コロイダルシリカの製品一覧
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研磨クロス“シリカファイナル”との併用により、最高レベルの研磨面を実現可能なファイナル研磨剤！
- ウエハ加工/研磨装置
- その他研磨材
低炭素・SDGS社会に貢献！現行コロイダルシリカの代替品として触媒、精密鋳造、耐火物、コーティングなどの用途で評価されています
- 複合材料
高能率でダメージフリーの研磨面が得られる！サファイアなどの電子材料基盤、金属材料、セラミックスなど様々な材質の鏡面仕上げが可能
- その他
シリカジェンコートとは、紙や木材・樹脂などに塗布することで、ガラスが持つ機能を付与させることができる革新的な技術です。
- ガラス
- 木材加工品
- 紙・パルプ加工品
研磨面に残った小さなキズや歪を取り除き、試料の詳細情報を明確に現出可能にします。アルミナとシリカの2種類を揃えております。
- その他研磨材
化学研磨液の世界市場：アルミナスラリー、コロイダルシリカスラリー、セリアスラリー、シリコンウェーハ、光学基板、ディスクド ...
- その他の各種サービス
CMP研磨液の世界市場：アルミナスラリー、コロイダルシリカスラリー、セリアスラリー、シリコンウエハー、光学基板、ディスク ...
- その他の各種サービス
柔よく剛を制す！シリカにダイヤモンドをブレンドした硬質基板研磨用スラリー。CMPの前の使用することでプロセス時間を短縮します。
- その他研磨材
イプロスの弊社ページが見やすくなりました！
日頃より弊社のホームページやイプロスサイトをご覧いただきありがとうございます。 お客様へさらに弊社の情報をお届けできるよう、イプロスの弊社ページをリニューアルいたしました。 ＜リニューアルポイント＞ １．製品・サービスページの画像を拡充しました ２．定期的にイプロスオリジナル特集へ弊社製品を掲載します （次回は4/8掲載開始の「高機能金属特集」、「セラミックス特集」に掲載予定です） 今後も情報をお届けできるよう努めて参りますので、変わらぬご愛顧を賜りますようお願い申し上げます。
ゼータ電位の力により、除去困難な数nm～数百nm極微粒子を高効率で除去します！
- フィルタ
- その他フィルタ
今年の展示会出展情報
明けましておめでとうございます。 本年もどうぞよろしくお願いいたします。 令和2年(2020年)度の展示会の出展情報を更新しました。 今年度は下記の展示会に出展いたします。無料のご招待券もご用意しておりますので、是非ご来場いただき、当社製品をご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。 【2020年度展示会】 １、第24回機械要素技術展（M-TECH）日時：2020年2月26日(水)～28日(金) 会場：幕張メッセ ２、2020 NEW環境展（N-EXPO 2020）日時：2020年4月22日(水)～248日(金) 会場：インテックス大阪 ３、FOOMA JAPAN 2020 日時：2020年6月23日(火)～26日(金) 会場：インテックス大阪 ４、メンテナンス・レジリエンスOSAKA 日時：2020年7月29日(水)～31日(金) 会場：インテックス大阪
砥粒技術＋ケミカル配合技術により設計！ハイレートかつ面品質/面品位を両立できるCMPスラリー
- ファインセラミックス
- その他研磨材
- ウエハー
5月25日、26日の 機能性繊維フェア2023に出展します！
株式会社日新化学研究所は、 機能性繊維フェア2023に出展します。 出展製品としてはワックス剤、精練剤、染色助剤、 ソーピング剤、吸水柔軟剤、帯電防止剤、堅牢度向上剤、 機能性加工剤などを出展させていただきますので 是非お立ち寄り下さい。 名 称：機能性繊維フェア2023 会 期：2023年5月25日（木）〜26日（金）2日間 開催時間：5月25日 13:30～17:00 26日 10:00～16:00 ブース番号：3F 43番 会 場：大阪産業創造館3F・4F
試料作成の精密切断砥石、埋め込み樹脂、研磨剤等の消耗品の総合カタログです。組織観察をされている方は是非1度ご覧ください。
- 塑性加工機械(切断・圧延)
- その他加工機械
- 鉄鋼
歩留まりアップや品質安定に最適な洗浄剤！定期的な設備、配管付着研磨剤洗浄（清掃）を提案！※無償テスト実施可！
- 洗浄剤
- その他洗浄機
【技術情報】CMPスラリーの希釈
CMPスラリーは、メーカー推奨に従い希釈してから使用する場合があります。 メーカーや製品仕様によって推奨条件や表現は様々ですので、十分に理解した上で使用を開始する必要があります。 ■希釈は、重量比か体積比か？ メーカーから希釈倍率の推奨がありますが、重量比か体積比によって比率が変わる場合がありますので注意が必要です。 例）スラリーA（比重1.38）を純水と希釈する場合 1) 重量3倍希釈：10kgのスラリーに対し、20kgの純水で調整 2) 体積3倍希釈：10L（=13.8kg)のスラリーに対し、20Lの純水で調整 ■希釈手順 CMPスラリーには特性を最大限にするよう設計が工夫されており、2液や3液といった梱包形態の製品も存在しています。 スラリーの安定性を担保するなどの理由で、メーカーから希釈手順が推奨されていることがあります。 例）2液性スラリー（A液・B液）と純水を希釈する場合 1) A液と純水を希釈する 2) 1)にB液を添加する メーカーや製品仕様によって様々なケースが考えられますので、詳しくはメーカーにお問い合わせされることをおすすめいたします。
