MoSi2ヒーター採用卓上式高温炉 1600-1800℃
コンパクトなオールラウンドの卓上タイプのチェンバー型高温炉
MoSi2ヒーター採用卓上式高温炉 は卓上タイプのコンパクトな高温炉で多くの利点を備えています。優秀な先端技術で加工された高品質の素材は、操作の容易性により研究室、実験室等でオールラウンドに使用可能です。この高温炉は、例えばジルコニア製の歯科用ブリッジ等の技術セラミックの焼結にも適しています。
- 企業:オガワ精機株式会社
- 価格:応相談
更新日: 集計期間:2025年06月11日~2025年07月08日
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コンパクトなオールラウンドの卓上タイプのチェンバー型高温炉
MoSi2ヒーター採用卓上式高温炉 は卓上タイプのコンパクトな高温炉で多くの利点を備えています。優秀な先端技術で加工された高品質の素材は、操作の容易性により研究室、実験室等でオールラウンドに使用可能です。この高温炉は、例えばジルコニア製の歯科用ブリッジ等の技術セラミックの焼結にも適しています。
優れた製品加工技術、洗練された設計、高度の信頼性が特徴のマッフル炉
このマッフル炉は研究室での平常の使用に最適の機種です。優れた製品加工技術、近代的デザイン、そして高度の信頼性がこのシリーズの特徴をなしています。これらのマッフル炉は前開き扉、または上下スライド扉のどちらも値段の追加なしにご注文いただけます。
材料の出し入れが便利な箱型構造を採用しております。空冷システムが装備されており、庫内温度の冷却、上昇を迅速に行うことができます。
最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。
φ240 x H180mmのチャンバー。30 セグメントPID自動制御。 最大温度1200 °C /作業温度は 1100°C。
直径240 x H180mmの大きなチャンバーサイズ *角型も承ります。 最大温度 は1,200 °C(作業温度は 1100°C ) 30 セグメントのPID制御による温度管理。
φ240 x H180mmのチャンバーのるつぼ炉にステンレス鋼のフランジが追加された、真空つるぼ炉。最大温度1200°C。
直径240 x H180mmの大きなチャンバーサイズ *角型も承ります。 最大温度 は1,200 °C(作業温度は 1100°C ) 30セグメントPID制御による温度管理 真空は-0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできます。
本シリーズは、ヒーターと炉心管はそれぞれ単独に配置されいるので、炉心管の交換が容易です。
<説明> ■ 標準は横型、オプションで縦型にも対応致します。 ■ また、ご要望に応じてマルチゾーンオプションがございます。お気軽にお問い合わせください。 <特長> - 炉芯管 取り外しが可能 - 温度調節器各種(Omron E5EC-T、ChinoDB670 他) - 高品質 断熱材 - 亜鉛メッキコーティング、エポキシ塗装 - 熱電対S型セラミックシース 対応範囲(0℃~1600℃) <オプション> - 独立熱電対過昇温防止温度調節器 - 独立熱電対による炉心管内温度モニター - 雰囲気ガス、真空用フランジ - 縦型、縦横ユニバーサルスタンド
■ ステンレス筐体の卓上タイプ管状炉
<説明> ■ 本シリーズの管状炉は、抜群の価格対性能比や非常にコンパクトなデザイン、軽量が大きな特徴です。 ■ これらの万能機種にはヒーター線の担体機能も兼ねた作業管が装備されています。このため、作業管は炉のヒーターを構成し、抜群の高速加熱を達成する利点をもたらします。 ■ 管状炉は 1100 ℃ または1300 ℃ に対応しています。 両機種は水平で使用するタイプとして設計されています。 ■ 不活性ガス雰囲気が必要となる場合は、ガスパージセット1を含む石英ガラス製などの作業管を別途装入しなければなりません。
内蔵の精密計量器とソフト装備の天秤炉は、研究室での熱灼減量測定のために特別に設計されました。
<説明> ■ 熱灼減量の測定は、とりわけ汚泥と廃棄物・家庭ごみの分析に重要な役割を果たします。 ■ また多様な技術的プロセスにおいても作業結果の評価のために利用されます。 ■ 初期総量と未燃物の相違が熱灼減量です。付属のソフトウェアがプロセス中に温度、および重量の変化を合わせて記録します。
材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した、マッフル炉です。
