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裏面アライメントがないので低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に最適な装置を実現しました。
『AMA6000』は、自動一括等倍露光マスクアライメント装置です。 ASAPのマスクアライナーはマスクと完全非接触でウェハとのギャップ管理を行います。 非接触もできますが、ソフト、ハードコンタクトにも対応。 低価格、コンパクト、簡単操作を実現しました。 【特長】 ■完全非接触での平行出し&露光 ■省スペース&簡単メンテナンス ■オートアライメント ■低価格、コンパクトを実現し、多品種少量生産に好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ESシリーズのローコスト片面アライナー
お客様の仕様やご予算にあわせて最適なマスクアライナーをビルドアップ。各種ユニットやオプションの中から必要なものだけを選択することで無駄なコストを抑えた使い易い装置が構成できます。ご要望を伺い、最適な仕様をご提案致します。 またほとんどのユニットが後から追加・交換できますので将来のグレードアップや初期導入コスト削減も可能です。2タイプのUV光源装置から選択できます。（露光サイズ各種）φ1～4インチ試料対応（角形試料等カスタム形状にも対応）し、□2～5インチマスク対応です。また、CCDカメラ、実体、接眼タイプ等各種観察顕微鏡から選択できます。コンパクトでローコストです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ローコストでフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナー
実験・研究用マスクアライナー ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
コンパクト微細露光スタンダード機。4/6/8インチ標準マスクアライナー
高性能マスクアライナー LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動＋ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光。セミオート動作で中ロット生産に対応！
両面同時露光マスクアライナー BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応
両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載（オプション） 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。
両面アライメントと、プロキシミティおよびソフトコンタクト露光が可能
ウェハ、ガラス基板などのフォトリソ工程において、ガラスマスクとワークをアライメントし、板上にコーティングされたフォトレジストに、微細なマスクパターンを転写するマスクアライナーです。
制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。
100mm～200mm対応光学式アライナ SAL4484シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。シリコンウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。制御方式は、RS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
小径ウェーハ対応で省フットプリント化を実現しました。
50mm～100mm対応アライナ SAL2241シリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。小径ウェーハ対応で省フットプリント化を実現しました。小径ウェーハのセンタリングとオリフラ・ノッチを高速、高精度に位置決めします。スピンドル側に0.1μmのフィルターを装備しています。制御方式はRS232C及びパラレルフォトI/Oです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
2インチ 3インチ 100～150mmウェーハのアライメントが可能です
光学式アライナ SAL3261GRシリーズは、半導体製造装置内、検査装置等のウェーハの位置決めを必要とする搬送に対応しております。2インチ 3インチ 100～150mmウェーハのアライメントが可能です。ウェーハ端面を検出するタイプのセンサを搭載し、シリコン、透明、半透明ガラス、ガリ砒素、サファイヤウェーハ等のアライメントが可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
真空環境下におけるサセプタをグリップ方式で高速、高精度に位置決めが可能
342mmサセプタ対応真空アライナ SVAL30D1シリーズは、真空環境下におけるサセプタ（化合物半導体、シリコンウエハ等）をグリップ方式で高速、高精度に位置決めを可能にしました。位置決め用センサを真空環境下に配置することで、本気単体のみの設置だけで完了し、装置設計の自由度もUPします。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。
【300mmウエハ用】ウエハ裏面に接触しないエッジグリップタイプのアライナ
■３本爪可動によるエッジグリップ方式で高精度なセンタリング ■オプションのバッファポートにより、アライメント中のロボット待ち時間を最小化 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
0.6umの微細描画が可能な高速マスクレスアライナー
マスクレスアライナー MLA150は、マスク不要の非接触レーザー露光装置です。卓越した使いやすさ、および高速性により、ラピッドプロトタイピング、少量から中量生産、および研究開発環境における理想的なレーザー直接描画方式の、マスクレス露光装置です。 2015年に初めてマスクレスアライナーシリーズが発表されて以来、革新的で最先端のマスクレステクノロジーが確立されました。MLA150は従来のマスクアライナーに代わる製品として位置づけられており、出荷台数は130台を超えています。
テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー
テーブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA（マイクロ・エム・エル・エー）はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最新式のマスクレス露光装置です。
プロダクション向け高性能マスクレスアライナー
MLA300は、研究開発アプリケーション、ラピッドプロトタイピング、および少量から中量生産の領域では既に標準となっているマスクレスアライナーの工業生産バージョンです。MLA300は、生産工場で期待される高スループットと高可用性を維持しながら、2 µmのラインアンドスペースの高解像度を実現します。 ワークフローを簡素化するための自動化に対応するために、ウェーハロボットとロードポート、および生産環境用に特別に設計されたソフトウェアを備えています。
