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絶縁物の測定が可能！セラミック・ガラス等さまざまな材料に適用できます
「X線光電子分光法」は、試料表面(最表面～数nmの深さ)の 元素分析・化学状態分析を行う手法です。 絶縁物の測定が可能なため、金属・半導体・高分子・セラミック・ガラス等 さまざまな材料に適用可能。 表面分析の中でも多用されている手法の一つであり、材料の研究開発や 不良解析に利用されています。 【分析項目】 ■表面の組成分析(定性・定量)：ワイドスキャン、ナロースキャン ■化学シフトによる結合状態評価：ナロースキャン、波形分離 ■イオンスパッタを使用した深さ方向の組成分析：デプスプロファイル ■X線を走査することにより面分析(マッピング)や線分析も可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
操作性に優れたタッチパネル方式を採用した96ウェル同時自動分注装置をご紹介！
『EDR-700A』は、一体型スタッカー機能搭載により、96ウェル同時処理での 連続トランスファー作業の簡略化・高速化を実現したオートドロッパーです。 操作性に優れたタッチパネル方式を採用。使用用途に合わせ、 ステンレスノズル式ヘッドとディスポーザブルチップ式ヘッドが選択可能です。 また、前モデル「EDR-500A」のシリンダー、ヘッド、オプション品が そのままご使用いただけます。 【特長】 ■96ウェル同時処理での連続トランスファー作業の簡略化・高速化を実現 ■ステンレスノズル式ヘッドとディスポーザブルチップ式ヘッドを選択可能 ■本体には分注・吸引機構の他にスタッカーと試薬自動供給装置を標準搭載 ■シンプルなインターフェイスで戸惑うことなく各種操作を選択できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
設置しやすいコンパクトサイズ！臨床検査や食品検査、診断薬製造などに
『EDR-VS8C』は、50mL/15mL遠沈管・採血管・マイクロプレート等、様々な 容器に対応できる8ch可変ピッチサンプリングシステムです。 各種センサーによるチップ装着確認、液面検知、異常吸引検知機能を搭載。 また、温調ユニットやバーコードユニット等、多彩なオプションを ラインアップしております。 【特長】 ■設置しやすいコンパクトサイズ ■50mL/15mL遠沈管・採血管・マイクロプレート等、様々な容器に対応 ■温調ユニットやバーコードユニット等、多彩なオプションをラインアップ ■各種センサーによるチップ装着確認、液面検知、異常吸引検知機能を搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
チャンネル数は全7種類！マルチディッシュを用いた様々な細胞培養工程を支援します
『EDR-24LX』は、自動分注、自動希釈、サンプリングなど多用途での使用が 可能なコンパクト・ワークステーションです。 制御ソフトは全て日本語。タブレットPCで直感的な操作が実現しました。 また、クリーンベンチ、安全キャビネットへ楽々設置でき、不要なときには 取り出せるコンパクトなサイズとなっております。 【特長】 ■自動分注、自動希釈、サンプリングなど多用途での使用が可能 ■マルチディッシュを用いた様々な細胞培養工程を支援 ■軽量コンパクトでクリーンベンチ、キャビネット内にも楽々設置できる ■ヘッドはワンタッチで交換可能 ■チャンネル数は1ch、6ch、12ch、24chの全7種類 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
スペースをとらないコンパクト設計オートのダイリューター・ドロッパーについてご紹介
『EDR-96RX』は、臨床検査において96ウェルマイクロプレートへの 試薬分注作業、検体の分注およびトランスファー作業、希釈系列の作成 などに適した8ch/12ch列毎処理 連続自動分注・希釈装置です。 スタッカー部にはマイクロプレートを20枚、チップラックを5個収納可能。 また、ステージ回転機構により、プレートの縦/横両方向の分注希釈作業に 対応することができます。 【特長】 ■直感的で操作性の良い専用PCソフトを用意 ■CSVファイルを使用した分注希釈パターン設定 ■試薬残量、チップ廃棄リミット、作業状況等を管理 ■トレーサビリティに適したログ管理機能 ■スペースをとらないコンパクト設計 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
0.1μL分注対応！左右に専用プレートスタッカーを接続しても省スペースで場所をとりません
