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１００万回繰り返しても壊れない！確実動作と高耐久性・低価格のマットスイッチ。工作機械のオプションなどにも。納期ご相談ください。

センサ

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直径３０ｍｍ程度～8インチまで対応可能　高抵抗FZウエハ

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株式会社エナテック東京本社

直径３０ｍｍ程度から8インチ、高ライフタイム、１万オームを超えるような高抵抗も対応可能！薄化、チップ加工もアレンジいたします！

その他半導体
加工受託
ウエハー

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リポソームの粒子径とゼータ電位評価　

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの評価

分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

分光干渉式ウェーハ膜厚計 SF-3　　

各種ウェーハの厚み測定や、各種研削・研磨・貼り合わせなどへのプロセスへの組み込みに！　

膜厚計

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鉄材製品

株式会社富士精密

鉄材の切削加工になります。

旋盤

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リタデーション測定装置 RETS-100nx　

独自の分光器だからできるリタデーションの高精度測定！

その他計測・測定機器

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インライン反射率評価システム　MCPD Series　

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で反射率、色などの測定が可能

分光分析装置

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インライン膜厚評価システム　MCPD Series　　

光干渉法の採用により、非接触・非破壊膜厚で膜厚測定が可能

分光分析装置

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ロードポート対応膜厚測定システム　GS-300　

半導体工場の膜厚ニーズに合わせたインテグレーションが可能！

半導体検査/試験装置
膜厚計

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インライン透過率評価システム　MCPD Series　　

インラインフィルム評価システムは、光学式のため非接触・非破壊で透過率、吸光度、色などの測定が可能

分光分析装置

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分光配光測定システム　Gp series

光源や照明器具の配光特性を測定する装置です　

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生体適合性エンジニアリングプラスチックシリーズ

三菱ケミカルアドバンスドマテリアルズ株式会社

トレーサビリティ管理がされているので安心して使用可能！プラスチックシリーズ

プラスチック

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ラインスキャン膜厚計　オフライン（ウェーハ対応タイプ）　

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面検査を実現！

膜厚計

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ラインスキャン膜厚計　オフラインタイプ　

全面を高速かつ高精度に膜厚測定可能！

膜厚計

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ラインスキャン膜厚計　インラインタイプ　

ラインスキャン方式の採用で「抜け」のない全面フィルム検査を実現！

膜厚計

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マルチチャンネル分光器 MCPD series　　

広ダイナミックレンジ！高速・高再現性、軽量・コンパクトが特長的　

分光分析装置

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光波動場三次元顕微鏡　MINUK　

nmオーダーの透明な異物・欠陥の評価が可能！フォーカス不要で高速測定　目視では見えないフィルム表面を可視化・定量化

光学顕微鏡

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顕微分光膜厚計　傾斜モデルを用いたITOの構造解析

傾斜モデルを用いたITOの構造解析

膜厚計
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光学測定器

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顕微分光膜厚計による透明基板上の高精度膜厚測定

反射対物レンズが実現する透明基板の高精度測定

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顕微分光膜厚計　複雑な形状のある任意ポイントの測定

さまざまな用途のDLCコーティング厚みの測定

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顕微分光膜厚計　反射率の変化と膜厚の関係

薄膜から厚膜まで高精度に測定が可能な顕微分光膜厚計『OPTM』

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リタデーション測定装置による超高リタデーション測定　

超複屈折フィルムを高速・高精度に測定できる

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顕微分光膜厚計 nk 未知の極薄膜の測定

複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定

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アルミ製品

株式会社富士精密

アルミ材の切削加工になります。

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顕微分光膜厚計を用いたSiO2 SiNの膜厚測定

反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定

分析機器・装置

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顕微分光膜厚計　厚膜解析方法

屈折率の波長分散性を考慮した厚膜解析

分析機器・装置

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顕微分光膜厚計の膜厚解析

表面粗さを考慮した膜厚解析

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スライド調整部の固定課題はこれで解決『プッシュクランパー』

株式会社イマオコーポレーション

手間なく（ワンタッチ）・簡単に（工具レス）・誰でも同じ力で強力固定。フラットバーやシャフトなどさまざまな対象物に使用可能！

ブレーキ

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顕微分光膜厚計　ハードコートの膜厚測定　

ハードコートの膜厚測定

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顕微分光膜厚計のメリット

反射分光法と他の測定手法の比較

分析機器・装置

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顕微分光膜厚計の構造解析

傾斜モデルを用いた薄膜の構造解析

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顕微分光膜厚計の測定原理

光干渉法を用いた顕微分光膜厚計（OPTM）の測定原理

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絶対光散乱強度からの粒子濃度測定

粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子濃度測定

その他理化学機器

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多角度測定での動的光散乱測定　

後方・側方・前方の3角度での動的光散乱測定で分離能を向上

その他理化学機器

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『レーザー溶接用マイクロワイヤー』

テラスレーザー株式会社

毎日使うものだから、よいものを少しでも安く提供したい

鉄鋼

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多検体ナノ粒子径測定システムを用いたエマルションの粒子径測定　

O/Wエマルションの粒子径測定

その他計測・記録・測定器

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粒子径・ゼータ電位測定による無機粒子の分散性評価

コロイド分散系における無機粒子のｐHタイトレーションによる等電点の評価

分析機器・装置

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プリンター用インクのゼータ電位・粒子径測定　

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

高濃度試料のゼータ電位・粒子径測定による分散安定性評価

その他理化学機器

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【船舶向け】傾斜計CM-961A

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計で船体の安定をサポート

その他計測・記録・測定器

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プリンター用インクを高濃度状態で粒子径・粒子径分布測定　

株式会社マコメ研究所 (MACOME) 本社・伊那工場

有機顔料の分散性を高濃度状態で評価

分析機器・装置

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【土木向け】傾斜計CM-961A：地盤の安定監視に

MEMS加速度計搭載、IP67の傾斜計。地盤監視の安全性を向上。

その他計測・記録・測定器

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ゼータ電位・粒度分布測定　コロイド粒子のｐH依存性評価

ゼータ電位・粒子径・分子量測定システムを用いたDDSナノ材料リポソームの等電点評価

分析機器・装置

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粒子径・粒子径分布測定装置　リポソームの粒子径評価　

粒子径測定装置を用いた種類の異なるリポソームの粒子径評価

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ELSZneoを用いた固体表面ゼータ電位測定　

研磨パッドの表面ゼータ電位測定

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

砥粒の異なるCMPスラリーの分散性評価　

CMPスラリーの等電点測定から分散性を評価

その他理化学機器
分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

CMPスラリーの塩濃度によるゼータ電位の制御　

ゼータ電位測定でCMPスラリーの分散・安定性を評価

その他理化学機器
分析機器・装置

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【2026年12月9日(水)～11日(金)】「SEMICON Japan」出展のお知らせ

当社は、東京ビッグサイトで開催される「SEMICON Japan」に出展いたします。半導体製造プロセスからアプリケーションまでを網羅し、先進技術を体験できます。大塚電子では、ラインスキャンのモックアップ、スマート膜厚計などを展示予定。ぜひ当社ブースにて実機をお近くでご覧ください。皆様のご来場をお待ちしております。

固体表面のゼータ電位測定　