『MM605』は1/5縮小露光の研究室向け簡易フォトマスク作製機です。 各種半導体・MEMS微小構造物製作のためには欠かせない フォトマスクは、特に大学・研究所において種類豊富に必要となります。 本装置は研究室レベルで簡単にフォトマスクを作製するための装置で、 お手持ちのグラフィックソフトやCADシステム等でプリントした図面を OHPフイルムにコピーしマスク原版として使用します。 特別に設計された光学系でマスク原版を高精度に1/5縮小投影し、 エマルジョンマスクを作るので、今まで外部委託に頼っていた マスク製作をお手元で手軽に安価で作る事ができます。 【特長】 ■縦型デザインで省スペース ■改変の多い研究に最適 ■マスク製作を手元で安価に製作可能　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他医療用品・化粧品製造機械

マイクロコンタクトプリンター『PA400S』は、次世代のデバイス製作手法 として注目を集めるmCP（micro contact printing）法や簡易的な 光ナノインプリント（UV－NIL）法に対応する マイクロコンタクトプリント装置です。 mCP法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野や バイオ用マイクロ構造体などを、PDMSスタンプによるチオールインク転写 によって製作します。 UV－NIL法では超微細マイクロデバイスを石英モールドおよび 光硬化樹脂によって製作します。 インク補充およびプリントプロセスで独立した2基のステーションは 高精度圧力センサおよびZ軸サーボコントロールでコンタクトスピード、 コンタクト圧力、距離、時間をプログラム制御可能です。 またマスクアライナーとしてもご使用頂けますので各種実験・生産に柔軟に対応します。 【特長】 ■コンタクトスピード・コンタクト圧力をプログラム制御可能 ■距離、時間をプログラム制御可能 ■マスクアイライナーとして使用できる　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他医療用品・化粧品製造機械

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。 一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利き、ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。 二次露光以降は片面露光となるので別途「試料台」が必要です。 お気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■最大φ4インチウェハ対応『BS425』 ■最大φ6インチウェハ対応『BS620』 ■コンパクト設計 ■1次露光時はフットスイッチによりセミオート運転が可能 ■手置き式のため規格外形状試料への対応が容易 ■ウェハ位置決めガイド搭載（オプション）　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他半導体製造装置

試料裏面マスクアライメント露光装置『BAシリーズ』は、 従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを 可能にするローコストなマスクアライメント装置です。 本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、 その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンを アライメントして露光できます。 コンパクトなので通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、 各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。 【特長】 ■裏面観察専用の双対物2視野CCD顕微鏡搭載 ■対物レンズ間隔最小16mm ■小型試料のアライメントまで可能 ■裏面アライメントに最適化されたフリーズワイプ処理装置を装備 ■試料アクセスに便利なフロントスライド式高精度アライメントステージ　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他医療用品・化粧品製造機械
• その他 実験用器具・備品

『実験・研究用マスクアライナー『ES410』は、ローコストながら フォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。 ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットや オプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置に セットアップ可能です。 また、ほとんどのユニットが後から追加・変更できるので、 将来のグレードアップにも対応致します。 フルマニュアル機なので各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などに ご使用いただけます。 【特長】 ■ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性 ■各種ユニットやオプションを選択可能 ■目的にフィットした装置にセットアップ可能 ■ほとんどのユニットが後から追加・変更可能 ■将来のグレードアップにも対応　他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。

• その他医療用品・化粧品製造機械
• その他 実験用器具・備品

研究室向け簡易マスク作製機　MM605は1/5縮小露光フォトマスク作製機です。各種半導体・MEMS微小構造物製作のためにはフォトマスクが欠かせません。特に大学・研究所においては多種のマスクが必要となります。本装置は研究室レベルで簡単にフォトマスクを作製するための装置です。お手持ちのグラフィックソフトやCADシステム等でプリントした図面をOHPフイルムにコピーしマスク原版として使用します。 MM605では特別に設計された光学系でマスク原版を高精度に1/5縮小投影し、エマルジョンマスクを作ります。今まで外部委託に頼っていたマスク製作をお手元で手軽に安価で作る事ができます。改変の多い研究には特にお勧めです。デザインも縦型スタイルで設置スペースをとりません。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械