『EDR-384SX-6』は、好評の12ステージワークステーション「EDR-384SX」の コンパクト版として登場した6ステージワークステーションです。 分注ユニットは、ワンタッチで簡単に交換可能。 左右に専用プレートスタッカーを接続しても省スペースで場所をとりません。 また、簡単スタートで使いやすさを徹底追求した制御ソフト“ICS”を 搭載しています。 【特長】 ■96/384/1536ウェルプレート対応 ■ダブルレンジヘッド対応 ■コンパクト版 ■マイクロウェルプレートとチップラックを合計6個まで設置可能 ■チャンネル数や分注レンジを簡単に変更できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
コンパクト設計で省スペース化を実現、安全キャビネットにも設置可能です！ 高精度微量分注と大容量分注を兼ね備えた二刀流モデルです！
『EDR-8LZ』は8ステージを有し、豊富なステージレイアウトを可能としています。 遠心管から384ウェルプレートまで幅広い容器に対応しています。 1ch～8chの任意の本数で使用できるので、希少な試薬を1chで分注し、サンプルは8chで分注するなどの連続作業が可能です。 新たにヘッド部に採用した「ダブルレンジ機構」はヘッドの交換が不要。 容量に応じて異なるシリンジを使用する事で微量から大容量まで、高精度な分注ができます。 国内生産のため、消耗品の安定供給が可能です。 【特長】 ■コンパクトな設計 ■豊富なステージ ■様々な容器に対応 ■ヘッド交換不要＆高精度微量分注の実現 ■液だれ防止シャッター ■各種センサーによる液面検知機能を搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
抗体、タンパク質の煩わしい精製から解放されて、新たな価値を生みませんか？
当社が取り扱う『EDR-384GX』をご紹介します。 少量多検体のHigh-throughput screeningなら、 PhyTipと96chリキッドハンドラーの組み合わせが適しています。 お好みの本数での精製も可能。 また、複数検体の自動化に適している小型8chタイプの「EDR-8LZ」も ご用意しております。 【特長】 ＜EDR-384GX＞ ■低速ピペッティング等、処理時間を要する各工程を自動化可能 ■チップ交換速度の向上及び分注ヘッドの高速化によりハイスループット化を実現 ■装置開口部を大きく取り、自動化インテグレートに適した構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
二次イオンを検出し、各質量における検出量を測定することで、試料中に含まれる成分の定性・定量を行う手法です
イオンを試料表面に入射させると、試料表面からは電子・中性粒子・イオンなど様々な粒子が放出されます。SIMSは、これらの粒子のうちイオンを検出し、各質量における検出量を測定することで、試料中に含まれる成分の定性・定量を行う手法です。 ・高感度（ppb～ppm） ・HからUまでの全元素の分析が可能 ・検出濃度範囲が広い（主成分元素から極微量不純物まで） ・標準試料を用いて定量分析が可能 ・深さ方向分析が可能 ・数～数十nmの深さ方向分解能での評価が可能 ・数μm角までの微小領域の測定が可能 ・同位体分析が可能 ・破壊分析
試料表面の構造解析を行う手法です。他の分析装置に比べ表面に敏感であることから、最表面の有機汚染の同定などに適した手法です
試料表面の構造解析を行う手法です。他の分析装置に比べ表面に敏感であることから、最表面の有機汚染の同定などに適した手法です。 スパッタイオン源を用いて、深さ方向に無機・有機物の分布分析が可能です。 ・有機・無機化合物の構造解析・同定が可能 ・異物検査装置の座標データとリンケージが可能 ・ミクロンオーダーの微小異物から数cmまでの定性が可能 ・最表面を感度よく分析することが可能 ・イメージ分析が可能 ・深さ方向分析の定性分析が可能
導結合プラズマ（ICP）を励起源として用いた無機元素分析の手法です
ICP-MSは溶液を分析するため、固体分析では作製が難しい標準試料を比較的容易に調製することが可能です。そのため、溶液中の極微量な無機元素を精確に定量する場合に頻繁に用いられています。 ・高感度・低バックグラウンドな測定が可能なため、無機元素分析用装置としては最も低い含有量（ppt*あるいはサブpptレベル）を検出できます。(＊：ppt：10-12g/g) ・定量分析の比較基準となる標準試料（標準溶液）の調製を柔軟に行うことができるため、不確かさの小さな結果を得ることができます。 ・周期表の多くの元素を同時に測定可能なため定性分析が可能です。また、広いダイナミックレンジを備えており主成分から微量成分までを同時に分析可能です。
試料冷却による高精度なBのプロファイル分析
