【カスタマイズ例】 ◎大気遮断状態での試料搬送装置との組み合わせ ◎プローブ駆動機能との組み合わせ 【対応TEM】単機能の標準モデルの場合 日本電子製TEM（URP以上のポールピースギャップがある機種、超高圧電顕については未対応） ※その他のメーカー製のTEMについてはお問い合わせください。

• その他

当社の「導入機シリーズ」は、完成度と自由度の高い標準規格品を多数取り揃えており、 組み合わせにより研究開発者の多様なニーズにお応えすることができます。 全ての製品はアウトガス低減対策を施しており、実験環境を妨げることなく高精度・高再現性を実現します。 また、要求仕様・研究開発目的に応じた特殊機構をご用意いたします。 【主な用途】 ◎試料搬送・受け渡し ◎試料加熱・冷却 ◎薄膜作製 ◎試料解析・分析　など ※詳しくは資料をご覧下さい。お問い合わせもお気軽にどうぞ。

• 動力伝達機器
• 真空機器
• 蒸着装置

【使用例】 ■MBE装置 ■CVD装置 ■有機材料成膜装置 ■分析装置　　他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 真空機器
• ドラフトチャンバー

【ラインアップ】 ■ICF規格品 ■JISチューブ ■チューブ継手付フランジ ■ガス導入バルブ付きフランジ ■ガスライン用フレキシブルチューブ ■電流導入端子シリーズ ■低温高圧セル　　他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 真空機器

【ラインアップ】 ■KSV-70AC：ICF-70用シャッター機構 ■KSV-114AC：CF-114用シャッター機構 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他

【仕様】 ■ワーキング寸法：700×700×700(mm) ■到達圧力：≦1.0E-5(Pa) ■加熱温度：200～450℃ ■処理時間：～48h ■冷却方式：自然冷却　又は　窒素ガス導入冷却 ■排気系：ロータリーポンプ及びターボ分子ポンプ ■提出資料：処理前画像及び温度勾配データ ■備考 ・製品図面のご送付をお願い致します。 ・精密洗浄処理をお願い致します。 ■納期：製品お預かり後 1～2週間 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• ガス回収/処理装置
• その他

【仕様】 ■取り付けフランジ：ICF-70 ■先端長（フランジ-入射口）：100mm ■ビーム入射口径×深さ：φ20×40 ■ユニット外径：φ34 ■ビームストッパー材質：無酸素銅 ■引出部コネクタ：BNC-R ■許容ベーキング温度：≦200℃ ■納期：御下命後1.5ヶ月 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他電子部品
• その他

【仕様】 ■導入径：φ32以上 ■導入フランジサイズ：ICF70FH ■取り付け角度：右下45度 ■サンプルホルダ加熱温度：MAX450℃ ■駆動機構ストローク：100mm ■加熱フィラメント材質：Ta ■熱電対：K-type ■ベーキング温度：≦200℃ ■温度表示機：オプション ■加熱用電源：オプション ■納期：1.5ヶ月 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素
• その他組立機械

【仕様】 ■X軸移動量：±12.5mm ■Y軸移動量：±12.5mm ■X軸位置決め精度：2µm ■Y軸位置決め精度：2µm ■許容リーク量：1.3×10^-10Pa・m³/sec ■許容加熱温度：≦200℃ ■接続フランジ 上部：ICF152-FT ■接続フランジ 下部：ICF152-FH ■有効内径：Φ100mm ■面間距離：215mm（変更可能） ■納期：2ヶ月 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他加工機械
• その他機械要素

【仕様】 ■導入径：φ36 ■導入フランジサイズ：最小 ICF070 ■真空内長さ：60ｍｍ～(選択可) ■導入向き：上向き～水平(任意) ■蒸着向き：0°～90° ■るつぼ材質：アルミナ ■るつぼ容量：0.3cc ■フィラメント材質：タンタル ■熱電対：K型 ■推奨使用温度：～350℃(熱電対周辺) ■温度安定性：±2.5℃ ■消費電力：2.6Ａ/7.5Ｗ(350℃:るつぼ温度) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• その他機械要素

【仕様】 ■導入径：φ37 ■導入フランジサイズ：最小:ICF070 ■真空内長さ：150ｍｍ～(選択可) ■導入向き：上向き～水平(任意) ■蒸着向き：0°～90° ■ボート材質：Ta・Mo・W ■ボート容量：0.5cc ■最大ボート温度：Ta(Max1400℃)・Mo(Max1200℃) ■蒸着材料：LiF・MoO₃・In ■消費電力：60Ａ/600Ｗ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置
• その他機械要素

