更新日： 集計期間:2025年08月20日～2025年09月16日
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受託加工専業30年を超える実績！技術の向上で、更なるイノベーションへ！
東邦化研株式会社では、表面処理に最適なイオンプレーティング（PVD）・真空蒸着・プラズマCVD・スパッタリングなどによる薄膜コーティング受託加工サービスを行っております。 特に導電性・絶縁性等の機能性膜に重点を置き、試作・開発・研究・大量生産・小ロット生産までの、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えております。 お見積りから加工まで、迅速・確実な対応を心がけ、且つリードタイムの短縮に貢献します。 【事業内容】 ■イオンプレーティングと真空蒸着による薄膜の受託加工サービス (機能性膜の作製、表面改質、薄膜加工全般の受託請負) 詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
医療用途・光学部品に！イニシャル、ランニングコスト低減ができるプラズマCVD装置
『ダイヤモンドライクカーボンの成膜装置』は、熱陰極PIG(ペニング イオンゲージ放電形式）プラズマCVD装置です。 低温かつ高真空での処理を可能とし､硬度と平滑性に優れた DLC(ダイヤモンドライクカーボン)膜の形成を実現。 他方式に比べ基板に入射するイオンの量とイオンのエネルギーをそれぞれ 独立して制御できる為、極めて広範囲な膜質の制御が可能です。 また、東製株式会社では、超硬・ステンレス･工具鋼などへのダイヤモンド状 炭素膜の優れた特長を広くご活用いただける表面処理加工も行っております。 【特長】 ■低摩擦係数 ■対摩耗性 ■低攻撃性 ■非溶着性 ■絶縁性 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
素材に新たな機能を吹き込む薄膜加工技術を解説した技術資料を進呈中！各種表面処理薄膜コーティング法を掲載！試作から生産案件まで対応
東邦化研株式会社では、イオンプレーティング、真空蒸着、スパッタリング、プラズマCVDによる機能性薄膜の受託加工（コーティングサービス）を行っております。 金属膜や、酸化膜・炭化膜・窒化膜等の反応膜、合金膜、また、それらの積層膜等、様々な膜種に対応し、試作・開発・研究などの少量案件から、中小ロットの生産案件まで、幅広いご要望にお応えするべく体制を整えて参りました。 機能性薄膜をご検討の際は、お気軽にお声掛けください！ 柔軟な対応と35年以上の実績をもとに、お客様のご要望にお応えします！ また、本資料では各コーティング法の特徴の他、コーティング事例やパターン形成についても掲載しています。 ご興味のある方は資料をダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによるDLCコーティングです。
半導体フォーミング金型用セルテスDLCコーティングは、PVDとプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新しいDLC（ダイヤモンドライクカーボン）コーティングです。複合多層膜の採用により、従来のDLCと比較して密着力にすぐれ、厚膜（～ 5μm）が可能なため、抜群の耐久性を示します。また超硬合金だけでなく、工具鋼上でも下地強化層の採用により高い面圧に対応できます。DLC コーティングは表面が非常に平滑で硬く摩擦係数が低いため、はんだめっきやアルミ等の軟質金属の凝着を起こしません。このため金型に付着したはんだくずによる不良を飛躍的に低減し、クリーニング頻度の低減により生産性を飛躍的に向上できます。詳しくはカタログをダウンロードしてください。
プラズマCVD法により、複雑形状の製品や内径内面へ密着力の優れたDLCーSi被膜をコーティングできます。