デバイスの設計の上で特性に大きく影響を与えるSi中Bの濃度分布は、SIMS分析により高感度・高深さ方向分解能での評価が可能です。しかし、一般的な分析条件では、測定起因によりBの濃度分布に歪みが生じることがわかりました。 MSTでは試料冷却がこの歪み補正に有効であることを確認し、より高精度な濃度分布の評価が可能になりました。
天然物由来のアミノ酸類の収率や精製レベルを評価
ヒラタケ科の食用きのこ類に多く含まれるアミノ酸同族体であるエルゴチオネインは、高い抗酸化能を持った天然物由来の物質として食品・医療・美容分野で注目されています。最近になって化学的合成技術も確立されましたが、引き続き天然食品資源からの高効率な分離精製技術の確立が必要とされており、収率を精度良く測定して精製レベルを評価することが求められています。
切断できない大きな部品でも表面汚染を適切にサンプリングして測定
Al材表面に水はじきのよいシミがあることがわかりました。そのシミ部をテープに付着（転写）させ、TOFSIMSで分析を行いました。 「シミ部を転写させたテープ表面」からは、「Al材表面のシミ部」と同じフラグメントが検出されており、シミの原因物質がテープに転写されているものと考えられます。このように、原因物質をテープに転写させて採取するこの方法は、切断ができない部品に有効です。
汚染成分を同定し、汚染発生工程を推定
フッ素系の化合物はさまざまな種類が存在します。汚染原因調査の際、フッ素系の種類の定性を行うことで、原因となった工程を調べることが可能となります。そこで、表面敏感なTOF-SIMSを用いて水はじきのよい場所に何が付着しているか分析を行いました。 各工程で使用しているフッ素系のオイルは、種類によってフラグメントパターンが異なることを利用し、指紋照合を行ったところ、工程Bのオイルに相当する物質が付着していることがわかりました。
TOF-SIMSにより表面付着物成分を同定します
粘着テープの残渣は、製造工程において密着不良・剥離の原因となります。不良の原因として残渣が疑われる場合、表面付着物の成分とその分布を調べることができるTOF-SIMSが有効です。 粘着テープをSiウエハ表面に張り、剥がした後のSiウエハ表面および粘着テープの表面をTOF-SIMSで測定した事例をご紹介します。
微小領域・ガラス基板についてもSSDPによる分析が可能
二次イオン質量分析法（SIMS）を用いて、市販ＴＦＴ液晶ディスプレイのデータ信号配線とゲート電極配線の交差部（4μm×10μm）を、基板側から分析（SSDP-SIMS）した例を示します。 基板側から測定（SSDP-SIMS）を行うことにより、表面側の高濃度層や金属膜などの影響がないデータの提供が可能となります。
有機EL素子を深さ方向分解能よく評価
有機EL素子の長寿命化には、エレクトロマイグレーションによる劣化の評価が必要なため、電極金属成分の有機層への拡散の状態を調べることが重要です。しかしながら、陰極側から直接分析しても、陽極側からSSDP法*により分析しても、深さ方向分解能が低下し、界面から有機層への拡散を評価することは困難でした。（*SSDP法：裏面側からの分析。分析手法詳細編B0013参照。） そこで、特殊加工によって、陰極/有機層界面および有機層/陽極界面を露出させ、そこから有機層を分析することにより、有機層中を高い深さ方向分解能で評価することが可能になりました。
TOF-SIMSによるミクロンオーダーのイメージ測定
ポリエチレン表面に分散した青色色素「Cuフタロシアニン」の分布を調べました。 TOF-SIMS分析にて、1μmの色素系有機物の分布を捉えることが可能です。
SIMS分析によりH、 C、 N、 O、 Fなどを1ppm以下まで評価可能
他手法では評価が難しい半導体基板中のH、C、N、Oを1ppm(約5E16atoms/cm3)以下まで、Fを1ppb(約5E13atoms/cm3)以下の濃度まで検出可能です。実際のFZ-Si中における測定例（図1）とIII-V族半導体のバックグラウンドレベルを紹介します（表2）。III-V族半導体以外にも、金属膜・絶縁膜など各種材料で標準試料をとりえ揃えており、高感度な定量分析が可能です。半導体基板など各種材料のバルク分析や半導体プロセス中のガス成分の混入評価などに最適です。
TEM-EELSにより、微小領域の元素同定・化学状態分析が可能です
電子材料・触媒材料・紫外線吸収剤・光触媒などに用いられる酸化チタン（TiO2）には組成が同じで結晶構造の異なるアナターゼ型とルチル型が存在します。Si基板上に成膜した厚さ20nmの多結晶TiO2試料（写真1）について電子線プローブを約1nmΦ(FWHM)まで絞って測定を行いました。試料から取得したEELSスペクトルは、Ti、 Oともにアナターゼ型TiO2の標準スペクトルと一致しています（図1、 2）。
金属成分と有機成分を同時に評価可能です
