更新日： 集計期間:2025年03月26日～2025年04月22日
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目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。
『研究開発用真空蒸着装置』は、 大学・公的研究機関や基礎実験用に適した小型蒸着装置シリーズです。 コンパクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型と全手動で抵抗加熱源を 基本構成とした簡易実験型の2機種をラインアップしています。 両機種（前扉型・簡易実験型）とも目的・コストに合わせて柔軟な 仕様対応が可能。デモ機を常設し、サンプルテスト対応いたします。 【特長】 ■実績豊富なハードと柔軟なコスト対応 ■目的に合わせた豊富なオプション機構(高温加熱・基板冷却・多元同時蒸着・ 有機物用蒸発源 リフトオフプロセス対応） ■プラズマ電極・RFコイルなどのイオン化機構・プラズマ電極追加対応 ■サンプルテストからハードのカスタマイズ、納入後のフォローまで 一貫した顧客対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形成可能
『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの 電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。 ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に 豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を 実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。 量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。 【特長】 ■信頼性の高い基本構成 ■豊富なオプション機構 ・蒸発源、多連式電子銃（10kw）、抵抗加熱蒸発源、多元同時蒸着機構 ・高温加熱（最高550℃）＝3面プラネタリードーム ・基板クリーニング、イオンガン、ＲＦボンバード機構 ・基板ドーム、3面プラネタリードーム、公転ドーム、高温加熱用公転ドーム ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
MAX10V-150Aのパワーと大容量のLN2トラップを備え迅速な試料の作成が可能。小型なので省スペース＆リーズナブルプライス。
容器寸法：φ150×200H、排気系：2インチ拡散ポンプ(LN2付)+ロータリポンプ20L/min。メインバルブには2インチサイズを採用しポンプの排気能力を有効に引き出します 。真空容器の金属部、メインバルブ、3方バルブ、リークバルブはステンレス材を採用しています。
メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上！
本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより 特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。 真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、全て電磁バルブを使用した 全自動排気系。到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入ります。 この他、電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置「マグネトロン スパッター装置」や、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用される 「3KV イオン銃(SIG030)」などをご用意しております。 【特長】 ■真空排気系はTMP80L/secとRP50L/minの組合わせで、 全て電磁バルブを使用した全自動排気系 ■到達圧力は液体窒素トラップ無しで10-5Paに入る ■メタルコーティングやシャドーイングは超微粒子蒸着となり解像度が向上 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を交換・補充可能です！
当社が取り扱う『グローブボックス内収納型真空蒸着装置』をご紹介します。 50×50基板を蒸着可能な小型蒸着ベルジャーを、グローブボックス内に収納。 グローブボックス内でベルジャーを着脱し、基板や蒸着材料を 交換・補充することができます。 【特長】 ■50×50基板を蒸着可能 ■小型蒸着ベルジャーをグローブボックス内に収納 ■グローブボックス内でベルジャーを着脱し、 基板や蒸着材料を交換・補充できる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ容積 400(W)x400(D)x570(H)mm D型ボックスチャンバーで構成されるML-080は、060と同等の構成で更にチャンバーを高くすることによりTS距離調整範囲が長く、大口径基板での蒸着時の膜均一性が向上、真空蒸着に最適なモデルです。ロードロック機構も追加できるML-060の上位機種。060同様に、コンパクトながら抵抗加熱蒸着（金属/絶縁物/有機材料） EB蒸着 RF/DC/PulseDC兼用マグネトロン式スパッタ RIEプラズマエッチング CVD アニールなどの幅広い目的に対応。 ・最大基板サイズ：Φ10inch ・抵抗加熱蒸着源 x 最大4源 ・有機蒸着源 x 最大4源 ・マグネトロンスパッタリングカソード x 4源 ・電子ビーム蒸着 ・基板加熱ステージ（標準500℃ Max1000℃） ・*プラズマエッチング/<30Wソフトエッチング ・CVD（熱CVD PECVD） *プラズマエッチングはメインチャンバー、ロードロックチャンバーいずれも設置可能