「プラズマCVD NEO-Cコーティング」は、真空中で得られる低柵プラズマを利用して種々の製品にトライボロジー特性に優れたＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）膜を高い密着力でコーティングします。 処理後の製品では、2000Hv前後の高硬度で低摩擦係数な平滑性に優れた高性能表面が得られます。 また、これまでのDLCの弱点だった付き回り性の悪さも大幅に改善し、複雑な形状を持つ金型、機械部品の凹凸面や内径内面の処理にも対応が容易です。 アルミ・銅など非鉄金属やハンダの凝着防止に効果があり、非鉄金属のプレス金型や摺動性の機械部品などのメンテナンス性が大幅に向上するとともに、耐久性も向上させる事ができます。 また、摩擦抵抗の低減や耐焼付き性の改善により加工時の潤滑油や離型剤の使用量を低減できることから、環境調和型の表面改質技術としても注目されています。
当社で行っている「イオン源蒸着」「PCVD」「FAD」について説明いたします！
DLCの成膜には、PVD(物理蒸着)や、CVD(化学蒸着)などの技術が用いられます。 イオン源蒸着は、フィラメントを加熱し、熱電子により炭化水素ガスを イオン化させ、電位差をつけた処理物に衝突させてコーティングする、 PVDの一種です。 PCVD(プラズマ化学蒸着)は、プラズマ領域でイオン化させた炭化水素ガス を、電位差をつけた処理物に衝突させて、コーティングします。 FAD(フィルタードアーク蒸着)は、磁場によるフィルターでイオン化 されたカーボンのみを処理物に引き込み、成膜します。 【当社で行っている成膜方法】 ■イオン源蒸着 ■PCVD(プラズマ化学蒸着) ■FAD(フィルタードアーク蒸着) ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を利用！光CVD法の製膜速度についてご紹介
金属や高分子材料の表面に薄膜を製膜することにより、材料表面の 機械的性質、熱的性質、化学的性質、電気的性質をコントロールする ことができます。 この表面改質に用いる薄膜の製膜方法には、真空蒸着法やPVD法、 プラズマCVD法など、様々な方法を採用。今後とも新たな製膜方法の 探索や開発が続けられていくものと考えられます。 そこで当資料では、「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を 利用した薄膜製造プロセスの可能性について、検討を行った結果を ご紹介しております。 【掲載内容】 ■はじめに ■「高出力型のキセノン・エキシマ・ランプ」を用いた光CVD法の製膜速度 ■おわりに ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、単層又は多層コーティングし、得られた高硬度、高密着セラミック膜により素材の性能を向上
CVDコーティングとは CVD(Chemical Vapor Deposition)コーティングは化学的な成膜方式で、 大気圧～中真空（100～10-1Pa）の状態において、 ガス状の気体原料を送り込み、 熱、プラズマ、光などのエネルギーを与えて化学反応を励起・促進して薄膜や微粒子を合成し、 基材・基板の表面に吸着・堆積させ処理物表面に超硬質のセラミック化合物を化学的にコーティングさせる方法です。 熱化学蒸着法により各種機能性セラミック膜を、高温度（900～1100℃）で単層又は多層コーティングし、 得られた高硬度、高密着力セラミック膜により素材の性能を飛躍的に向上させます。 CVDコーティングの機能 すべり性／耐薬品性／耐熱性／ 撥水・撥油性／親水性／耐摩耗性／ 電気特性／寸法安定性
金型標準部品コーティングの各プロセスの特長などをご紹介！
『金型標準部品コーティング』では、 コーティングの特性や概要などについて ご紹介しています。 CVD（化学蒸着）プロセスは、 1000℃の高温雰囲気中にガスを充満し 化学反応させるため、品物全周に均一にコーティングされるので、 複雑形状品にも適用可能です。 PVD（物理蒸着）プロセスは、プラズマエネルギーを利用して 200 ～ 500℃の 低い温度でコーティングするので、基本的には変寸・変形がなく精度の 厳しい品物に適しています。 【特長（CVD法）】 ■ガスによる化学反応で蒸着する為、 形状による膜厚や着き廻りのバラツキが少ない ■膜厚はPVDの倍以上で密着力も高いため重プレス加工に適している ■装置も大きいので大物も処理可能であり価格もPVDに比べると安価 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立が可能。様々な研究用途に対応可能な小型薄膜実験装置。