マイクロコンタクトプリンター　PA400Sは、次世代のデバイス製作手法として注目を集めるmCP（micro contact printing）法や簡易的な光ナノインプリント（UV－NIL）法に対応するマイクロコンタクトプリント装置です。mCP法は急速に展開してきた有機エレクトロニクス分野やバイオ用マイクロ構造体などを、PDMSス タンプによるチオールインク転写によって製作します。UV－NIL法では超微細マイクロデバイスを石英モールドおよび光硬化樹脂によって製作します。インク補充およびプリントプロセスで独立した2基のステーションは高精度圧力センサおよびZ軸サーボコントロールでコンタクトスピード、コンタクト圧力、距離、時間を プログラム制御可能です。またマスクアライナーとしてもご使用頂けますので各種実験・生産に柔軟に対応します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械
• 業務用プリンタ

両面同時露光マスクアライナー　BS320は、研究開発から小中ロット製造用として多くの出荷実績がある両面同時露光式マスクアライナーです。一次露光は両面同時、二次露光以降は片面づつ露光する方法を採用するため、シンプルで応用が利くモデルです。各種ニーズに合わせたカスタマイズも承ります。二次露光以降は片面露光となりますので別途「試料台」が必要になります。二次露光以降も両面同時露光可能なBS320uもラインアップしています。セミオート動作で中ロット生産に対応しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

試料裏面マスクアライメント露光装置　BAシリーズは、従来の露光装置では困難であった試料裏面からのアライメントを可能にするローコストなマスクアライメント装置です。通常の片面露光マスクアライナーとしても使用でき、各種MEMSや半導体素子の両面デバイス開発を支援します。本装置では試料の第1面に予め形成されたアライメントマークに対して、その対面（第2面）の指定された位置にマスクパターンをアライメントして露光できます。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

高性能マスクアライナー　LAシリーズは、4/6/8インチ標準マスクアライナーでコンパクトな微細露光のスタンダード機です。半導体素子デバイス等フォトリソグラフィーを必要とする研究分野において、微細度の高いパターン露光ができる露光装置です。専用にデザインされた双対物2視野CCD顕微鏡を搭載し、対物レンズ間隔最小18mmで小型試料のアライメントまで可能です。ワイプ装置による2視野一括モニター表示可能で、Z軸はエアー圧駆動＋ギャップ微調整レバー方式です。ハードコンタクトソフトコンタクト・プロキシミティー露光に対応。平行機構は信頼性の高い球面軸受を採用したコンパクトで高い汎用性です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

試料アライメント仮止め装置　MAシリーズは、表面に微小な構造物のあるフィルム、ガラス、シリコン、金属といった試料2枚を高精度で位置合わせし、密着させる機能を有する試料アライメント装置です。2枚の試料を上下に配置させ、固定基準の上側試料に対して下側の試料をXYZ∂軸方向にアライメントさせる方式です。アライメント顕微鏡には、接眼タイプ、CCDカメラ・モニタ観察タイプ、変倍タイプ、赤外線観察タイプなど各種選択が可能です。顕微鏡焦点深度を越えるギャップでもアライメント可能な画像フリーズシステムも対応できます。試料取付部は各種試料サイズに対応し、フィルム等脆弱な試料に対応するパイレックスガラス製ホルダや陽極接合装置チャンバー内での脱ガスに対応するスペーサー付き試料ホルダも製作可能です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械

実験・研究用マスクアライナー　ES410は、ローコストながらフォトリソグラフイに必要十分な機能を持ったマスクアライナーです。フルマニュアル機で各種実験、研究、フォトリソグラフイの学習などにご使用頂けます。ESシリーズならではの幅広いカスタマイズ性を備え、各種ユニットやオプションを選択することで、さらに目的にフィットした装置にセットアップ可能です。ほとんどのユニットが後から追加・変更できますので将来のグレードアップにも対応致します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

お客様の仕様やご予算にあわせて最適なマスクアライナーをビルドアップ。各種ユニットやオプションの中から必要なものだけを選択することで無駄なコストを抑えた使い易い装置が構成できます。ご要望を伺い、最適な仕様をご提案致します。 またほとんどのユニットが後から追加・交換できますので将来のグレードアップや初期導入コスト削減も可能です。2タイプのUV光源装置から選択できます。（露光サイズ各種）φ1～4インチ試料対応（角形試料等カスタム形状にも対応）し、□2～5インチマスク対応です。また、CCDカメラ、実体、接眼タイプ等各種観察顕微鏡から選択できます。コンパクトでローコストです。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他検査機器・装置

