エッチング装置の製品一覧
- 分類：エッチング装置
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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減！】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録！ワークに応じた無料相談、テストも受付中！
- その他搬送機械
中赤外波長可変レーザーOPPO MIRは 2.8～4.2umの波長範囲で調整が可能なピコ秒パルスレーザーです。最大出力1W以上。
- エッチング装置
フッ素樹脂に導電性を付与したコーティングです。帯電を防止し、静電気によるトラブルを未然に防ぐことが出来ます。
- エッチング装置
汎用樹脂からポリイミド樹脂まで部品の受託加工は当社にお任せください！ 他材質とのアッセンブリー部品も当社で一貫対応致します。
- エッチング装置
【ベストウォッシング】は汚れを選びません。 自然にやさしい強力洗剤、用途を選ばない、まったく新しい高性能 洗剤です。
- レジスト装置
- エッチング装置
試作から量産まで可能。バリのない平滑な外縁のノーブリッジエッチングなど。薄板・大判加工、モリブデン加工もOK！基礎知識資料も進呈
- エッチング装置
半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロディスプレイの故障解析
- エッチング装置
- その他半導体製造装置
高純度のカーボン素材でパーティクルがなく、気体を透過しません。しかも軽量で、適度な硬さもあるため耐摩耗性も良好です。
- エッチング装置
新プラズマ源ＨＣＤ（ホローカソード放電）電極搭載、各種メタルやＣｕ薄膜のエッチングに対応。大面積化も容易な新型エッチング装置.
- エッチング装置
- アッシング装置
- プラズマ表面処理装置
ウェハやガラス・大型基板のエッチング・アッシングに実績豊富なバッチタイプエッチング装置。 半導体製造装置部品・材料にも対応
- エッチング装置
- プラズマ表面処理装置
Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージング時間を大幅に短縮できます。透過率特性も優れています。
- 表面処理受託サービス
- エッチング装置
- 加工受託
一般的なイオン交換型金属除去膜から半導体アプリケーションに特化した金属除去膜まで幅広いラインナップ。
- レジスト装置
- エッチング装置
低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』
『ThermoRack401』は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに好適です。 冷却能力400Wの当製品は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持。 駆動部はわずか2か所でささやきのような静粛性・無振動を実現し、先進的光学・ レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応可能です。 コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越える寿命をもち、世界中の 電源に対応のユニバーサル電源を搭載しています。 詳しくは、下記の関連製品ページまたはPDF資料をご覧ください。
従来のフォトリソグラフィーと比較して、研究開発から量産用途まで扱いやすく高い生産性を実現するソリューションです
- エッチング装置
シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓｉ系、メタル、有機膜、各種薄膜のダメージレスエッチング
- エッチング装置
- アッシング装置
- プラズマ表面処理装置