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【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 150mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-511との組み合わせ
【精密位置決め装置】高分解能・高い位置決め再現性・位置決め後の位置保持性が高い位置決めステージ！
光学式リニアスケールをステージ中央に内蔵して検出誤差を少なくした高分解能位置決めステージです。 『 10nm 』分解能(*1)でストロークは『 200mm 』となっております。 自社開発リニアスケールと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。 スローダウンセンサを搭載しており、ストロークエンドでの停止時の衝撃を小さくできます。 (*1)フィードバックステージコントローラFC-514との組み合わせ
真空中で使える 5nm分解能・高再現性・高保持性を持った高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、薄型で軽量な設計、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 50mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
真空中で使える 5nm分解能で40mm動作の高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 自社開発したリニアスケールを内蔵しているため、フルクローズドループ制御による高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
真空中で使える リニアエンコーダによる5nm分解能の高性能位置決めステージ
位置決めステージにアウトガス対策を施してあるため、真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 20mmストロークを5nm分解能で動作させることができます。
【真空対応】40mmの範囲を10nm分解能で動作する高性能位置決めステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 ステージ内蔵の光学式リニアエンコーダの位置情報によるフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 40mmストロークを10nm分解能で動作させることができます。
【10nm分解能】真空中で使用可能なリニアエンコーダ内蔵のロングステージ
アウトガス対策を施した真空対応フィードバックステージです。 真空チャンバーにそのまま導入可能です。 光学式リニアエンコーダを内蔵しており、エンコーダで検出した位置情報をもとにフルクローズドループ制御を行っているため、高精度な繰り返し位置決め性能を持っています。 移動範囲100mmと長いため試料の移動と精密位置決めが１台で可能だったり、広範囲のデータ（スペクトル等）が必要な場合に有効です。
【真空対応】リニアエンコーダ内蔵で10nm分解能のZ軸用位置決めステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能Z軸用位置決めステージです。 10nm分解能でストロークは『 5mm 』又は『 10mm 』を用意。 アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 テーブル面の傾きの変化を極力抑えた構成になっており、自社開発リニアエンコーダと自社独自のフィードバック制御回路により、高分解能、高い位置決め再現性、位置決め後の位置保持性を備えております。
【真空対応】最小分解能0.00001°で±4°動作できるエンコーダ内蔵の微小回転ステージ
光学式リニアエンコーダを搭載した高分解能微小回転ステージです。 0.00001°分解能でストロークは±4° アウトガス対策を施し、真空中で使用可能となっております。 回転方向の調整用に適しています。
10nm分解能で位置決め！単軸、多軸に対応したリニアステージ
FBリニアステージは、単軸および多軸アプリケーションで使用できます。 ステージ構成は、クロスローラーベアリング、リニア光学式エンコーダ、およびナノモーション社の超音波（ピエゾ）モータを利用しています。 ステージは幅広い移動⾧で提供され、X / YまたはX / Y / Zまたは他の多軸構成で組み合わせることができます。 エンコーダの分解能は、0.1μｍ、1μｍ、0.5μｍ、50nm、10nmの中から選択可能です。
レーザー光軸やレンズの調心に最適！この小ささ、薄さでナノメートルオーダーの超超精密位置決めが可能です！XYZΘの組合せも自在！
nano-UP シリーズは、高精度フィードバックスケールと ピエゾアクチュエータを搭載することで、きわめて高い制御 分解能と繰返し精度を実現した小型ナノステージ。 ステッピングモーター（粗動）とピエゾ（微動）の高速切替え により、ナノオーダーでのスムーズな位置決めを実現。 ラインアップは、1 軸ステージ、θステージ、傾斜ステージの 3 種類 4 モデルあり、ご使用の用途に応じて自由に組み合わせ頂けます。 カスタマイズ等のご相談も承りますので、お気軽にご相談ください。
ピエゾコントローラ クローズドループ制御
静電容量センサー(C)、ひずみゲージセンサー(S)に対応 チャンネル数 1ｃｈ・3ｃｈ 出力電圧-50～150V
ピエゾステージの選定に！最高1nmの分解能と優れた応答性！応用例も掲載中
最高1nmの分解能をもった超高分解能・高速応答のピエゾステージです。 内蔵変位センサによるフィードバック制御で信頼性の高い位置決めを行うことが出来ます。 【使用例】 ■半導体･液晶検査装置、干渉計機器、分析装置、顕微鏡レンズフォーカス、超精密加工、レーザー関連機器、ナノメータポジショニングなど・・・ 【ここが選ばれる理由】 ■1品からのカスタム対応 ■真空・非磁性対応可 ■組み合わせユニット対応 豊富なラインナップ、応用例を多数掲載中！ 詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。
最大30kgの耐荷重と±0.1µm再現性を両立した高精度6軸制御
H-840は、スチュワートプラットフォーム構造を採用した高精度ヘキサポッドで、6本のアクチュエータにより並列駆動されます。 Z軸±25mm、X/Y方向±50mm、回転±30°と柔軟な動作を実現し、光学アライメントやマイクロマニピュレーションなどの高度な位置制御が可能。 最大30kgまでの荷重に対応し、±0.1µmの位置再現性と高い制御精度を兼ね備えています。
ペルチェの駆動電源独自の回路方式を採用！小型・高効率で高精度なドライバ
『TDC-1640/1660 シリーズ』は大容量ペルチェ素子用の1ch デジタルコントローラ（1200Ｗ/1800W タイプ）です。 温度変換部・PID 制御部・バイポーラ高効率定電流駆動部が一体となっており、AC 電源を供給するだけでペルチェ素子の温度制御ができます。 さらに大電力タイプながら制御安定度±0.03℃を実現しました。 またパソコンとのインターフェイスを標準装備していますので、あらゆるシステムに対応することができます。 【特徴】 ○小型・高精度 ・マイコンによるソフトウェアディジタル制御を採用で高精度 ・ペルチェの駆動電源に当社独自の回路方式を採用し 小型・高効率で高精度 ○高速 ・ペルチェの温度コントロール専用に開発 ・制御サイクルが10 回/秒と高速 ○汎用性 ・表示パネルから温度センサ（Ｐt100，サーミスタ）を選択して使用可 ・パソコンとのインターフェースを利用し、種々の温調システムを構築 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