最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプからお選びいただけます。 エネルギー効率を最大限に保つため、高純度繊維状アルミナ断熱材を使用。 炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 30 セグメントのPID制御による温度管理。
直径240 x H180mmのチャンバーのるつぼ炉にステンレス鋼のフランジが追加され、真空つるぼ炉を形成しております。
直径240 x H180mmの大きなチャンバーサイズ *角型も承ります。 最大温度 は1,200 °C(作業温度は 1100°C ) 30セグメントPID制御による温度管理 真空は-0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできます。
発熱体はNiCrワイヤー!真空は-0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできます
当社が取り扱う、円形型の真空るつぼ炉『OSK75YU 12VCM』を ご紹介します。 直径240×H180mmのチャンバーのるつぼ炉にステンレス鋼の フランジが追加され、真空るつぼ炉を形成。 30セグメント、PID自動制御による温度管理を行い、最大温度は 1,200℃(作業温度は1,100℃)となります。 【特長】 ■大きなチャンバーサイズ ■角型も対応 ■最大温度は1,200℃(作業温度は1,100℃) ■真空は-0.1Mpaで保護ガスを挿入することもできる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
3タイプから選択可能!安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします
『OSK75YU 12BM/14BM/16BM』は、材料の出し入れが便利な箱型構造を採用した 高温ボックス型マッフル炉です。 空冷システムが装備されており、庫内温度の冷却、上昇を迅速に行うことが可能。 安全インターロック機構で、ドアが開くと自動的に炉の電源をオフにします。 また、30セグメントのPID制御による温度管理を行っております。 【特長】 ■最高温度1,200℃、1,400℃及び1,700℃の3タイプから選択可能 ■高純度繊維状アルミナ断熱材を使用 ■炉の外部に触れても安全な空冷ファン付きの二層鉄骨構造 ■30セグメントのPID制御による温度管理 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
マイクロプロセッサーコントローラ搭載!動作パラメーターの制御が可能
『OSK 59BS13 AFIシリーズ』は、電気抵抗、ガス、 オイルタイプの炉に対して経済的な誘導溶解炉です。 LCDディスプレイを備えたマイクロプロセッサーコントローラが搭載され、 設定、電力、温度制御に加え供給電圧や冷却水の圧力等の 動作パラメーターの制御が可能。 定格電圧が単相の「AFI-02」や三相の「AFI-03」、 「AFI-05 」などをご用意しております。 【特長】 ■グラファイト熱電対カバーを使用せずに溶融プロセスを制御 ■LCDディスプレイを備えたマイクロプロセッサーコントローラが搭載 ■るつぼの容量、るつぼのタイプ、出力により様々なモデルをご用意 ■るつぼはセラミックカバーに埋め込まれており、炉室を熱的に保護 ■セラミックカバーは再利用可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
金や銀粒子の製造に好適!溶融金属を専用るつぼの底部の穴から液相に注入可能
『OSK 59BS13Plus AFIシリーズ』は、 貴金属リサイクル産業や冶金研究ラボで金や銀粒子の製造に適した 造粒機能付きの誘導溶解炉です。 底部にストレーナーを付けたるつぼや大きな直径の穴が1つのるつぼを 使用するとインゴットの粒や鋳物を作る事が可能。 本体外寸が80×40×35cmの「AFI-03plus」や、 64×50×80cmの「AFI-05plus」をご用意しております。 【特長】 ■AFI-03plusは、るつぼ容量と出力の比率により、 るつぼ全容量を約1~2分で溶解 ■造粒機能搭載 ■ノンストップ造粒が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。