更新日： 集計期間:2025年10月08日～2025年11月04日
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様々な加熱、硬化、乾燥を小型・低価格で対応！PTFEコーティングメッシュベルト採用
当社で取り扱う「卓上乾燥炉」をご紹介いたします。 小型・低価格で様々な加熱、硬化、乾燥に対応。卓上式なので 自由にインライン化が可能。 コンベア流れ方向が選択できます。高精度PID制御方式により 信頼性の高い温度制御、温度分布が可能です。 【特長】 ■即熱式 遠赤外線ヒータ QUTヒータ採用で、素早い昇温を実現 ■PTFEコーティングメッシュベルト採用 ■コンベア流れ方向が選択できる ■上下ヒータ式で優れた作業効率を発揮(搬送速度は使用範囲内) ■高精度PID制御方式により信頼性の高い温度制御、温度分布が可能 ※詳しくは関連リンクをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。
最高1100℃が可能！覗き窓付きもあり、熱処理中の炉の中を確認することもできます
卓上式セラミックマッフル炉 Compact Muffle Furnaceのご案内です。
最高で2200℃まで加熱が可能！8、40、100リッターが選べる真空炉・高温熱処理炉
グラファイト、モリブデン、ニ珪化モリブデン発熱体による電気 加熱のチャンバー炉として設計された製品
非鉄金属や特殊合金の溶融に！多様な実験目的に適した卓上型の溶解炉・鋳造炉
非鉄金属と特殊合金の溶融用の特長を数多く備えた、 技術的に比類ない卓上型溶解炉機種
半導体製造工程などで使用する高純度ガスボンベ内に付着している不純物を除去する装置です。
ボンベの内壁に付着している不純物を加熱真空引きにより取り除きます ボンベサイズ、同時処理本数はカスタマイズにて対応します 自動機、手動機など予算に合わせご提案します 【特長】 ■ボンベの均一な加熱が可能です（Max200℃）。炉内温度±約1％ 。 ■ボンベ加熱と同時にボンベの安全弁への冷却も可能です（熱による安全弁の破損防止の為） ※詳しくはPDF（カタログ）をダウンロード頂くか、お気軽にお問い合わせください
赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合わせて製作致します。
「IR-FP Series」は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。
IRシリーズの高温観察炉を利用しデモ≪加熱/雰囲気操作/酸化実験≫金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス等
▼ここがポイント▼ 1.加熱工程での不具合の原因調査・解明のヒントが得られる 2.高温下での素材の反応・挙動等のメカニズム解析に役立てられる 3.急速加熱、急冷など多様な温度コントロール下の変化が確認できる ▮IRシリーズとは？ 近赤外線集光のランプから発せられた赤外線が炉内壁の金メッキにより反射され効率良く炉中央の加熱範囲に集光することで温めることが出来る炉です。(詳細はIRイメージ炉特集ページへ) ▮試験対象例 金属/ろう材/セラミック/はんだ/ガラス 等 ▮実施試験例 加熱/雰囲気操作/酸化実験 等 ▮活用方法例 高温下熱処理/焼成中の挙動の動画確認(顕微鏡レベル) 研究開発、不具合、歩留まり解消に ※加熱のみの試験も承ります※試験片の熱容量によって実験温度は変動します ※サンプルサイズ、試験条件により変動する可能性あります 公式YouTubeチャンネルからは、その他の実験例も掲載中！
グローブボックス内作業を最小に◎固体電解質材料スクリーニング/温度特性別インピーダンス評価◎複数均一・短時間・正確に試験評価
固体電解質の材料スクリーニング、温度特性に応じたインピーダンス評価等に力を発揮します！ ▼特徴▼ 1.無機電解質の加熱・焼結プロセスを短時間で様々な加熱パターン再現 ・50℃~1200℃の温度範囲の中で±1℃の精度で温度調整可能 ・昇温スピードもMAX300℃/minなので、RTからでも、短時間で様々な加熱パターンを試せる 2.リチウムイオン導電率(伝導度)評価のためのインピーダンス測定を複数個同時評価で効率的に ・コインセルの上下に、電極を取り付けた状態で加熱できる構造 ・コインセルホルダは4スロット用意 ・4サンプル同時に同条件で均一に加熱/測定 ・コインセル径はΦ20~Φ8mm各種ご用意 3.簡便な操作かつ、大気非暴露設計/雰囲気制御 ・グローブボックス内での作業はサンプルセットだけ ・石英管の中は、石英製のコインセルホルダが保持され、コインセルだけが正確に加熱される構造 ・完全密閉された透明石英管の中を、光加熱で外から加熱 ・ガス導入系統も加熱中の雰囲気コントロールも容易に 詳細はお問い合わせください
