電気炉の製品一覧
- 分類：電気炉
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- オシロスコープ
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
- リチウムイオン電池
- 2次電池・バッテリー
- 電気炉
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
《OCT搭載加熱観察イメージ炉》世界的な研究に貢献！高温下で内部構造の変化を直接観察
「OCT搭載加熱観察イメージ炉」は、集光加熱方式を利用したコンパクトな設計で、OCT（光コヒーレンストモグラフィー）を搭載した、内部観察装置です。この装置を利用し、横浜国立大学と神奈川県立産業技術総合研究所の研究グループは、高温で焼結中のセラミックスの内部構造変化を、世界で初めて直接観察することに成功しました。 詳細はカタログをご覧ください。 ご不明点やご相談等ございましたら、お気軽にお問い合わせください。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- アニール炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉（カーボン炉、タングステンメタル炉） 小型・省スペース実験炉
- 加熱装置
- アニール炉
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
卓上小型サイズ実験炉・省スペース 最高使用温度2000℃！ 還元雰囲気用メタル炉も製作致します。
- 加熱装置
- 電気炉
- その他ヒータ
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システムの開発・設計技術を提供します。
- 工業炉
- 電気炉
- 半導体検査/試験装置
さまざまな乾燥のニーズで一貫したパフォーマンスをご提供！
- 加熱装置
- 乾燥機器
- 電気炉
燃料不要電気のみ、月額約10万円、有害ガス排出無し、産廃費大幅削減、プラスチック等有機ごみ磁力熱分解処理装置SWP-120
- 食品環境衛生/汚染防止装置
- 焼却炉・焼却装置
- 電気炉
焼却灰回収用耐熱バキュームクリーナー/掃除機
面倒な焼却炉の灰掻き出し作業を、耐熱ホース、耐熱フィルター、耐熱手袋付き 強力真空クリーナーが解決！次の焼却作業を早く開始したい方に最適 ホースとフィルターを交換すると、湿ったものにも使用可能 1．従来の面倒な作業を耐熱ホース、耐熱フィルターが付いた強力真空クリーナーで解決。 2．中間タンクを使用して、掃除機本体への直接吸引を避け、故障を防ぐ 3．タンクサイズは例として60リットル等。ドラム缶を使う事も可能。大きすぎると重くなります。 4．灰や残渣は約100℃を上限として、それ以下の温度でお使い下さい。 5．一般的な粉も使用可能。例：きな粉、抹茶、小麦粉、トナー、顔料、セメント、油混じりの金属切削屑、ペレット等 6．本体は乾湿両用のため、乾いたものだけではなく、湿ったものにもお使い頂けます。 例：食用油、、洗浄水、くずれた豆腐、卵の殻、割れたアメ、オカキの屑、ミンチ肉、コーヒー豆の搾りかす、汚泥等
Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板対応、 高真空アニール装置（<5 × 10-7 mbar）
- アニール炉
- 加熱装置
- 電気炉
4元マルチスパッタ装置 【MiniLab-S070】
Φ2inchカソード x 4搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF150W or DC780W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF150W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャンバー） 基板加熱：Max500℃, 800℃, 又は1000℃（C/C、又はSiCコート） 基板回転・上下昇降（ステッピングモーター自動制御） APC自動制御：アップストリーム（MFC流量調整）又はダウンストリーム（排気側バルブ自動開度調整） デポレート・膜厚レート制御 寸法：1,120(W) x 800(D) ●抵抗加熱蒸着・有機材料蒸着・EB蒸着・PECVDなどの混在仕様も構成可能です。