スプレーコーター　立体レジスト塗布装置 DC110/DC210は、はMEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ーです。微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できます。スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール、トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能です。塗布膜厚は、スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応します。AZエレクトロニックマテリアル社AZ－P4000シリーズ、化薬マイクロケム社SU8、KMPRシリーズなどの超厚膜レジストをはじめ、ベンゾシクロブテン樹脂（BCB）、各種ポリマー等に対応します。さらに粘度の高い薬液の塗布も可能です。（薬液特性によります。）必要最小限の面に塗布する為、スピンコーティングのような薬液の無駄がありません。ノズル移動型マルチパス・スキャン方式で大型試料にも対応します。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• コーター

簡易型UVナノインプリント装置　ImpFlex Essentialは、従来のフォトリソグラフィーに比べ、高微細化、低コスト、高スループットで次世代の微細加工技術として注目を集めるナノインプリントリソグラフィー。本装置は上位機種であるImpflexをベースに徹底的なコストダウンを行った低価格モデルの装置です。低価格でありながら低残膜と膜厚均一化を実現するインプリントエンジンは上位継承してい ます。モールド材料は石英、Ni電鋳棟の他の材料もオプションにより使用可能です。光学デバイス、MEMS（NEMS）、光通信デバイス、回折格子、マイクロレンズ、マイクロ流体デバイス、DNA解析用バイオチップ等さまざまな分野でご利用頂ける実験装置です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械
• 業務用プリンタ

マイクロコンタクトプリンター　MP200は次世代のデバイス作製技術として注目を集めるμCP法（Microcontact Printing）に対応する実験・研究支援装置です。μCP法はPDMSスタンプを用いることにより、チオール分子等による自己組織化単分子膜（SAM）をパターニングするだけでなく、有機半導体材料等の機能性材料を従来の印刷法よりも高精細にパターニングできることから、有機エレクトロニクスやナノバイオ素子等の作製技術として研究開発が進められております。MP200では、微細パターン作製時に発生する欠損を、産総研での研究成果をもとにした泡咬み防止機構を採用したことにより大幅に低減いたしました。転写プロセスステージは高精度圧力センサおよびZ軸サーボコントロールでコンタクトスピード、コンタクト圧力、距離、時間をプログラム制御可能です。操作はタッチパネルとジョイスティックを用いて、直感的に使い易い装置となっております。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械
• 業務用プリンタ

『MEMS開発ツール』では、標準片面マスクアライナーや、試料裏面観察アライナーの「マスクアライナー」、UVナノインプリンター・マイクロコンタクトプリンターの「インプリント」、スプレーコーター「コーター」、オンリーワンのローコストマスク作製機「簡易マスク作製機」など多数掲載しています。陽極接合用アライメント装置、赤外線観察アライメント装置、各種張合わせアライメント装置の「仮止め装置」、真空接合装置「陽極接合装置」、簡易マスク作製機「MM605」など多数掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械

『MEMS開発プロセス装置』では、コンパクトな微細露光のスタンダード機「片面マスクアライナー」や、両面プロセスのローコストアシストモデル「正面マスクアライナー」、両面・多面プロセスのスタンダード量産機「両面同時露光マスクアライナー」、自動化・量産化のカスタム対応装置「オートマスクアライナー」、専用露光装置「カスタムマスクアライナー」、カスタム設計対応の「アライメント固定装置」、独自のクランプ機構を用いた「精密アライメントホルダー」、精密転写装置で低残膜・低バブルの「UVナノインプリンター・マイクロコンタクトプリンター」、業界スタンダードの「汎用スプレーコーター」、オンリーワンのローコストマスク作製機「簡易マスク作製機」など多数掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械

株式会社ナノテックは、半導体製造装置（マスクアライナー、スピンナー、デベロッパー、洗浄機）、MEMS（マイクロマシン）の研究開発、各種ツールの開発・製造などをおこなっております。専門分野は、光学関連精密機械（開発設計、機械加工、組立製作、販売）、産業分野は半導体製造装置、精密機械、光学器械MEMS装置、医療器械になります。研究開発支援装置の開発製造承ります。会社案内カタログでは、「精密技術のイノベーション95年史（測英舎(株)前進）」や、「製品開発の歴史」、「会社概要」や「会社沿革」など掲載しています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。

• その他加工機械
• その他半導体製造装置
• 製造受託

汎用マスクアライナーES20シリーズ以外にウェハ両面同時露光タイプや裏面観察式マスクアライナーなど各種ラインアップしております。 フォトリソグラフィ関連装置およびMEMS研究開発支援装置など、お客様の仕様に合わせたカスタム装置開発製作も承っております。

• コーター
• その他半導体製造装置

◆マイクロプリントや露光装置以外の目的でも多方面から採用されています。

• その他半導体製造装置