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ハンディータイプ初の蛍光特性の数値化が可能。また色評価で重要な光沢計も搭載し、一台で色・光沢・蛍光の管理が可能。
ドイツ製BYK-Gardner社製分光測色計・色彩色差計。 spectro 2 guide(分光測色計・色彩色差計)は、色彩測色計と蛍光性、そして光沢度計を組み合わせたトータルソリューションをする測定器です。ハイパフォーマンスに総合的な色管理が可能でありながら、操作はシンプルさを追求し3.5インチタッチカラーディスプレイを搭載。 ディスプレイに映し出したライブビュー映像で、ピンポイントの測定が可能。それは色を触っているかのような新しい操作感覚です。
エラストマー材料の耐久性の重要な指標の一つ！へたり具合の指標となる圧縮永久ひずみ
株式会社ロンビックにて承る「圧縮永久ひずみ測定」について、 ご紹介いたします。 サンプル(ゴム、エラストマー)を取り付けたままオーブンや恒温恒湿槽に 入れる事もできるため、使用環境に合わせた温度条件下での圧縮永久 ひずみ測定も可能。 当社では圧縮永久ひずみの測定と併せて、TEMやSEMによる形態観察で モルフォロジーの違いも観察できます。 【測定条件】 ■対応規格：JIS K 6262 ■圧縮率：10％,15％,25％ ※IRHDにより決定する ■試験片 ・大形試験片：直径29.0±0.5mm 厚み12.5±0.5mm ・小形試験片：直径13.0±0.5mm 厚み6.3±0.5mm ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
熱可塑性エラストマー材料成形時の成形指標となる流動特性が取得できます!
当社で保有している「粘弾性測定装置」についてご紹介いたします。 トルク範囲は0.02uNm～200mNmで、歪み速度範囲は0.001～1000S-1。 温度範囲は-150℃～400℃です。 液体から固体まで幅広いレオロジー測定が可能。動的粘弾性、定常流粘度、 応力緩和、クリープ、固体ねじり、フィルム引張、伸長粘度といった 測定モードが備わっています。 【装置仕様】 ■装置名：MCR301(Anton Paar社製) ■トルク範囲：0.02uNm～200mNm ■歪み速度範囲：0.001～1000S-1 ■温度範囲：-150℃～400℃ ■試料量：10g～50g ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
硬度の3つの主な定義と、主要な標準試験方法を紹介。
「硬度」は、通常は別の物体が貫通することによって塑性変形に抵抗する材料の 特性です。 曲げ、引っかき傷、摩耗または切断に対する剛性、質感または耐性を指す場合も あります。 硬度値を得るための通常の方法は、窪みの深さまたは面積を測定することです。 特定の材料の硬さには窪みの大きさまたは跳ね返りの速度との間の関係を表す いくつかの主要な標準試験方法があり、Vickers、Rockwell、Brinel、Leebは 一般的なスケールです。 【硬度の3つの主な定義】 ■スクラッチ硬度 鋭い物体に起因する破損または塑性(永久)変形に対する耐性 ■押し込み硬度 鋭利な物体によるプラスチック(永久)変形に対する耐性 ■リバウンド段度 弾性に関連して、材料上に落下した物体のバウンドの高さまたは速度 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
ゼータ電位からCMPスラリーとウェーハの静電相互作用を評価
半導体における洗浄プロセスでは、CMPスラリーより表面に吸着するパーティクルや金属不純物、有機物の物理的もしくは、化学的洗浄が行われます。物理洗浄によってパーティクルを剥離した後に洗浄後の再付着を防止することが必要となります。これらの研磨および洗浄条件の検討では、CMPスラリーおよびウェーハのゼータ電位を測定し、スラリーとウェーハの静電相互作用を評価することが有効です。 今回は、スラリーとウェーハそれぞれのpHタイトレーションを行い、ゼータ電位測定をおこないました。 CMPスラリーとウェーハの静電相互作用の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
研磨パッドの表面ゼータ電位測定
半導体ウェーハの研磨工程におけるCMPスラリーは、ウェーハ、スラリー、研磨パッドの組み合わせとして使用されパッド表面の粗さによってスラリーを保持し、ウェーハ表面の被膜が研磨されます。パッド表面の目詰まりは、スクラッチなどの欠陥に寄与し、パッド表面の特性は、研磨性能に寄与すると考えられています。そこで研磨パッドおよびスラリーのゼータ電位を測定し、静電相互作用や吸着特性を検討することは有効であると考えられます。 今回、発泡ポリウレタンの研磨パッドを測定サンプルとし、各pHにおける表面ゼータ電位を行いました。 研磨パッドの表面ゼータ電位測定の詳細については、カタログダウンロードより技術資料をダウンロードをしてください。
反射分光膜厚計『OPTM』を用いた絶縁膜の膜厚測定
半導体トランジスタは電流の通電状態を制御することで信号を伝達していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。 絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。 SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。 このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測定する必要があります。
高濃度試料のゼータ電位・粒子径測定による分散安定性評価
一般に市販されているプリンター用インクは、分散安定性を向上させるために、少量の分散剤が添加されています。これらインクの分散性を評価するために、ゼータ電位や粒子径測定が行なわれています。しかし、今までは溶媒のみで希釈して測定されていました。このような処理では添加剤濃度が薄まり、本来の特性から異なる評価がされてしまうことが考えられます。この問題を解決するために、超遠心分離機で分離させた上澄み液を希釈溶媒として使用し添加剤濃度が変わらない状態でゼータ電位および粒子径測定を試みました。