独自の加熱方式により大幅な電力削減が可能です【硬化・乾燥・予備加熱に好適！】※実験、評価などデモ実施も可能
『HAS-1016』は、最小クラスの1ゾーン方式搬送型加熱炉です。 乾燥・硬化・リフロー前の予備過熱など多用途での対応が可能。 恒温槽から入れ替えることにより自動化・省人化・安定化を実現しました。 また、様々な加熱用途に対応でき、実験・評価・研究開発にも適しています。 【特長】 ■乾燥・硬化・リフロー前の予備加熱に好適な1ゾーン加熱炉 ■恒温槽から入れ替えることにより自動化・省人化・安定化を実現 ■独自の加熱方式により大幅な電力削減が可能 ■様々な加熱用途に対応できるので実験・研究開発にも好適 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
熱風循環と遠赤外線併用の加熱方式を採用。省エネタイプの鉛フリー対応機です。
『UNI-6116S』は省エネ、省スペース、クリーンルーム対応、高温対応など、46年にわたり、様々な加熱用途への要求に応え続けてきたアントム社製加熱炉（リフロー炉）のフラグシップモデルです。 【UNI-6116Sにご興味をお持ちの企業様へ】 当社では実機見学を開催しておりますのでご希望の方は事前にご予約をお願いいたします。 また、アントム社製の加熱炉（リフロー炉）についての勉強会などもご要望に応じて開催いたしますのでお気軽にご相談ください。 代理店募集の詳細につきましては別途資料をご用意しておりますので、下記のバナーより資料のダウンロードをお願いいたします。
設置場所を選ばないシングルゾーン搬送式加熱炉！乾燥・硬化はもちろん熱容量の大きなワークや治具の予備加熱炉としても多数の実績あり！
パワー半導体デバイスやモーターコアなど熱容量の大きなワークや治具の場合、 そのままリフロー炉で搬送しても加熱能力不足で未溶融が発生するケースがあります。 そこで本加熱時の加熱能力不足を補うために当社の開発した超小型予備加熱炉「HAS-1016」を リフロー炉の前に設置してワークや治具に予め一定以上の予備加熱をすることで問題を解消します。 これまでの納入実績として、リフローだけでなく、はんだ槽前の予備加熱炉としても使用されており、 本加熱用のリフローやはんだ槽の前に設置する以上、設置スペースに限りがあるため、弊社の小型加熱炉が求められます。
＜研究開発や実験、評価など、非生産用途での大幅にコストを抑えたい＞という要望にお応え！最低限の機能が備わった搬送型卓上リフロー炉
超低価格を実現！ 加熱3ゾーン+250mm幅メッシュ搬送、最低限の機能が備わった 『コンパクト卓上リフロー炉』の販売を開始しました。 【特徴】 ■一般的な鉛フリープロファイルから均一加熱プロファイルまで対応 ■研究開発・実験・試作・評価など非生産用途での使用環境に好適 ■各種カスタマイズ対応はお問い合わせください 価格・納期・プロファイル測定・実機見学・デモ実施などお気軽にお問い合わせください。 ※加熱炉の新規用途も募集中。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、当社までお問い合わせください
セラミックス焼成用連続炉（使用温度1.300℃）
セラミックスの成型品を焼成する為の電気炉で、常用温度1.300℃で使用します。電気炉の入り口に油圧のプッシャ−を搭載しており、一定の時間で商品を電気炉内に押し込みます。電気炉の出口にセンサを組み込んでありますので、商品の取出しタイミングを知らせてくれます。
熱風送風式乾燥炉
熱風送風式乾燥炉は、内槽から分離して設けられた加熱室の熱風を送風機により槽内に送り込む方式です。ヒーターの直接熱による加熱ムラ等が少なく、炉内温度分布精度が±0.5℃位から製作出来ます。（但し、内槽寸法の大小と送風機の風量も関係します）
1200℃から最高3000℃の熱処理炉をご提供！小型から大型まで各種ご用意！
『サーマルテクノロジー社製 超高温研究開発炉』は、 1200℃から最高3000℃の熱処理炉をご用意しています。 炉内が真空、不活性ガス雰囲気および還元雰囲気で使用できる 「ラボマスター」をはじめ、誘導加熱炉内で酸化物の結晶及び 金属の結晶を作る装置「チョコラルスキー型結晶成長システム」などを ラインアップしています。 【特長（ラボマスター）】 ■最高3000℃までの研究開発、小規模生産に適している ■コンポーネントを豊富な品揃えの中から選定 ■使用圧力は高真空から絶対圧2kgf/cm2(0.2MPa)まで様々な状態に対応 ■均熱帯の温度分布は、1750℃にて±3℃と高い精度 ■構造が簡素で取り扱いが簡単 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。