【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロセス実験への応用が可能になります。 MiniLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ（MiniLab-026）：590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ（MiniLab-060）：1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ（MiniLab-125）：1770(W) x 755(D)mm 【優れた操作性・直観的操作画面】 Windows PC、または７”タッチパネル。熟練度を問わない簡単操作、且つ安全に最大限配慮しております。
印刷ロール、搬送ロールなど中心に、小物から大型（φ1000mmx4000mm、2.7ton）までDLCコーティングします。
印刷ロール、搬送ロールなど中心に、小物から大型（φ1000mmx4000mm、2.7ton）までDLCコーティングします。
電子顕微鏡観察のお悩みを解決！チャージアップ防止、粒状性・熱ダメージ軽減に絶大な効果を発揮
『オスミウム・プラズマコーター』は、「直流グロー放電による 負グロー相領域内でのプラズマ製膜法」を用いた電子顕微鏡試料用の 導電性薄膜作製装置です。 プラズマCVD法により、非晶質のオスミウム導電性薄膜(オスミウムコート)を 短時間に形成することができます。 非常に強固かつなめらかな表面の導電性薄膜が試料に対し熱ダメージを 与えることなく得られます。 【特長】 ■フルオート操作 ■オスミウム昇華室/ナフタレン昇華室の着脱が可能 ■オスミウム/ナフタレンの残量確認が可能 ■製膜時間が短い（数nm/数秒） ■アンプルは昇華室の中で割る安全構造 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
従来よりも密着力・耐摩耗性に優れる複合多層DLCコーティングが登場！摺動部品・精密金型・治工具の寿命向上に！
セルテスDLCは、プラズマブースタースパッタリング（PBS)とプラズマCVDのハイブリッドプロセスによる新世代複合多層DLCコーティングです。新プラズマ源の採用により、これまでより低温（180℃以下）で成膜でき、金型・部品の耐久寿命も従来DLCと比較して飛躍的に向上します。 高密着力の3〜5ミクロンDLC被膜により、これまで密着力不足で適用できなかった高面圧で使用される工具鋼金型やSUJ・SCM鋼部品にも適用できます。 【特長】 ■ファビリ（ファレックス）焼付き試験では、無潤滑下では2000kgfまで、 潤滑下では2500kgf以上の焼付き限界荷重を達成しました。 ■他社の複合多層DLCと比較してファビリ試験後の被膜の損傷がもっとも 軽微で、母材が赤熱して塑性流動を起こしても剥離しません。 ※詳細は資料請求して頂くか、ダウンロードからPDFデータをご覧下さい。
特殊イオン源を使用した装置で高耐久性ICFを成膜させ、高面圧下で使用しても剥離せず、高寿命化を達成した新機能被膜！
圧粉成形離型コーティングとは、従来面圧が高いと剥離していたDLC膜と比較して、高面圧下で使用しても剥離せず、高寿命化を達成した新機能被膜です。 圧粉成形加工時に上下杵への粉付着を防止し、鏡面性を維持します。この被膜は高面圧化での摩擦係数が低く、バインダーを含む粉末が杵へ付着することを防ぎます。 高い荷重が加わっても、剥離しににく、耐久性と耐摩耗性に優れており、密着力も高く安定した性能を発揮いたします。 より詳しい情報はお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードして下さい。
金属、樹脂、ゴムなどの長寿命化や耐久性向上を検討の方へ。DLCの特徴や製法を紹介
当社では、印刷用ロール製造のノウハウや設備を用いたDLCコーティングを行っています。 100℃程度の低温での成膜も行え、金属製の部品等のほか樹脂やゴムの 表面処理も可能です。耐摩耗性、摺動性、耐薬品性、耐食性、 ガスバリア性の向上に貢献。生体適合性にも優れています。 本資料では、「DLCコーティング」の特徴や製法について、 初めての方にもわかりやすくまとめて紹介しています。 【掲載内容】 ■DLCとは ■DLCの特徴 ■DLCの製法 ■DLCの分類 ■DLCの計測 ■Think LaboratoryのDLC ※PDFダウンロードよりご覧いただけます。お問い合わせもお気軽にどうぞ。