【仕様】 ■Z軸移動量：222±25ｍｍ ■位置決め精度：0.1ｍｍ ■許容リーク量：1.3×10⁻¹⁰Pa・m³/sec ■許容加熱温度 ≦200℃ ■接続フランジ 上部：ICF152-FT ■接続フランジ 下部：ICF152-FH ■有効内径：φ108ｍｍ ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他機械要素
• その他

【仕様】 ■先端部の導入に必要な最小径：Φ38 ■最小取付フランジ：ICF70 ■Z軸(前後方向)ストローク：標準30mm ■Z軸(前後方向)移動分解能：0.002mm ■X軸(またはＹ軸)ストローク：±3mm ■ガラス窓材質 　・ホウケイ酸ガラス、合成石英ガラス、サファイアガラス　他 ■Heリークレート：1.3×10⁻⁹Pa・m³/sec以下 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他計測・記録・測定器

【仕様】 ■基板サイズ(インチ)：4(MAX) ■真空排気系(主排気)：クライオポンプ(8インチ 1700L/s：N2) ■真空排気系(補助排気)：ドライポンプ(500L/s：N2) ■金属蒸着源(ボート式)：3 ■金属蒸着源(ルツボ式)：1 ■有機蒸着源(ルツボ式)：4 ■ヒーター機構(L室/D室)：各1 ■グローブボックス接続：各社対応可能(※本装置はMBRAUN社製) ■自動処理：可能 ■自動搬送：可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 蒸着装置

【試料加熱TEMホルダー】 試料加熱TEMホルダー（KHT-01）は、試料ホルダー部に通電による加熱機構を設け、試料を加熱しながら観察及び測定することが出来るTEM用試料ホルダーです。 【ガス導入TEMホルダー】 ガス導入TEMホルダー（KGI-01）は、試料ホルダー部にガスを導入しながら観察及び測定することが出来るTEM用試料ホルダーです。 【反応ガス2種導入TEMホルダー】 反応ガス2種導入TEMホルダー（KRWG-01）は、二種類のガスを同時に試料ホルダー部へ導入しながら高分解能でその場観察及び測定をすることが出来るTEM用試料ホルダーです。 【引張り応力計測TEMホルダー】 引張り応力計測TEMホルダー（KPSM-01）は、フィルム状の試料を引っ張ることにより生じる歪みや破断時までの応力変化過程をその場観察及び測定をすることが出来るTEM用試料ホルダーです。 【クリーニング用TEMホルダー】 クリーニング用TEMホルダー（KCL-01）は、TEMカラム内の炭化水素による汚染を軽減させるため、活性酸素を試料室近傍まで導入するためのTEM用ホルダーです。

• 電子顕微鏡

【目次】 ○真空下の物理的な現象と利用例 ○気体の性質 ○真空の領域区分と分子密度 ○真空排気の現実 ○真空排気を邪魔する５つのガス源 ○具体的な真空材料 ○使用して後悔する材料 ○真鍮 (黄銅)の怖ろしさ ○ベーキングとプリベーキングの必要性 ○各種真空ポンプの原理と特徴 ○汚染された超高真空容器内の残留ガススペクトル ○各種真空計の概要 ○ガスケットの材料 ○真空装置に使われるエラストマーの性質 ○各圧力領域で到達圧力を制限する因子 ○主な汚染物質・汚染源 ○手垢（皮脂）で汚染された真空部品からのガス放出 ○排気系の運転開始法 ○独立した粗引き系を持つTMP排気システム ○大気開放時、パージガス中の水分量を管理 ○洗浄と表面処理の組み合わせ ○残留ガス分析 ○不純物フリー低真空装置への高速排気と省エネ ○排気時間の短縮と省エネ効果 ○まとめ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器

【ラインナップ】 ○試料冷却TEMホルダー KLT-01 ○試料加熱TEMホルダー KHT-01 ○二軸傾斜・試料加熱TEMホルダー KHT2-01 ○クリーニング用TEMホルダー KCL-01 ○ガス導入TEMホルダー KGI-01 ○その場観察TEMホルダー KISO-01 ○ガス・光・導入機構付TEMホルダー KGOF-01 ○ガス反応TEMホルダー KGR-01 ○反応ガス2種導入TEMホルダー KRWG-01 ○引張り応力計測TEMホルダー KPSM-01 ○蒸着TEMホルダー KEVA-01 ○大気遮断TEMホルダー KAC-01 ○真空封止型試料搬送機構 KVSST-01 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他顕微鏡・マイクロスコープ