半導体デバイス製造において、歩留まり向上の観点から、ウエハの裏面の清浄度向上に加え、ウエハのベベル部に残留する物質を除去することが求められています。今回、ベベル傾斜面のTOF-SIMS分析を行い、汚染の分布を評価しました（図2）。また、付着物と正常部・汚染源のマススペクトルを比較し、付着物は汚染源の金属（Cr）成分・有機物成分と一致していることがわかりました。 TOF-SIMSにてベベル部（端面と傾斜面）の汚染の発生工程を捉える事が可能です。
Slope面出し加工された有機多層構造試料のTOF-SIMS成分分析
XPSで4層の異なる有機化合物(或いは有機金属錯体)で形成されていると推定された有機EL素子（図1）について、TOF-SIMS分析を行いました。多層構造試料についてはスパッタを併用した深さ方向分析も行われますが、今回は構成成分の結合を壊さずに測定するために、Slope面を作製して各層を露出させました。Alq3、 NPD、 CuPcと推定される分子量関連イオン・フラグメントイオンが得られ、Slope面のTOFSIMS分析が有機多層膜の成分分析手法として有効な手段であることが確認されました。
極浅い領域においてもドーパント分布・接合の評価が可能
デバイスの微細化により、極浅い領域における不純物の深さ方向分布評価の必要性が高まっています。 正確な評価を行うためには、通常よりも低いエネルギー(1keV以下)の一次イオンビームを用いたSIMS分析が必要になります。図1にBF2+ 1keV、 P+ 1keV、 As+ 1keVで注入されたSiウエハを一次イオンビームエネルギー250eV～300eVを用いて測定した例を示します。
高い再現精度で評価可能
デバイスの微細化により、極浅い領域における不純物の深さ方向分布評価が必要とされています。正確な評価を行うためには、通常よりも低いエネルギー(1keV以下)の一次イオンビームを用いたSIMS分析が必要になります。今回、B+を低エネルギーでイオン注入したSiウエハを1keVの酸素イオンビームを用いて、日をまたいで、6回測定した結果から算出したBの面密度の相対標準偏差は3%以下であり、極浅い不純物分布評価においても通常のSIMS分析と同様に高い再現精度が得られることが示されました。
波形解析・Arスパッタによる結合状態の深さ方向分布評価
XPSでは酸化成分（酸素と結合している成分）・金属成分（金属と結合している成分）などの結合状態の評価が可能です。また、アルゴンイオンスパッタリングを併用することにより、深さ方向の結合状態の評価も可能です。 ※ ステンレス表面の不動態皮膜（厚さ数十nm～数百nm程度）について、上記測定を行った結果、（1）表面側にFe酸化成分が多い、（2）Cr酸化成分がFe酸化層の下側に存在、（3）Ni酸化成分はほとんど存在していないことがわかりました。 ※スパッタによる結合状態変化を含むため、相対比較での評価が主となります。
真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる質量分析法。水素や水も感度よく確認
TDSは、真空加熱/昇温により発生したガスを温度毎にモニターできる質量分析法です。 TDSスペクトルは、横軸に温度、縦軸にイオン強度を表します。これにより、放出されるガスの脱離量の比較、脱離温度の比較が可能です。また、真空雰囲気下であることから水素や水も感度よく分析することができます。 ・試料から脱離するガス及び圧力と、発生温度の関係を知ることが可能 ・試料のみを加熱できるため、バックグランドが低く、水素、水、酸素、窒素などの低質量分子の高感度分析が可能 ・試料からの発生ガスの成分推定、及び定量（分子の数）分析が可能
XAFSは、物質にX線を照射することで得られる吸収スペクトルを解析する手法です
・試料中の着目元素周囲の局所構造（原子間距離、配位数）や化学状態（価数、配位構造）の評価が可能 ・環境（高温・高圧・雰囲気）を問わず、測定が可能 ・様々な試料形態（固体・液体・気体、薄膜、非晶質物質など）の測定が可能 ・適用可能な濃度範囲が広い（主成分元素から微量元素まで） ・非破壊測定 ・測定方法によっては、バルクだけでなく、表面敏感な測定も可能
照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です
蛍光X線分析（XRF： X‐ray Fluorescence）は照射X線により発生する蛍光X線を検出し、エネルギーや分光結晶で分光することによって、元素分析や組成分析を行う手法です。 ・測定範囲の全エネルギー（Na～U）が同時に短時間で測定可能 ・未知試料の分析に適している ・非破壊分析 ・特殊な試料を除き、前処理不要、大気中での分析が手軽に行える ・ハンドヘルド型の装置で動かせない大型試料の元素分析が可能