複数点同一解析を用いた nk 未知の極薄膜の測定
従来法では困難であった極薄膜領域下(100nm以下)でのnk解析ですが、複数点解析機能により、精度良くnk解析が可能です。（特許取得済 第5721586号） 最小二乗法でフィッティングをして膜厚値（ｄ）を解析するには材料のnkが必要です。nkが未知の場合、d とnkの両方を可変パラメータとして解析します。 しかしながら、ｄ が100nm以下の極薄膜の場合、ｄ とnkとを分離することができず、そのため精度が低下して正確な ｄ が求められないことがあります。 このような場合、ｄ の異なるサンプルを複数測定し、nkが同一であると仮定して同時解析（複数点同一解析）をします。これにより精度よくnkを求め、正確な ｄ を求めることが可能です。
超複屈折フィルムを高速・高精度に測定できる
超複屈折フィルムなど、従来方式では10,000nｍ程度までしか測定できなかったが、高精度多波長測定および独自のアルゴリズムにより60,000nmまで測定可能。また、多波長をワンショットで測定できるため約１秒で測定可能。
O/Wエマルションの粒子径測定
水の中に油が分散するものをO/W(Oil-in-water)エマルション、油の中に水が分散するものをW/O(Water-in-oil)エマルションと区分されます。これらエマルションは、食品、化粧品、塗料、医薬品などで用いられています。その粒子径および分散性は、製品の機能性や安定性を決める因子として重要です。今回、エマルションの測定例として、0.1wt%のドデシル硫酸ナトリウム(SDS)を用いて大豆油を0.01vol%に調製したものを溶媒とし、超音波ホモジナイザーを用いてO/Wエマルションを作成し超音波処理時間を0.5 ～ 10分間と変化させ粒子径測定を行いました。超音波処理時間が。2 ～10分では、処理時間が増えるごとに平均粒子径および多分散指数が減少しています。このことから長時間超音波処理を行うことでより微細で単分散なエマルションとなっていることが分かります。このように粒子径測定を行うことで作成したエマルションが目的の粒子径であるかの確認や分散性の評価が可能です。
粒子径が異なるポリスチレンラテックスの粒子濃度測定
光の波長より十分に小さい粒子によって散乱される光はレイリー散乱と言われており、この領域の大きさのサンプルの絶対散乱光強度を単一粒子からの散乱光強度で除算することで、粒子濃度が算出されます。 今回、粒子径の異なるポリスチレンラテックス（28nm ～ 2900nm）分散液の絶対散乱光強度を求め、理論式より粒子濃度の算出を試みました、 レイリー散乱領域を超えた大きさまで粒子濃度の評価可能であることがわかりました。また、1μｍ以上になると測定値から乖離する結果となっています。
シャンプー、リンス、はちみつのpH測定実績あり！pH測定値を報告可能
当社では、洗剤などの界面活性剤、増粘剤を含む粘性液体のpHを pHメーターで測定したいお客様向けのサービス「洗剤等粘性液体の pH測定」をご提供しております。 界面活性剤や増粘剤などを含む洗剤、リンス、クリーム等の pH測定値を報告可能。 また、当社ではシャンプー、リンス、はちみつのpH測定実績や、 市販のアルカリ洗剤・漂白剤・カビ除去洗剤約30製品の20倍希釈液を 一定期間置いた後のpH測定を行った実績があります。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■洗剤、リンス、クリーム等のpH測定値を報告可能 ■粘性液体用pH電極でpH値を測定したいお客様の要望が満たせる ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
トラブル原因の究明および対策を立案し、必要に応じて材料評価試験もご提案します！
当社では、設備管理関連の“原因調査"と研究開発関連の“材料評価"に ついて、フローチャートに基づき腐食解析を行っております。 外観観察にて腐食および損傷の有無を確認し、腐食があれば、 錆や使用している水の成分分析を実施し、腐食原因を特定。 微生物腐食が疑われる場合は、微生物分析も併せて実施します。 損傷の場合は、断面観察と破面観察を実施し、損傷原因を特定します。 【概要】 ■原因調査 ・トラブル原因の究明および対策を立案 ・必要に応じて材料評価試験もご提案 ■材料評価 ・高温・高圧条件や腐食性ガス環境などの過酷な条件下や、ニーズに 合わせて装置や条件をカスタマイズ可能な特殊環境下での評価試験 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。
太陽光発電のPCS（パワーコンディショナー）エラーコードへの対処でお困りでないですか？測定・解析により不具合対応への助言が可能！
『電源品質の測定』は、太陽光発電をはじめとする分散型電源の現地設備で出張測定・現場調査を行い、測定数値や波形データを解析して、不具合の解決に向けた助言を行います。 【パワーコンディショナーのエラーコードへの対処方法を助言】 不具合には様々な原因があります。 ・商用電源の異常のため、パワーコンディショナが運転を停止 ・パワーコンディショナの内部異常のため運転を停止 ・配線工事の施工不良によりパワーコンディショナが運転を停止 エラーコードが表示されているが、原因が特定できなくてお困りの場合、弊社では様々な不具合事例に対して解決策を助言することが可能です。 <特長> ・テスターでの測定や絶縁抵抗の測定では原因特定できないケースが対象 ・PCSのエラー停止や漏電遮断器の誤動作による停止など不具合に対する助言 ・PCSのエラーコードに対する対処へのアドバイス ・太陽光発電が発電していない等への解決策を助言 詳しくはPDFをダウンロードしてパンフレットをご覧ください。 会社HPからもお気軽にお問い合わせください。（登録不要）