【掲載製品】 ■真空部品 　◎ICF規格品　　　　　　　　　◎ISO（KF・LF）規格品（NW） 　◎JIS規格品　　　　　　　　　◎チューブ継手付フランジ 　◎ガス導入バルブ付きフランジ ◎ガスライン用フレキシブルチューブ 　◎電流導入端子シリーズ　　　 ◎低温高圧セル 　◎アクセサリー ■導入機 　◎直線導入機（Z軸）　　　　　◎上下機構（Z軸） 　◎中空直線導入機（Z軸）　　　◎回転導入機（φ軸） 　◎中空回転導入機（φ軸）　　 ◎トランスファーロッド（Z-φ軸） 　◎Xステージ　　　　　　　　　◎X/Yステージ（X-Y軸） 　◎セミ・マニピュレーター　　 ◎チルト機構（ω軸） 　◎蒸着セル　　　　　　　　　 ◎シャッター機構 　◎エントリーハッチ　　　　　 ◎ベロージョイント 　◎オプション ■装置 　◎チャンバー　　　　　　　　 ◎その他ユニット　など ※詳しくはカタログダウンロード、もしくはお問い合わせください。

• 真空成形機

【仕様】 ○ガス導入・排出口　3/8inch Swagelok ○排気ポート　3/8inch Swagelok ○ベーキング温度　150℃ ○温調器入力　100V(50/60Hz) ○N2ガス中水分量実績値　0.065vol. ppm ○露点計（オプション） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他理化学機器

【仕様】 ○取付フランジ　ICF-152 ○ターゲットサイズ　1.5inch（円形） ○ターゲット固定　リテイナー式 ○マグネット材質　SmCo ○ベーキング温度　300℃ ○DC電源（オプション） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他

【サービス内容】 ○リークテスト ○表面処理 ○洗浄 ○組立 ○真空立ち上げ ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他の各種サービス

【技術サービス内容】 ○各種装置・ユニット類の保守点検 ○メンテナンス ○修理 ○改造 ○オーバーホール ○移設作業 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他の各種サービス

【ラインナップ】 ○チタン ○タングステン ○無酸素銅 ○りん青銅 ○アルミナ ○シェイバルMソフト ○グラファイト ○炭化珪素(SiC) ○PEEK(ポリエーテルエーテルケトン) ○石英ガラス ○テフロン(ポリテトラフルオロエチレン：PTFE) ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他機械要素

【仕様】 ○取付フランジ　ICF-70 ○試料印加電圧　1.5kV～2kV（標準） ○蒸着可能な材料例　Fe, Co, Ni, Nb, Pt ○材料移動調整距離　25mm ○ベーキング温度　200℃ ○シャッター駆動　回転（手動） ○T-S間距離　150mm（標準） ○参考蒸着レート　0.5Å/s 　　　　　　　　　溶融材料用ルツボ（オプション） ○試料　フィラメント印加電源（オプション） 　　　　イオン電流測定用電流計（オプション） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 蒸着装置

【仕様】 ○取付フランジ　ICF-152 ○ターゲットサイズ　1.5inch（円形） ○ターゲット固定　リテイナー式 ○マグネット材質　SmCo ○ベーキング温度　300℃ ○DC電源（オプション） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器

【仕様】 ○取付フランジ　ICF-152 ○ターゲットサイズ　1.5inch（円形） ○ターゲット固定　リテイナー式 ○マグネット材質　SmCo ○ベーキング温度　300℃ ○RF電源（オプション） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他

【特徴】 ○シャッタースピードは、空圧調整バルブ(標準付属)にて任意に可変可能 ○コントロールBOX(標準付属)より、 　BNCコネクタを介しリモート制御にてシャッター開閉可能 ○シャッターストロークは、0～20mm(標準仕様) ○取付けフランジサイズ、シャッター板形状は、任意に設計変更可能 ○200℃までのベーキングが可能 ○超高真空対応可能な構成 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• 真空機器

【特徴】 ○センサーには、多数の真空装置で実績のある、 　キャノンアネルバ製のミニチュアゲージを採用 ○取付けフランジはICF-70 ○シールドカバーの設置により、センサーへの汚染を最小限に抑制 ○アナログ出力が可能 ○200℃までのベーキングが可能 ○表面処理により、構成部品からのガス放出が微少 ○回転機構による180℃の回転で簡単にフラックス強度を測定可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。