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570mmトールチャンバー採用 蒸着時の均一性向上に寄与
80ℓ大容積MiniLab-080チャンバーをグローブボックスベンチ内に収納可能な構造にしたMiniLab-080のグローブボックスモデル。作業ベンチを最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール
小型ロールコーターで経営革新計画が承認されました
真空蒸着装置のことなら株式会社富士アールアンドディーにおまかせください。 詳しくはお問い合せください。
TEM･SEM･EPMA 用前処理装置/薄膜･電極膜作製装置としてお使いいただける真空蒸着装置
ラボテック株式会社 の『LA-V5050』は、スタンダード抵抗加熱式真空蒸着装置です。 デスクトップ型低価格ターボ式真空蒸着装置、操作性重視のコンセプト設計製品です。 スピーディーに高真空状態が可能で TEM・SEM・EPMA用の前処理作製が可能です。 また、カートリッジホルダの選択で薄膜デバイス/電極膜作製装置として使用可能です。 【特長】 ■デスクトップ型 ■操作性重視 ■スピーディー ※詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。
クリーンな成膜が可能な小型真空蒸着装置！シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着ができます！
『HVE-100』は省スペースな小型蒸着装置です。基板成膜面は下向きで 設置、抵抗加熱源からの蒸発で上向きに成膜する配置（デポアップ）です。 シャッタを具備しているので安定した状態で蒸着が可能です。 【特長】 ■高真空排気系：<10^-4Paの到達真空度でクリーンな成膜が可能 ■チャンバはメンテナンスしやすいようにSUS製で内部に防着板を配置 ■省スペース/小型化：W500×D395mmサイズで卓上型 ■お手持ちの排気系、膜厚計を取付可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
有機ＥＬ真空蒸着装置
マスクアライメントは機構は、微動-ピエゾＸＹテーブル、粗動-ステッピングモーターＸＹΘテーブルを使用したナノオーダーのアライメント制度が得られます。
高周波・通信デバイスに多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です
『リフトオフプロセス対応真空蒸着装置』は、 化合物半導体やSAWデバイスなど光デバイスや高周波・通信デバイスに 多用されるリフトプロセスに対応した専用蒸着装置です。 蒸発源に電子銃と抵抗加熱電極を装備しており、高融電極膜や貴金属を含む 厚膜の形成が可能。 基板への蒸発粒子の入射角の垂直性に優れており、成膜時の基板の温度上昇を 防ぐ各種機構（基板水冷機構、電子銃用反射電子トラップ、輻射光防止対策） により低温蒸着が可能です。 【特長】 ■蒸着粒子の基板への入射角の垂直性（90°±3°at6インチウェハ） ■基板水冷機構による低温蒸着（70℃以下＝実績値） ■大口径排気系による高速排気とクリーンなバックグラウンドによる緻密な膜質 ■豊富なオプション類による柔軟なハード＆ソフト対応（枚葉式＝CtoC化 ロードロック化 複合プロセス化＝ロードロック化＋他プロセス室接合） ■デモ機を常設し、サンプルテスト対応可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
簡単操作のTMP排気システム採用！拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸着装置
「SVC-700TMSG/7PS80」は、TMP＋RP型の抵抗加熱式真空蒸着装置です。コンパクトさと使い勝手の良さにこだわった装置です。 排気装置「SVC-700TMSG」と蒸着電源「SVC-7PS80」から構成されています。 シンプルかつイージーオペレーションで、将来の機能拡張までをも考慮しています 豊富なオプションにより、薄膜作製実験の幅が拡がります。 また、専用オプションにより、有機物の薄膜作製実験にも対応。 グローブボックス内設置に関するご相談も承ります(実績多数)。 【特長】 ○コンパクトサイズ ○拡張性に優れたテーブルトップ型真空蒸着装置 ○簡単操作のTMP排気システム採用 ○豊富なオプション ○グローブボックス内への設置も対応可能
360度回転／傾斜可能な試料ホルダ搭載で生産性が4倍に
基板状の試料表面に各種金属薄膜を成膜し、膜厚が正確に制御でき真空蒸着装置です。 膜厚依存性や蒸発レート依存性を調べるのに非常に便利な機能
粒状や粉末タイプの試料表面に各種金属薄膜をコートするための真空蒸着装置です。
蒸発源を上方から下向きに蒸発させることを可能にすることにより、固定できない粒子状試料への蒸着を可能にしました。
