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有機絶縁材やガラスなどに銅ダイレクト成膜にて高い密着特性が得られる
【QC-200】 • Quantitatively detect Oxides and other reducible species • Analyze Copper and Silver wire diameters between 0.8mil - 3mil • Measures type and thickness of Oxides or Sulfides • Current density range 10-1000mA/cm2 • Analyzer footprint including stand and printer 6ft2 (0.557m2) • Nitrogen used for de-aeration (pre-purified 99.998% or better, moisture < 3ppm, Oxygen < 5ppm) • Borate buffer solution used (Boric acid + Sodium tetraborate, pH range 8.3-8.5) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください
・装置:露光機、投影露光機、ステッパー ・用途:半導体後工程用、RFフィルター用、パワー半導体用、電子部品用、パッケージ用、研究用 ・対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板等 ・レンズ特徴:解像度 1.5um 以上、等倍、広画角(4~8インチ) ・本体:~12インチ、研究用 ・光源は全て LED が標準 その他、カスタム設計、レンズ設計・製造・販売、LED光源の販売
※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。
【装置概要】 ■有機成分 ・促進剤(Brightener , Accelerator , Additive) ・抑制剤(Suppressor , Carrier , Polymer) ・レベラー(Leveler) ■無機成分 ・塩素(Chloride) ・硫酸(Acid) ・銅(Copper) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
用途:半導体後工程、RFフィルター、パワー半導体、電子部品、パッケージ、研究、MEMS 対応基板:ウエハ(特殊ウエハ含む)各種サイズ、ガラス、有機基板など 当社では、カスタム設計やレンズ設計・製造・販売、LED光源の販売も行っています。 詳しくはお気軽にお問い合わせください。
【その他取扱商品】 [生産機器] ○投影露光装置(LED光源搭載) ○塗布装置/印刷装置 ○ケミカル処理装置(アンポックファーイースト社製) ○高精度ルーター機(ターリーテクノロジー社製) ○ブラシ式基板クリーナー(キューブリック社製) ○X線多層板検査装置(ソフテックス社製) ○高精度穴検査装置(ワールドテック社製) ○自動ビン打ちテープ貼り機(タイヨー工業社製) ○自動乾燥炉(グローアップ社製) [分析装置] ○硫酸銅めっき液全自動管理装置 ○硫酸銅めっき液添加剤測定装置 ○酸化膜・金属膜厚測定装置 ○熱リン酸中のSi濃度分析装置 ○電解・無電解液の各種メタル分析装置 ○3D加熱表面形状測定装置 ○銅膜厚測定器 [実験・評価用装置] ○R&D用塗布装置 ○R&D用露光装置 ○硫酸銅めっき液添加剤測定装置 ○酸化膜・金属膜厚測定装置 ○3D加熱表面形状測定装置 [光学コンポーネント製品] ○メタルハライド光源装置 ○露光装置用UV-LED光源 ○露光装置用超高圧水銀ランプハウス ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【金属膜厚測定可能金属】 [金属膜厚測定について] ○金:Min40Å(0.004μm)~ ○銅:Min200Å(0.020μm)~ ○ニッケル:Min200Å(0.020μm)~ ○銀:Min200Å(0.020μm)~ ○錫:Min200Å(0.020μm)~ 【その他】 〇アルミニウム酸化膜他についてはパラメータ開発中 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○グレーティングの選択により、Z軸分解能 1μm ~ 5μm の選択が可能 ○DICオプション追加でCTE値算出可能 ○Convectiveモジュール使用で、-50℃から280℃までの対流冷却、加熱が可能 ○その他Studioソフトウェアによる様々な測定、解析ソリューションを提供 →用途に合ったオプション機能の追加が可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○銅表面をほとんどエッチングすることなく、不純物除去可能 ○酸化物、油脂分、の除去を同時に行う事が可能 ○銅表面を平滑に処理できることにより解像性が向上します ○FPC及び内層材処理に最適 ○その他金属(白銅、SUS、ニッケル、真鍮など)の処理も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○カメラビューに対して非垂直にオーブンに置かれたサンプルにも 自動回転補正により測定エリアに追随する ○測定温度ごとに、ROIを各々のサンプルに自動的に指定 ○ROI番号で保存 ○マルチROI Reviewにより、Thermal Profilerで、 データをチェックする事が出来る ○1つのサンプルだけが測定される場合でも、 熱膨張によりサンプルが動いても、設定時間と生産性を改善する ○たくさんのサンプルを一度に測定するほど、生産性はより改善される ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○コードとカスタムコード解析 ○直線コード解析 ○3Dギャップグラフ ○ユーザー指定のギャップリミット ○パス/警告/不良マップ ○4種のオフセット方法 ○各種ゲージ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】 ○XY軸分解能:0.5~1.0ミクロン ○歪分解能:150マイクロストレイン ○Z軸分解能:1ミクロン~2ミクロン ○温度レンジ:常温~300℃ ○測定視野:70 mm x 70 mm ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】 ○最小サンプル – 0.5mm x 0.5mm ○データ密度 ‐ 625pixel/mm2 ○Z軸分解能 – 5 μm ○Z軸測定精度 – ±5 μm ○焦点深さ - ±10mm ○販売開始 2013年4月~ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【akrometrix社サーモレイ ハードウェアオプションラインナップ】 ○SRT Module AXP専用オプション ○Digital Image Correlation(DIC) AXP2.0,PS200Sオプション ○Digital Fringe Projection(DFP) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○適正な波長を選択して照射する ○照射形状を任意に設計する ○照射領域内で照度ムラがない ○照度に応じて各種ランプを準備します ○照明光の安定性が良好 ○メタハラ250w~350wで大きなシェアを持つ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○さまざまな業界の排液処理に対応 ○タングステン、酸化セリウム、銅粉回収が可能 【ラインナップ】 ○MG-50W ○MG-50 ○MG-100 ○MG-200 ○MG-400 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【対象研磨】 ○トップテール ○ブロックカット ○角切断 ○C/R面 ○円筒/平面研磨 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○他の挿間紙と比較して対象金属に悪影響をあたえない ○他のシートと比べ軽いため、取扱い作業性に優れている ○減衰率等、他の挿間紙と比較して電気特性に優れている ○柔軟性、復元性に優れており長期間ご使用できる ○クリーンルーム内で加工しているため異物混入がない ○自由な厚み、サイズに加工可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○特殊ブラシにより、パターン間の形状にフレキシブルに対応可能 ○ファインパターンのパターン間のパーティクルの除去に効果的 ○薄物基板に対応 ○吸着コンベアを採用し薄物基板も安定搬送 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【仕様】 ○最小必要面積:12.7mm × 12.7mm ○測定精度:±5% ○測定範囲:2.5μm~200μm ○プローブサイズ:63mmL × 20φ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○シリコン0.00% ○スラッジの分散性が極めて優れている ○建浴の際、槽の洗浄をスムーズに行うことが出来る ○シリコンを含有しなくても即効性及び持続性を確保した画期的な消泡剤 ○スラッジ堆積を防ぐ、分散剤としてのご利用も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
【特徴】 ○世界トップ10のほとんどのPCB製造メーカに採用されている ○生産能力 月産300m以上 ○日本での導入実績は200ライン以上 ○薄物対応用搬送部の工夫 12μm以下の薄板搬送対応の実績 ○エミネント方式 ○メンテナンスを考慮した設計 ○日本製部品及び日本法人が台湾でアセンブリした部品を採用 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。
1.デモ環境について 3000mmx2000mm クラス1000環境にデモ機を整備し ています。 ・クリーンブース ・スリットコーター ・ホットプレート ・減圧乾燥 2.デモ依頼について デモ検討にあたり以下情報が必要となります。 ・塗布材料(粘度) ・洗浄材料(溶媒種) ・テスト基板(サイズと枚数) ・塗布条件(ウエット膜厚、ドライ膜厚) ・乾燥条件(加熱温度と加熱時間) 3.装置検討依頼(例:概算見積依頼)について 以下基本項目を選択してください。 ・装置種類は、「スロットダイ走行型」又は、「ステージ走行型」 ・基板搬送は、「ロボット搬送型」又は、「コンベア搬送型」 若しくはその他御客様構想) ・設置寸法は、「制限あり」又は、「制限なし」 ・基板サイズは、「1種類」又は、「2種類以上」 ・材料種類は、「1種類」 又は、「2種類以上」 選択頂いた内容と塗布に関する基本情報を元に装置提案いたします。 ご不明な点がございましたら、営業担当 川井まで問合せ下さい。
【特徴】 ○自社製マイクロフォーカス発生器の搭載により、ローコスト・ハイパフォーマンスを実現 ○カメラ上下機構(300mm)により、低倍から高倍まで蔵名画像で検査可能 ○コンパクトボディでも大型基板(600x500mm)を単一方向で検査可能 ◎より詳しい掲載内容につきましては、 カタログをご覧頂くか、直接お問い合わせください。
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