理/メンテも対応可能
- スパッタリング装置
- 真空機器
- その他金属材料
スパッタカソード サービスセンター開設いたしました
2024年４月より、アメリカオングストローム・サイエンス社製「マグネトロンスパッタカソード」の点検・修理のサービスセンターを開設いたします。 新たなサービスセンターにはクリーンルーム設備をはじめ、真空リークチェッカー、各種検査機器を常備して万全な体制でのメンテナンスを実施いたします。 すべての作業はAngstromeScience社での研修を修了した有資格者が指導・監修し、アメリカ本国の修理と同様のサービスを提供いたします。 これまでは、故障に伴う修理を中心に対応をいたしておりましたが、サービスセンター開設を機に定期メンテナンスをお引き受けすることができるようになりました。 定期的にカソードの点検を行って、ダウンタイム無しでの運用をサポートいたします。
MEMS Engineer フォーラム 2025 出展いたします
MEMS Engineerフォーラムは、21世紀のキーテクノロジーとされるMEMS技術のキープレイヤーの中でもエンジニアを中心に運営されるユニークなフォーラムです。 世界中のMEMS研究者、開発者、技術者が一堂に集うこのフォーラムの技術展示会にて、Plasma Quest Ltd.社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置のご紹介と技術展示をいたします。 弊社展示のみならず、MEMSに関する最先端の技術をご覧いただける絶好の機会でございます。ぜひ足をお運びいただきたくご案内申し上げます。 会場： 国際ファッションセンター ホール 〒130-0015 東京都墨田区横網1-6-1 国際ファッションセンタービル アクセス https://www.tokyo-kfc.co.jp/access/ 展示製品： Plasma Quest Ltd. 社製 リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 https://mono.ipros.com/product/detail/2001148974 https://www.plasmaquest.com/
リアクティブスパッタ、合金スパッタを自在にコントロールしての成膜を実現します
- スパッタリング装置
- プラズマ発生装置
- その他表面処理装置
PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました
ご紹介開始より、各社様からご好評を頂いております、PlasmaQuest社製 リモートプラズマ イオンビームスパッタリング装置のページを更新いたしました。 リモートプラズマ ターゲットバイアス スパッタリングの動画を掲載いたしました。 ご質問、ご要望等ございましたらお気軽にお問い合わせください。
受託テスト成膜サービス（高品位反応膜などの試験成膜）のご案内
これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。
貴社の装置を ボルトオン、カプラーオンで延命化いたします
- スパッタリング装置
- ソレノイド・アクチュエータ
- 搬送・ハンドリングロボット