研究開発用小型現像装置 HPD40
研究開発用小型現像装置 HPD40
【工程】投入→現像→液切→水洗1→水洗2→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
- 企業:株式会社二宮システム
- 価格:100万円 ~ 500万円
更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
更新日: 集計期間:2025年11月05日~2025年12月02日
※当サイトの各ページの閲覧回数を元に算出したランキングです。
46~51 件を表示 / 全 51 件
研究開発用小型現像装置 HPD40
【工程】投入→現像→液切→水洗1→水洗2→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1420×L1950×H1645mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
装置寸法:2000W×1200D×2000H (200WCBT)/2000W×1500D×2000H (300WCBT)
セットをローダーにセットし、クリーンロボットにて基板の搬送を行い、パドル現像、リンス、スピン乾燥する枚葉自動スピン現像装置です。本体側面に薬液供給タンク又は廃液タンク(20L)を2本内蔵可能です。
研究開発用小型現像機 SPD40
【工程】投入→現像→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1300×L1590×H1215mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
小型薄板用現像装置 FBD40
【工程】投入→エアーナイフ→現像→エアーナイフ→循環水洗→直水洗→エアーナイフ→取出し【基板サイズ】Min.W50×L50mm 厚み0.03〜2.0mm【ノズル揺動】水平揺動【装置サイズ】W1445×L2010×H1230mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
小型超高精度現像装置 MPD40
【工程】投入→現像→液切→リンス→液切→循環水洗→直水洗→絞り→取出し【基板サイズ】Max.W400×L500mm 厚み0.4〜2.0mm【ノズル揺動】首振揺動【装置サイズ】W1530×L2830×H1860mm ・省スペース研究用 ・材料開発やテストに最適 ・PCB・LCDの現像が可能
自動機を購入するほど生産量が多くないが、プロセスの再現性を求めるお客様向けのセミオートデベロッパーです。
当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリングユニットを搭載。 自動機を導入するほど生産量が多くないけどもマニュアル機では 工数の問題で導入できない等でお悩みのお客様におススメです! 御社のニーズに合わせた半自動機を設計・製造いたしますので 新規装置の導入でお困りのお客様はぜひご検討ください! TMAH等多彩な薬液に実績があります。 【特長】 ■自動搬送機能 ■低価格を実現 ■多彩な薬液に実績あり ■フットプリントの低減 ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。