• その他計測・記録・測定器

☆掲載内容☆ ■PVD装置コンポーネントガイド ■チャンバータイプ別仕様 ■蒸着構成／各蒸着源仕様 ■機能構成　マニピュレーター ■機能構成　シャッター/その他 ■機能構成　ロードロックチャンバー ■計測・分析構成　真空計・水晶振動子 ■計測・分析構成　フラックスモニター・RHEED ■電源・制御構成　架台・ラック ■電源・制御構成　制御コントローラ ■その他・付属構成 ■排気構成　ターボ分子ポンプ・スクロールポンプ ■特注品【ORDER MADE】 ■インターネットサービスのご案内 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。

• 真空成形機

＜KTX-500＞ ストローク：500mm、重量：5.5kg ＜KTX-750＞ ストローク：750mm、重量：6.0kg ＜KTX-1000＞ ストローク：1000mm、重量：6.5kg ＜セミオーダー＞ ロッド先端加工、ストローク長変更、表面処理、ベーキング処理 ＜オプション＞ モーター駆動ユニット、回転止めユニット、プロテクター、延長ハンドル

• 蒸着装置
• スパッタリング装置
• CVD装置

＜KTL-500＞ ストローク：500mm、重量：2.9kg ＜KTL-750＞ ストローク：750mm、重量：3.4kg ＜KTL-1000＞ ストローク：1000mm、重量：3.9kg ＜セミオーダー＞ ロッド先端加工、ストローク長変更、表面処理、ベーキング処理 ＜オプション＞ モーター駆動ユニット、回転止めユニット、プロテクター、延長ハンドル

• 蒸着装置

◆◇◆掲載内容◆◇◆ ◆製品案内　真空部品 ・ICF規格品 ・ISO（KF・LF）規格品（NW） ・JIS規格品 ・チューブ継手付ブラシ ・ガス導入バルブ付フランジ ・ガスライン用フレキシブルチューブ ・電流導入端子シリーズ ・低温高圧セル ・アクセサリー ◆製品案内　導入機 ・直線導入機（Z軸） ・上下機構（Z軸） ・中空直線導入機（Z軸） ・中空回転導入機（φ軸） ・多軸複合導入機 ・トランスファーロッド（Z-φ軸） ・Xステージ ・X/Yステージ（X/Y軸）　など ◆製品案内　チャンバー ◆技術資料　など ◆ダウンロードボタンより掲載内容一覧(サンプル)をご覧頂けます。　 ◆カタログご希望の方は、資料請求よりお問い合わせ下さい。（無料にて配達致します。）

• 真空成形機

＜KTS-100＞ ストローク：100mm、重量：0.9kg ＜KTS-200＞ ストローク：200mm、重量：1.0kg ＜KTS-300＞ ストローク：300mm、重量：1.1kg ＜セミオーダー＞ ロッド先端加工、ストローク長変更、表面処理、ベーキング処理 ＜オプション＞ モーター駆動ユニット、回転止めユニット、プロテクター、延長ハンドル

• 試験機器・装置
• 分析機器・装置

＜KTM-200＞ ストローク：200mm、重量：1.3kg ＜KTM-300＞ ストローク：300mm、重量：1.4kg ＜セミオーダー＞ ロッド先端加工、ストローク長変更、表面処理、ベーキング処理 ＜オプション＞ モーター駆動ユニット、回転止めユニット、プロテクター、延長ハンドル

• 試験機器・装置
• 分析機器・装置

【共通仕様】 ■駆動方式/Driving Method：マグネット方式/Magnetic Coupling ■許容リーク量/Leak Rate：≦1.33×10-11Pa・m3/sec ■許容加熱温度/Bake out Temperature：≦200℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

【ラインアップ】 ■KTS-RS ■KTM-RS ■KTL-RS ■KTX-RS ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

【ラインアップ】 ■KTL-EH ■KTX-EH ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器
• その他実験器具・容器

【ラインアップ】 ■KTL-PT ■KTX-PT ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器
• その他実験器具・容器

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 試験機器・装置
• ガラス器具・容器
• 分析機器・装置

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

【その他の特長】 ■独自の設計により、シール方法を改良し縦置きでも横置きでも取り付け可能な構造 ■薄さにもこだわり、内部の表面積を極力減らしている ■許容リーク量：≦1.33×10-11Pa・m3/sec（ダブルOリング差動排気時） ■真空シール稼動部：ダブルOリング差動排気型 ■許容加熱温度：≦120℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器

ベローズ式のXY移動機構と角度調整が可能なXYチルト機構。マイクロメーターによる正確な微調整が可能です。

• 分析機器・装置
• ガラス器具・容器