スパッタリング装置の製品一覧

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【重量物の取り扱いによる作業負担を軽減!】お客様の課題を解決した導入事例5選を収録!ワークに応じた無料相談、テストも受付中!

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JIS・ISO規格の解説資料進呈。豊富な製品シリーズから好適な安全柵をご提案!デモキット無料貸出。

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  • その他安全・衛生用品

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実験・研究・評価・試作に好適!ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度、低ダメージ真空成膜を実現!

  • スパッタリング装置

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半導体スパッタリングターゲット製造のことなら当社へお任せください

  • スパッタリング装置

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SiC/Si複合材料をターゲット材としてご使用頂いております。

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  • ファインセラミックス

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リモートソース型イオンビームスパッタ装置 リモートプラズマソースの開発メーカー

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  • スパッタリング装置

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受託テスト成膜サービス(高品位反応膜などの試験成膜)のご案内

これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究。 次世代のMEMS用途として注目されるAlScN成膜など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートいたします。 ヘリコンイオンソースをプラズマ源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的なテクノロジーです。 リモートプラズマ方式によるイオンビーム型の成膜法であるため、マグネトロンスパッタ装置が不得意とする強磁性体ターゲットや誘電体ターゲットも安定した製膜を実現します。 イオン源とターゲット印加を個別に制御することにより、幅広い成膜条件への対応が可能となるだけでなく、高レートでの成膜も両立させます。 ターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層薄膜も成膜可能です。 基盤表面がプラズマに晒されないため、基盤表面を低温に保っての成膜が可能となります。

FCCL(フレキシブル銅張積層板)製造用高スループットロール to ロール型スパッタリング装置

  • スパッタリング装置

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FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向けに設計された非常にコンパクトなスパッタリング装置です。

  • スパッタリング装置

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高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

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「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用として開発された高機能マグネトロンスパッタ装置です。

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大好評 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

今後大きな需要が期待されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルター等の光学薄膜に特化した装置です。高品質かつ安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソースの搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大4基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜

Ni、Cr、W、Ti、Al等多種金属対応のハイスペックコンパクトコーター!

  • スパッタリング装置

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大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチまでの各モデルを用意しております。

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実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

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SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

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イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチックスパッタコーター

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多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回転加熱、回転水冷

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【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクトスパッタリング装置HEX-Fission【R&Dに最適!】

HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-Fission』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにしたスパッタ装置です。スパッタリングソースFissionを搭載し、DCスパッタとRFスパッタの両方に対応します。最大で3台のスパッタソースで同時蒸着を行うことが可能です。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・スパッタリングソースFission ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・MFCコントローラー ・固定サンプルテーブル ・DC電源 ・膜厚計(QCM) ・マニュアル式シャッター ◆アップグレードオプション(例)◆ ・回転加熱サンプルテーブル ・RF電源 ・自動シャッター ・追加スパッタソースおよび電源 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置|スパッタリング・抵抗加熱蒸着・電子ビーム蒸着・有機蒸着

  • スパッタリング装置

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【高拡張性&高メンテナンス性】コンパクトスパッタリング装置HEX-Fission【R&Dに最適!】

HEXシステムは、ミニマムな構成で導入し、研究の方向性の変化に応じて多目的に構成を変更可能な、最小設置面積60cm角のコンパクト真空装置です。ブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 『HEX-Fission』は多目的真空蒸着装置HEXシステムをベースにしたスパッタ装置です。スパッタリングソースFissionを搭載し、DCスパッタとRFスパッタの両方に対応します。最大で3台のスパッタソースで同時蒸着を行うことが可能です。 ◆標準仕様◆ ・多目的真空蒸着装置HEXシステム ・スパッタリングソースFission ・80L/sターボポンプおよびスクロールポンプ ・フルレンジ真空計 ・ビューポートパネル ・MFCコントローラー ・固定サンプルテーブル ・DC電源 ・膜厚計(QCM) ・マニュアル式シャッター ◆アップグレードオプション(例)◆ ・回転加熱サンプルテーブル ・RF電源 ・自動シャッター ・追加スパッタソースおよび電源 ※詳細についてはお気軽にお問い合わせください。

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